专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]光罩局部显影辅助装置-CN202221250468.2有效
  • 王小光;谢庆丰 - 深圳市科利德光电材料股份有限公司
  • 2022-05-23 - 2022-10-04 - G03F1/68
  • 本实用新型实施例提供一种光罩局部显影辅助装置,包括:悬空设置以在下方形成用于供待显影光罩放置及移动的放置区域的承载支架;组装于承载支架上用于供操作人员查找及观察待显影光罩表面的待显影区域的显微镜;组装于承载支架上用于向待显影区域供应显影液的液滴供应器;以及组装于承载支架上用于从显影完成后的待显影区域吸取残留显影液的残液吸取器。本实施例避免通过肉眼直接查找,减小劳动强度,并提高精确度,然后液滴供应器向待显影区域供应显影液,对其进行显影,同时可借助显微镜对待显影区域进行观察,残液吸取器直接将残留的显影液吸附带走,保证光罩显影的有效性。
  • 局部显影辅助装置
  • [实用新型]光罩显影辅助装置-CN202120537755.0有效
  • 谢庆丰 - 深圳市科利德光电材料股份有限公司
  • 2021-03-15 - 2021-10-08 - G03F7/30
  • 本实用新型实施例提供一种光罩显影辅助装置,用于将待显影光罩置于盛装有显影液的显影槽中实施显影,包括设于显影槽侧旁的支撑架、枢接于支撑架上并悬设于显影槽的槽口上方的旋转件以及固定于旋转件上且偏离旋转件的旋转中轴线的夹具,旋转件旋转而带动由夹具夹持固定的待显影光罩在拆装待显影光罩的装配位置和将待显影光罩完全浸没于显影液液面下的显影位置之间来回移动。本实施例通过旋转件借助支撑架悬设于显影槽的槽口上方,夹具固定于旋转件上且偏离旋转件的旋转中轴线,夹具夹持固定待显影光罩后,通过转动旋转件,夹具在旋转件的驱动下在装配位置和显影位置之间来回移动,实施对待显影光罩的显影作业,劳动强度低。
  • 显影辅助装置
  • [发明专利]一种液晶显示器及改善姆拉现象的方法-CN201610645245.9有效
  • 谢庆丰;石孟阳;庄奎乾 - 深圳市科利德光电材料股份有限公司
  • 2016-08-08 - 2019-08-23 - G02F1/13
  • 一种改善姆拉现象的方法,包括:S1、制备匀胶版,且所选择的匀胶版面积应大于产品图案的面积;S2、将图案和匀胶版平放,图案位于匀胶版上方,且图案边界位于匀胶版边界内;S3、旋转并调整图案角度,使图案相互垂直的两边分别与匀胶版的X轴和Y轴之间具有一定的交错角;S4、将产品放于曝光平台上,经过多次曝光;S5、显影,先配置碱性显影液,然后将碱性显影液注入到显影机中,放入待显影的mask,按照规定的时间取出;S6、蚀刻;S7、测量,通过显微镜测量;S8、检验,通过自动光学检查机和光学投影机对姆拉现象进行检验;S9、修补,通过激光修补机对产品进行修补。本申请通过旋转并调整图案的角度,可以干扰到姆拉现象的产生,利于消除姆拉现象。
  • 一种液晶显示器改善现象方法
  • [发明专利]匀胶版制造工艺-CN201410052503.3有效
  • 石孟阳;熊波;庄奎乾;谢庆丰 - 深圳市科利德光电材料股份有限公司
  • 2014-02-14 - 2017-07-14 - G03F1/60
  • 一种匀胶版制造工艺,包括以下步骤抛光,提供所要生产的匀胶版提供相应尺寸的玻璃基板并进行抛光处理,所述抛光处理包括粗抛与精抛两次抛光处理;清洗,清洗时在清洗机的水箱内增加支撑架支撑抛光后的玻璃基板,并将风刀设置于第二段对玻璃基板进行吹干;镀膜,在清洗后的玻璃基板上先镀一层氮化金属膜,然后再镀一层氮化金属膜和一层氧化金属膜;涂胶,在玻璃基板的膜上涂一层光刻胶,所述光刻胶采用采用静止滴胶的方式边旋转边滴胶;以及坚膜,玻璃基板在涂胶后先水平静置再竖立坚膜,在利用常规尺寸匀胶版的制造设备的基础上,通过对各环节工艺参数的改进,生产出非常规的大尺寸的匀胶版,大幅缩减了生产成本。
