专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果54个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]深紫外发光元件及其制造方法-CN201880064035.8有效
  • 渡边康弘 - 同和电子科技有限公司
  • 2018-09-28 - 2023-05-09 - H01L33/32
  • 提供一种兼具高的发光输出和优异的可靠性的深紫外发光元件及其制造方法。根据本发明的深紫外发光元件在基板(10)上依次具有n型半导体层(30)、发光层(40)、p型电子阻挡层(60)和p型接触层(70),p型接触层(70)具有超晶格结构,该超晶格结构是通过交替层叠第1层(71)和第2层(72)而得到的,第1层(71)由具有比发光层(40)中发出深紫外光的层的Al组成比w0高的Al组成比x的AlxGa1‑xN构成,第2层(72)由具有比Al组成比x低的Al组成比y的AlyGa1‑yN构成,并且Al组成比w0、Al组成比x、Al组成比y以及p型接触层的厚度平均Al组成比z满足式[1]0.030<z‑w0<0.20和式[2]0.050≤x‑y≤0.47。
  • 深紫发光元件及其制造方法
  • [发明专利]III族氮化物半导体发光元件及其制造方法-CN201880020537.0有效
  • 渡边康弘 - 同和电子科技有限公司
  • 2018-03-23 - 2022-07-19 - H01L33/32
  • 提供一种III族氮化物半导体发光元件及其制造方法,该III族氮化物半导体发光元件提高了比以往更能维持发光输出的可靠性。本发明的III族氮化物半导体发光元件在基板上依次具备n型半导体层、发光层、p型电子阻挡层、由AlxGa1‑xN构成的p型接触层和p侧反射电极,来自所述发光层的中心发光波长为265nm以上且330nm以下,所述p型接触层与所述p侧反射电极接触,并且所述p型接触层的厚度为20nm以上且80nm以下,所述p型接触层的Al组成比x满足下述式(1)。其中,下述式(1)中,λp为所述中心发光波长(nm)。2.09‑0.006×λp≤x≤2.25‑0.006×λp (1)。
  • iii氮化物半导体发光元件及其制造方法
  • [发明专利]第III族氮化物半导体发光器件的制造方法和第III族氮化物半导体发光器件-CN201580066931.4有效
  • 藤田武彦;渡边康弘 - 同和电子科技有限公司
  • 2015-12-07 - 2019-03-26 - H01L33/32
  • 提供兼具高发光输出和长使用寿命的第III族氮化物半导体发光器件的制造方法,和第III族氮化物半导体发光器件。该方法用于制造第III族氮化物半导体发光器件,其依次包括:n型半导体层;具有由包括AlaGa1‑aN(0.3≤a≤0.8)的阱层和包括AlbGa1‑bN(0.4≤b≤0.95)的势垒层组成的量子阱结构的发光层;和p型半导体层。该方法的特征在于:用于形成p型半导体层的步骤涉及电子阻挡层形成步骤,用于在发光层上形成包括AlyGa1‑yN(b<y≤1)的电子阻挡层;和p型接触形成步骤,用于直接在电子阻挡层上形成AlxGa1‑xN(0≤x≤0.1)的p型接触层,其中电子阻挡层形成步骤使用含有氢气作为主成分的载气进行,并且p型接触形成步骤使用含有氮气作为主成分的载气进行。
  • iii氮化物半导体发光器件制造方法
  • [发明专利]第III族氮化物半导体发光器件的制造方法-CN201580067006.3有效
  • 藤田武彦;渡边康弘 - 同和电子科技有限公司
  • 2015-12-08 - 2019-03-08 - H01L33/32
  • 提供改善了器件寿命的第III族氮化物半导体发光器件的制造方法。所述方法用于制造依次包括以下的第III族氮化物半导体发光器件:n型半导体层,包括阱层(所述阱层至少包含Al)和势垒层的具有量子阱结构的发光层40,和p型半导体层150。该方法的特征在于,形成p型半导体层150的步骤包括:电子阻挡层形成步骤,用于在发光层40上形成具有与势垒层42相比更高的Al组成的电子阻挡层51;氮气载气供给步骤,用于向电子阻挡层51的表面上至少供给具有氮气作为主要成分的载气;以及第二p型接触形成步骤,在氮气载气供给步骤之后进行的用于在电子阻挡层51上形成包含AlyGa1‑yN(0≤y≤0.1)的第二p型接触层55,其中第二p型接触形成步骤使用具有氢气作为主要成分的载气来进行。
  • iii氮化物半导体发光器件制造方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top