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[发明专利]基板处理系统-CN202080037700.1有效
发明人：鸟越恒男;畠山雅规;中迂良 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2020-05-20 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：可使基板处理装置省人力、节能、及/或低成本化。具备：传感器，该传感器设置于基板处理装置，检测对象基板处理中的对象物理量；及预测部，该预测部将通过该传感器检测的物理量的时间序列数据或以时间对该物理量的时间序列数据进行微分而得到的时间序列数据输入完成学习的机器学习模型，从而输出作为结束研磨的时刻的研磨终点时刻，该机器学习模型是如下模型：使用将过去的该物理量的时间序列数据或以时间对该过去的物理量的时间序列数据进行微分而得到的时间序列数据作为输入、并将过去的研磨终点时刻作为输出的学习用的数据集进行机器学习。
处理系统

[发明专利]研磨装置-CN202310305749.6在审
发明人：篠崎弘行;铃木佑多;高桥太郎;胜冈诚司;畠山雅规 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2017-09-29 - 公布日： 2023-05-16 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：在将顶环保持于摇臂的端部的方式中，使研磨终点检测的精度提高。一种用于在研磨垫(10)与半导体晶片(16)之间进行研磨的研磨装置，其中，半导体晶片(16)与研磨垫(10)相对地配置，该研磨装置具有：用于保持研磨垫(10)的研磨台(30A)；以及用于保持半导体晶片(16)的顶环(31A)。摆动轴电动机(14)使用于保持顶环(31A)的摇臂(110)摆动。臂力矩检测部(26)对施加于摇臂(110)的臂力矩进行检测。终点检测部(28)基于检测出的臂力矩对表示研磨的结束的研磨终点进行检测。
研磨装置

[发明专利]信息处理装置、信息处理系统、信息处理方法-CN202111445710.1在审
发明人：舞鴫惠治;杉浦哲郎;臼井克明;畠山雅规;本间知佳子;大须贺透;岩崎弘一;林介元 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2018-03-13 - 公布日： 2022-03-08 - 主分类号： F04C28/28 文献下载
摘要：一种信息处理装置、信息处理系统、信息处理方法，信息处理装置具备：读取部，该读取部从存储装置读取对应于运转中的对象真空泵所属群组的共同条件，存储装置按每个设定群组储存属于该设定群组的真空泵的异常数据发生倾向的共同条件；检测部，该检测部从运转中的对象真空泵的状态量数据检测第二异常数据；及比较部，该比较部对读取出的共同条件与检测出的第二异常数据的发生倾向进行比较，比较部在每个对应的时刻对表示异常的容许范围随时间变化的数据与从运转中的真空泵的状态量数据检测出的异常的时间序列数据进行比较。
信息处理装置系统方法

[发明专利]信息处理装置-CN202111445458.4在审
发明人：舞鴫惠治;杉浦哲郎;臼井克明;畠山雅规;本间知佳子;大须贺透;岩崎弘一;林介元 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2018-03-13 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： F04C25/02 文献下载
摘要：一种信息处理装置，具有：决定部，该决定部至少使用一个对象真空泵或其他真空泵的过去的对象状态量，来决定该对象状态量的正常变动范围或正常时间变动行为，所述对象状态量是根据流入真空泵内的气体负荷而变动的状态量；及比较部，该比较部对所述对象真空泵的当前的对象状态量和该正常变动范围或该正常时间变动行为进行比较，并输出比较结果。
信息处理装置

[发明专利]信息处理装置、信息处理方法-CN202111448722.X在审
发明人：舞鴫惠治;杉浦哲郎;臼井克明;畠山雅规;本间知佳子;大须贺透;岩崎弘一;林介元 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2018-03-13 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： F04B51/00 文献下载
摘要：一种信息处理装置及信息处理方法，信息处理装置具有比较部，该比较部参照存储部，对从运转中的真空泵的状态量数据检测出的异常数据的倾向与存储于所述存储部的基准数据进行比较，并输出比较结果，所述存储部存储有使用已故障的真空泵的状态量数据中检测出的异常数据的倾向而决定的用于判定到达故障的可能性的基准数据。
信息处理装置方法

[发明专利]信息处理装置、信息处理系统、信息处理方法、基板处理装置-CN201880004933.4有效
发明人：舞鴫惠治;杉浦哲郎;臼井克明;畠山雅规;本间知佳子;大须贺透;岩崎弘一;林介元 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2018-03-13 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： F04B51/00 文献下载
摘要：本发明具有：决定部，该决定部至少使用一个对象真空泵或其他真空泵的过去的对象状态量，来决定该对象状态量的正常变动范围或正常时间变动行为，所述对象状态量是根据流入真空泵内的气体负荷而变动的状态量；及比较部，该比较部对所述对象真空泵的当前的对象状态量和该正常变动范围或该正常时间变动行为进行比较，并输出比较结果。
信息处理装置系统方法处理

[发明专利]研磨装置以及研磨方法-CN202110238691.9在审
发明人：篠崎弘行;铃木佑多;高桥太郎;胜冈诚司;畠山雅规 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2017-09-29 - 公布日： 2021-06-22 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：在将顶环保持于摇臂的端部的方式中，使研磨终点检测的精度提高。一种用于在研磨垫(10)与半导体晶片(16)之间进行研磨的研磨装置，其中，半导体晶片(16)与研磨垫(10)相对地配置，该研磨装置具有：用于保持研磨垫(10)的研磨台(30A)；以及用于保持半导体晶片(16)的顶环(31A)。摆动轴电动机(14)使用于保持顶环(31A)的摇臂(110)摆动。臂力矩检测部(26)对施加于摇臂(110)的臂力矩进行检测。终点检测部(28)基于检测出的臂力矩对表示研磨的结束的研磨终点进行检测。
研磨装置以及方法

