“渡边和英”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果42个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN201710750724.1有效
发明人：今井正芳;德重克彦;小仓大;渡边和英;国泽淳次;饭泉健;宫崎充 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2017-08-28 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供一种基板处理装置，具备：研磨部，该研磨部使用研磨液来对基板进行研磨；第一清洗部，该第一清洗部使用硫酸及过氧化氢溶液来对由所述研磨部研磨后的基板进行清洗；第二清洗部，该第二清洗部使用碱性的药液及过氧化氢溶液来对由所述第一清洗部清洗了的基板进行清洗；干燥部，该干燥部使由所述第二清洗部清洗后的基板干燥。这样的基板处理装置及基板处理方法能够以较少的工序对研磨后的基板进行充分地清洗。
处理装置方法

[发明专利]基板研磨方法及基板的金属层的去除方法-CN202310514748.2在审
发明人：福永明;渡边和英;小畠严贵;辻村学 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2018-05-02 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： B24B37/005 文献下载
摘要：本发明的目的在于使具有凹凸的基板平坦化。本发明提供一种对基板进行化学机械性研磨的方法，该方法具有：使用处理液来研磨基板的步骤；及变更有助于基板的研磨的所述处理液的有效成分浓度的步骤。
研磨方法金属去除

[发明专利]基板研磨方法-CN201880034573.2有效
发明人：福永明;渡边和英;小畠严贵;辻村学 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2018-05-02 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明的目的在于使具有凹凸的基板平坦化。本发明提供一种对基板进行化学机械性研磨的方法，该方法具有：使用处理液来研磨基板的步骤；及变更有助于基板的研磨的所述处理液的有效成分浓度的步骤。
研磨方法

[发明专利]磁性元件、使用其的涡电流式传感器、研磨装置、研磨方法以及计算机可读取记录介质-CN201811599497.8有效
发明人：高桥太郎;涩江宏明;渡边和英 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2018-12-26 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： G01B7/06 文献下载
摘要：提供一种使形成于被研磨物的磁场更强的磁性元件以及使用该磁性元件的涡电流式传感器。涡电流式传感器具有：作为磁性体的底面部、设于底面部的中央的磁心部、设于底面部的周边部的周壁部。涡电流式传感器另外还具有配置在磁心部的外周，能够产生磁场的励磁线圈；配置于周壁部的外周，能够产生磁场的励磁线圈。
磁性元件使用电流传感器研磨装置方法以及计算机读取记录介质

[发明专利]基板处理装置-CN202210150730.4在审
发明人：铃木佑多;高桥太郎;渡边和英;三木勉 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2022-02-18 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： B24B37/013 文献下载
摘要：本发明提供一种使用声音传感器来高精度地检测基板研磨的终点的基板处理装置。通过将基板按压于研磨垫来进行基板的研磨的基板处理装置具备：研磨声传感器，该研磨声传感器检测伴随基板的研磨的声音现象，并将该声音现象作为声音信号输出；功率谱生成部，该功率谱生成部根据声音信号生成表示声压级的频谱的功率谱；图更新部，该图更新部通过按时间序列排列功率谱而生成表示所述功率谱的时间变化的功率谱图；以及终点判定部，该终点判定部基于功率谱图中的声压级的变化来检测基板的研磨终点。
处理装置

[发明专利]涡旋式压缩机-CN202010811103.1有效
发明人：佐藤创;山下拓马;竹内真实;庆川源太;金井晖裕;渡边和英 -专利权人：三菱重工制冷空调系统株式会社
申请日： 2016-03-16 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： F04C18/02 文献下载
摘要：本发明的涡旋式压缩机具备：固定涡旋盘；回旋涡旋盘；以及排出端口(18)，供通过两个涡旋盘进行了压缩的流体排出，在回旋涡旋盘的端板设有：端板侧台阶部，以高度沿涡旋状涡圈(16B)的涡在其中心部侧高且在外终端侧变低的方式形成，在固定涡旋盘的涡旋状涡圈(15B)设有：壁体侧台阶部，与端板侧台阶部对应，以高度在涡的中心部侧低且在外终端侧变高的方式形成，其中，在隔着固定涡旋盘的中心正对的一对压缩室(17A、17B)中，压力高的腹侧压缩室(17A)比压力低的背侧压缩室(17B)先与排出端口(18)连通。
涡旋式压缩机

