专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]监测电路、集成电路、芯片及设备-CN202320647252.8有效
  • 乔飞;王茼 - 清华大学;清华大学天津电子信息研究院
  • 2023-03-27 - 2023-09-22 - G01R31/28
  • 本实用新型涉及芯片检测技术领域,提供一种监测电路、集成电路、芯片及设备,包括解码模块、输出选择模块和多个监测模块,多个监测模块包括时钟监测模块、电流监测模块和电压监测模块,监测模块的输入端与芯片中相应的待监测引脚相连,解码模块接收到目标监测模块对应的第一电信号时,向目标监测模块输出第二电信号以使能目标监测模块对相应的待监测引脚进行监测,以及向输出选择模块的使能端输出第三电信号以使能输出选择模块输出目标监测模块的监测结果信号。如此,解决了现有技术中对芯片进行测试时连线复杂的问题,实现芯片测试效率的提高。
  • 监测电路集成电路芯片设备
  • [发明专利]一种基于LWDM技术的移动前传方法与系统-CN202010431066.1有效
  • 王伟;陈明华;陈帅;管佩祥 - 清华大学天津电子信息研究院
  • 2020-05-20 - 2022-11-25 - H04J14/02
  • 本发明涉及一种基于LWDM技术的移动前传方法,以及一种基于LWDM技术的移动前传系统,采用LWDM技术,实现高速业务的复用和传输,解决了5G前传应用场景的光缆资源不足的问题;LWDM技术的波道主要集中1310nm工作窗口,其良好的色散特性,解决了5G前传高速eCPRI/CPRI信号长距离传输问题。与CWDM技术相比,本发明解决了色散影响传输距离的问题,能传输更远的距离并具有更好的传输性能,同时1310nm波段的LWDM还可以使用SOA进行光放大,从而获得更远传输距离。本发明通过LWDM技术实现高速光信号的复用和传输,其复用比包括并不限于3波复用,6波复用,以及9波复用,其复用的波道及其分配方案可根据需求在LWDM的9个波长中任意选择。
  • 一种基于lwdm技术移动方法系统
  • [实用新型]一种取样压片装置-CN202120609954.8有效
  • 王锐;马晓红;贺新 - 清华大学;清华大学天津电子信息研究院
  • 2021-03-25 - 2021-12-07 - G01N1/28
  • 本申请提供一种取样压片装置,包括取样装置和压片装置两部分;取样装置包括取样装置本体以及安装在取样装置本体内且可进行升降移动的压板;取样装置本体沿压板升降方向上的一侧设有开口,另一侧可拆卸安装有底盖;取样装置本体内且靠近底盖一侧安装有压片,压片上设有用于承接土壤的取样孔;压板上设有通孔,通孔内设有连接杆;连接杆靠近底盖一端安装有第一抵接板,连接杆远离底盖一端安装有第二抵接板;压片装置用于驱动第二抵接板升降移动,使得第一抵接板压缩取样孔内的土壤。本申请提供的一种取样压片装置,结构简单,便于进行取样及压片操作,操作过程不接触压片,有利于减少交叉污染,提高工作效率。
  • 一种取样压片装置
  • [发明专利]利用电子束曝光制备DFB-LD光栅调试样片的方法-CN202010402210.9有效
  • 王岩;曲迪;黄翊东 - 清华大学天津电子信息研究院
  • 2020-05-13 - 2021-05-28 - G03F7/20
  • 本发明公开了一种利用电子束曝光制备DFB‑LD光栅调试样片的方法,属于微电子技术领域,包括:步骤一、在晶片上涂覆电子束胶;步骤二、将晶片进行前烘;步骤三、利用版图设计工具绘制DFB‑LD光栅调试版图;基于目标DFB‑LD光栅版图,在保持芯片单元与目标DFB‑LD光栅版图一致的前提下,DFB‑LD光栅调试版图在平行光栅方向上与目标DFB‑LD光栅版图一致,垂直光栅方向上从芯片单元间光栅对齐排列变化为阶梯状排列,阶梯交错间隔等于光栅沿栅线方向长度;步骤四、对所述晶片依次进行电子束曝光、显定影和坚膜。通过采用上述技术方案,本发明能够提高光栅截面观测样品的观测便利性及制备成功率。
  • 利用电子束曝光制备dfbld光栅调试样片方法

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