专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种光刻胶旋涂设备-CN202320107743.3有效
  • 聂树平;王忠诚;王恒;周立早;武学俊 - 合肥晶合集成电路股份有限公司
  • 2023-02-03 - 2023-09-12 - G03F7/16
  • 本实用新型公开了一种光刻胶旋涂设备,属于半导体制造领域,所述设备至少包括:工作腔体,以形成工作腔室;旋转单元,所述旋转单元包括容纳槽,所述容纳槽容纳晶圆;喷胶单元,位于所述晶圆的一侧,且允许所述喷胶单元远离或靠近所述晶圆;以及预烘单元,设置在所述工作腔室内,所述预烘单元和所述喷胶单元位于所述晶圆的同一侧,且所述预烘单元与所述喷胶单元交替移至所述晶圆上。本实用新型提供的一种光刻胶旋涂设备,能够提高光刻胶的覆盖均匀性。
  • 一种光刻胶旋涂设备
  • [实用新型]相移掩模版-CN202320113037.X有效
  • 武学俊 - 合肥晶合集成电路股份有限公司
  • 2023-01-19 - 2023-07-07 - G03F1/34
  • 本实用新型提供了一种相移掩模版,包括:透明基底和掩模图形层,掩模图形层位于透明基底上,其包括若干掩模图形和透光区,相邻两个掩模图形之间为透光区,掩模图形的侧面相对于透明基底的表面倾斜,且相邻两个透光区之间的掩模图形包括边缘部分和中心部分,边缘部分的透光率大于6%且小于或等于20%。本实用新型能够避免出现边峰叠加现象,能够获得良好的光刻胶图形。
  • 相移模版

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