[发明专利]研磨头系统、研磨装置及处理系统-CN202110313239.4在审
发明人： 渡边和英;小畠严贵 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2021-03-24 - 公布日： 2021-09-28 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：本发明提供一种可精密控制从固定环等固定部件施加于研磨垫的力的研磨头系统、研磨装置及处理系统。研磨头系统具备：研磨头(7)，其具有：对工件(W)施加按压力的致动器(47)、排列于致动器(47)外侧的固定部件(66)、及连结于固定部件(66)的多个压电元件(72)；及驱动电压施加装置(50)，其对多个压电元件(72)独立地施加电压。
研磨系统装置处理

[发明专利]蚀刻方法-CN202010459633.4有效
发明人：小畠严贵;八木圭太;渡边和英;盐川阳一;丸山彻;高桥信行 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2015-04-17 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：蚀刻方法。本发明是改善使用CARE法的基板处理装置。一种基板处理装置，用于在处理液的存在下使基板与催化剂接触而研磨基板的被处理区域，具备：基板保持部，被构成为保持基板；催化剂保持部，被构成为保持催化剂；以及驱动部，被构成为在基板的被处理区域与催化剂接触的状态下，使基板保持部与催化剂保持部相对移动。催化剂比基板小。
蚀刻方法

[发明专利]马达转子及使用该马达转子的马达以及电动压缩机-CN201580060806.2有效
发明人：余语一朗;渡边和英;吉冈明纪 -专利权人：三菱重工制冷空调系统株式会社
申请日： 2015-10-27 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： H02K1/18 文献下载
摘要：本发明提供一种马达转子(16)，其具备层叠多张电磁钢板而成的圆筒形状的转子铁芯(28)；层叠于转子铁芯(28)的两端部的端板(30、31)及平衡块(32、33)；以及贯穿于转子铁芯(28)、端板(30、31)及平衡块(32、33)并将它们紧固成一体的多根带头铆接销(34)，其中，在铆接销(34)的头部(35)与平衡块(32、33)的支承面之间，介入有比铆接销(34)的材料更硬的材料而成的垫圈(37)或间隔件。由此，无需改变基于铆接销(34)的一体紧固结构，即可提高马达转子(16)的相对于过大的激振力的耐力，从而能够简单地防止紧固强度的下降。
马达转子使用以及电动压缩机

[发明专利]研磨头系统及研磨装置-CN202110042947.9在审
发明人：小畠严贵;安田穗积;矢内昭夫;高桥信行;中村贵正;坂田桂介;高田畅行;八木裕治;高田泰弘;渡边和英 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2021-01-13 - 公布日： 2021-07-20 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：提供一种能够精密控制晶片、基板、面板等工件的膜厚轮廓的研磨头系统。研磨头系统具备：具有将多个按压力施加于工件(W)的多个压电元件(47)的研磨头(7)；及决定应施加于多个压电元件(47)的电压的多个指令值的动作控制部(10)。
研磨系统装置

[发明专利]基板处理装置及基板处理系统-CN202010459673.9有效
发明人：小畠严贵;八木圭太;渡边和英;盐川阳一;丸山彻;高桥信行 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2015-04-17 - 公布日： 2021-07-13 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明是改善使用CARE法的基板处理装置。一种基板处理装置，用于在处理液的存在下使基板与催化剂接触而研磨基板的被处理区域，具备：基板保持部，被构成为保持基板；催化剂保持部，被构成为保持催化剂；以及驱动部，被构成为在基板的被处理区域与催化剂接触的状态下，使基板保持部与催化剂保持部相对移动。催化剂比基板小。
处理装置系统