  • 胶版制造工艺
  • [实用新型]一种显影装置-CN201520292722.9有效
  • 石孟阳;崔兴永;庄奎乾;谢庆丰 - 深圳市科利德光电材料股份有限公司
  • 2015-05-08 - 2015-10-07 - G03F7/30
  • 一种显影装置,包括机架、设置于机架上的液槽以及载台,所述载台用于承载光罩,所述液槽用于向光罩排放显影液,所述液槽在其顶部形成有溢流口供显影液溢出,所述载台与溢流口间隔设置,载台在其朝向溢流口的一侧形成有若干台阶,使用时光罩的两侧分别搭载在溢流口以及载台的其中一台阶上,所述各台阶具有不同的水平高度,不同厚度的光罩搭载在不同高度的台阶使光罩保持水平,结构简单、成本低廉;显影液通过溢流口向外溢流,其流动稳定、时间确定、操作可控,效果稳定;通过载台的台阶对不同规格的光罩形成支撑,保证光罩水平,产品通用性好。
  • 一种显影装置
  • [发明专利]玻璃基板清洗支撑架-CN201310286468.7有效
  • 石孟阳;熊波;庄奎乾;谢庆丰 - 深圳市科利德光电材料股份有限公司
  • 2013-07-09 - 2013-11-27 - B08B11/04
  • 一种玻璃基板清洗支撑架,包括若干固定孔,所述固定孔用于安放待清洗的玻璃基板,所述固定孔内形成有十字交叉的支撑肋使固定孔呈“田”字形,固定孔的每一侧边朝向固定孔内伸出有凸耳,用于支撑待清洗的玻璃基板,本发明玻璃基板清洗支撑架于其固定孔内形成支撑肋与凸耳,对玻璃基板形成支撑与定位,并使玻璃基板的两侧面均处于外露状态,从而可以同时对多个玻璃基板进行双面清洗,快速地将玻璃基板清洗干净,保证最终所形成的显示器件的性能,同时还能有效提升显示器件的生产效率。
  • 玻璃清洗支撑架
  • [发明专利]一种匀胶铬版制造工艺-CN201310104872.8有效
  • 石孟阳;熊波;谢庆丰;庄奎乾 - 深圳市科利德光电材料股份有限公司
  • 2013-03-28 - 2013-08-07 - G03F1/60
  • 本发明匀胶铬版制造工艺包括以下步骤:镀膜,提供玻璃板并在玻璃板上生成氮化铬/氮氧化铬膜层形成铬膜基版;切割,根据所要形成的匀胶铬版的尺寸,切割铬膜基版形成多个小尺寸的铬膜基版;清洗,清洁切割后的小尺寸的铬膜基版,去除表面的灰尘、污渍;涂胶,在清洗后的小尺寸的铬膜基版的氮化铬/氮氧化铬膜层上涂覆光刻胶,由于采用先镀膜后切割的方式,玻璃板数量远小于相对切割后数量,可以利用现有镀膜机快速高效地进行镀膜,而且可利用现有镀膜设备,无需额外改进,成本更低。
  • 一种匀胶铬版制造工艺
  • [发明专利]一种聚酰亚胺的制造方法-CN201110115746.3有效
  • 石孟阳;李世清 - 深圳市科利德光电材料股份有限公司
  • 2011-05-05 - 2012-04-11 - C08G73/10
  • 本发明方法包括:取DMF溶解占总胺摩尔质量百分比为60%-70%的ODA,保持溶液温度稳定为10-25℃;在溶液中至少分二次加入占总酐摩尔质量百分比10%-30%PMDA,每次隔至少2小时;在加入PMDA后,再加入占总胺摩尔质量百分比20%-25%3,5-TEMDA进行反应;在上一步加入3,5-TEMDA至少2小时后加入占总酐质量百分比浓度10%-15%的10FEDA和占总酐摩尔质量百分比浓度5%-15%的PMDA,加后反应间隔至少2小时,再加入TAPOB反应至少2小时,加入占总胺摩尔质量百分比约10%-15%10FEDA进行分子量调制。本发明聚酰亚胺的制造方法反应充分,制能够耐水洗。
  • 一种聚酰亚胺制造方法

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