[发明专利]研磨系统以及研磨方法-CN201710908822.3有效
发明人：篠崎弘行;铃木佑多;高桥太郎;胜冈诚司;畠山雅规 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2017-09-29 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：在将顶环保持于摇臂的端部的方式中，使研磨终点检测的精度提高。一种用于在研磨垫(10)与半导体晶片(16)之间进行研磨的研磨装置，其中，半导体晶片(16)与研磨垫(10)相对地配置，该研磨装置具有：用于保持研磨垫(10)的研磨台(30A)；以及用于保持半导体晶片(16)的顶环(31A)。摆动轴电动机(14)使用于保持顶环(31A)的摇臂(110)摆动。臂力矩检测部(26)对施加于摇臂(110)的臂力矩进行检测。终点检测部(28)基于检测出的臂力矩对表示研磨的结束的研磨终点进行检测。
研磨系统以及方法

[发明专利]具备功能性芯片的基板的研磨方法-CN201880057226.1在审
发明人：户川哲二;曾布川拓司;畠山雅规 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2018-08-22 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明为了在适当位置结束研磨而检测研磨的终点位置。根据一个实施方式，提供一种具备功能性芯片的基板的化学机械研磨方法，该方法具有以下步骤：在基板配置功能性芯片的步骤；在所述基板配置终点检测元件的步骤；由绝缘材料对配置有所述功能性芯片及所述终点检测元件的基板进行密封的步骤；研磨所述绝缘材料的步骤；及研磨所述绝缘材料时，依据所述终点检测元件来检测研磨终点的步骤。
具备功能芯片研磨方法

[发明专利]基板的研磨装置-CN201880026550.7在审
发明人：户川哲二;曾布川拓司;畠山雅规 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2018-04-23 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： B24B37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种用于将四边形的基板平坦化的CMP研磨装置。提供一种用于研磨四边形的基板的研磨装置，该研磨装置具有：用于保持四边形的基板的基板保持部，所述基板保持部具有：用于支承基板的四边形的基板支承面；及用于安装止动构件的安装机构，该止动构件配置于所述基板支承面的至少一个角部外侧。
研磨装置基板保持部止动构件基板基板平坦化基板支承面安装机构基板支承支承基板研磨角部配置

[发明专利]检测设备和器件制造方法-CN200610135921.4有效
发明人： 畠山雅规;村上武司;佐竹徹;野路伸治;长滨一郎太;山崎裕一郎 -专利权人：株式会社荏原制作所;株式会社东芝
申请日： 2002-09-10 - 公布日： 2007-04-04 - 主分类号： G01N23/227 文献下载
摘要：本发明公开了一种检测设备，用于检测样本表面的缺陷，所述设备包括：电子枪，用于向保持在真空环境中的样本发射辐射波束，以便从所述样本中辐射出二次电子束；传感器，包括EB－CCD传感器或EB－TDI传感器，用于检测从所述样本中辐射出的二次电子束，所述传感器允许所述二次电子束直接进入所述传感器，并且形成二维图像，所述传感器被设置在所述真空环境中；电子光学系统，用于将所述二次电子束引导到所述传感器；以及用于将信号从所述传感器传送到处理设备中的馈通；其中所述处理设备处理所述信号，以便检测所述样本表面上的缺陷，并且所述处理设备设置在所述真空环境的外部。
检测设备器件制造方法

[发明专利]TDI检测装置、馈通装置、应用这些装置的电子束设备以及应用以电子束设备的半导体器件制造方法-CN02809989.3无效
发明人： 畠山雅规;佐竹彻;村上武司;渡边贤治;野路伸治 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2002-05-14 - 公布日： 2004-08-11 - 主分类号： H04N3/15 文献下载
摘要：包括TDI传感器(64)与馈通装置(50)的电子束设备。馈通装置有插座接触件(54)，将连接到分出不同环境的凸缘(51)上的插针(52)和与之组成对的另一插针(53)互连，此插针(52)、另一插针(53)与插座接触件(54)共组成连接单元且此接触件(54)有弹性件(61)。因而即会设置多个连接单元，也能将连接力保持到可防止传感器破损的水平。插针(53)与其中象素阵列已根据图象投影光学系统的光学特性取自适应组合的TDI传感器(64)连接。此传感器有多个积分级，能将图象投影光学系统视场减至尽可能地小，以可于此视场中将最大可接收畸变设定得较大。此外可将积分级个数确定成使TDI传感器的数据传输率可不减少但不会尽可能地增多插针数。最好可使行的计数数大致等于积分级个数。
tdi 检测装置应用这些电子束设备以及用以半导体器件制造方法

[发明专利]检测设备和器件制造方法-CN02141674.5无效
发明人： 畠山雅规;村上武司;佐竹徹;野路伸治;长滨一郎太;山崎裕一郎 -专利权人：株式会社荏原制作所;株式会社东芝
申请日： 2002-09-10 - 公布日： 2003-04-02 - 主分类号： G01N23/18 文献下载
摘要：一种检测设备，用于检测样本表面上精细几何图形，其中辐射波束照射到不同于大气的差异环境中放置的样本，并利用传感器检测从该样本上射出的二次电子，其中传感器放置在差异环境之内，处理来自传感器检测信号的处理装置放置在差异环境之外，而传输装置发射来自传感器的检测信号到处理装置。
检测设备器件制造方法

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