[发明专利]基板研磨装置、膜厚映射制作方法及基板的研磨方法-CN202011061881.X在审
发明人： 渡边和英;盐川阳一;八木圭太;中村显 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2020-09-30 - 公布日： 2021-04-23 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本发明是基板研磨装置、膜厚映射制作方法及基板的研磨方法。使研磨处理中的膜厚测定高效化。基板研磨装置具备：研磨台，该研磨台构成为能够旋转，且设置有输出与膜厚相关的信号的传感器；研磨头，该研磨头与所述研磨台相对并构成为能够旋转，且能够在与所述研磨台相对的面安装基板；以及控制部，在所述传感器通过所述基板的被研磨面上时，所述控制部从所述传感器取得信号，基于所述信号的分布曲线来确定所述传感器相对于所述基板的轨道，基于所述信号来计算所述轨道上的各点处的所述基板的膜厚，基于针对所述传感器的多个轨道而计算出的各点的膜厚来制作膜厚映射。
研磨装置映射制作方法方法

[发明专利]基板的研磨装置、研磨方法及记录介质-CN201710142830.1有效
发明人：小畠严贵;渡边和英;安田穗积;八木裕治;高桥信行;武田晃一 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2017-03-10 - 公布日： 2021-03-26 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明的技术问题在于提供一种能够提高处理对象物的研磨处理面上的处理精度的研磨装置和研磨方法。提供一种对处理对象物进行研磨处理的方法。该方法具有：一边使尺寸比处理对象物的尺寸小的第一研磨垫与处理对象物接触、一边使处理对象物和第一研磨垫相对运动来进行第一研磨处理的步骤；在第一研磨处理之后、一边使尺寸比处理对象物的尺寸大的第二研磨垫与处理对象物接触、一边使处理对象物和第二研磨垫相对运动来进行第二研磨处理的步骤；以及在进行第一研磨处理之前对处理对象物的研磨处理面的状态进行检测的步骤。
研磨装置方法记录介质

[发明专利]涡电流传感器及研磨装置-CN202010624838.3在审
发明人：阿部敦史;渡边和英;高桥太郎 -专利权人：株式会社荏原制作所
申请日： 2020-07-02 - 公布日： 2021-01-05 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本发明提供一种涡电流传感器和研磨装置，该涡电流传感器比公知技术改善了在晶片的边缘区域检测膜厚精度。用于测定形成于基板的导电性膜的膜厚的涡电流传感器具有：作为磁性体的磁芯(136)，其具有：基部(120)，及分别在基部(120)的第一方向(122)的两端部(186)设于基部(120)的外脚(134)；励磁线圈，其配置于磁芯(136)，用于在导电性膜中形成涡电流；及检测线圈，其配置于磁芯(136)，用于检测形成于导电性膜中的涡电流。基部(120)在第一方向(122)的长度，大于基部(120)在与第一方向(122)实质地正交的第二方向(148)的长度。
电流传感器研磨装置

[发明专利]涡旋流体机械-CN201680007040.6有效
发明人：竹内真实;庆川源太;佐藤创;山下拓马;萩田贵幸;桑原孝幸;藤田胜博;渡边和英 -专利权人：三菱重工制冷空调系统株式会社
申请日： 2016-01-22 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： F04C18/02 文献下载
摘要：将一对固定涡旋盘(15)以及回转涡旋盘(16)中的一方设为仅在旋涡状齿(16B)的沿着齿根面(16D)的旋涡方向的规定位置具备台阶部(16E)的涡旋盘(16)，将另一方设为仅在旋涡状齿(15B)的沿着齿顶面(15C)的旋涡方向的规定位置具备台阶部(15E)的涡旋盘(15)，该固定涡旋盘(15)的端板(15A)的齿根面(15D)被设为两个涡旋盘(15、16)的齿顶间隙设定用的基准面(25)，此外在将回转涡旋盘(16)的旋涡状齿(16B)的齿高设为(L)(Lo、Li)、将固定涡旋盘(15)的旋涡状齿(15B)的齿高设为(l)(lo、li)时，L(Lo、Li)＞l(lo、li)。
涡旋流体机械

1
2
3
下一页»
尾页
共 42 条