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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]金属薄膜的原子层沉积方法-CN201880047781.6有效
发明人：水谷文一;东慎太郎;竹泽直幸 -专利权人： 株式会社高纯度化学研究所
申请日： 2018-07-13 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C23C16/18 文献下载
摘要：提供通过以有机金属络合物为一种原料的原子层沉积(ALD)来沉积金属薄膜的方法，所述方法不使用有可能失活的等离子体或臭氧等自由基物种。金属薄膜的原子层沉积(ALD)法，具有：向设置有基板的反应室内供给具有芳族阴离子配体和/或烷基配体的有机金属络合物的工序，和向该反应室内供给含有亲电子性的气体和亲核性的气体的混合气体的工序；且等离子体和自由基状态的气体以及含有氧原子的气体实质上均被不使用。
金属薄膜原子沉积方法

[发明专利]双(乙基环戊二烯基)锡、化学蒸镀用原料、含有锡的薄膜的制备方法及锡氧化物薄膜的制备方法-CN202080056425.8在审
发明人：高桥伸尚;水谷文一;东慎太郎 -专利权人： 株式会社高纯度化学研究所
申请日： 2020-07-28 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： C07F17/00 文献下载
摘要：本发明提供以双(乙基环戊二烯基)锡为代表的、即使在低温下也具有高蒸气压的双(烷基环戊二烯基)锡或双(烷基四甲基环戊二烯基)锡，以及以这些有机锡化合物为主成分的化学蒸镀用原料，和利用使用该化学蒸镀用原料的原子层沉积法的含有锡的薄膜的制备方法。化学蒸镀用原料，含有用下述式(1)表示的双(烷基环戊二烯基)锡或双(烷基四甲基环戊二烯基)锡作为主成分。在式(1)中，R1和R2各自独立地表示氢或碳原子数为6以下的烷基，R3和R4各自独立地表示碳原子数为6以下的烷基。或
乙基环戊二烯基化学蒸镀用原料含有薄膜制备方法氧化物

[发明专利]薄膜形成用金属卤化物的固体气化供给系统-CN202080013066.8在审
发明人：斋笃;松本浩 -专利权人： 株式会社高纯度化学研究所
申请日： 2020-02-05 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： C23C16/448 文献下载
摘要：提供能够降低颗粒污染的薄膜形成用金属卤化物的固体气化供给系统。具备用于将薄膜形成用金属卤化物存积且使其蒸发的蒸发原料用容器（100）、与蒸发原料用容器（100）连接的缓冲罐（101），蒸发原料用容器（100）具备具有容器壁的容器主体、盖体、紧固部件、接头部件，容器壁具有由内壁部件及外壁部件构成的二重壁构造，构成为将载气经由二重壁构造之间向容器主体内导入，容器壁由纯度99~99.9999%的铜、纯度99~99.9996%的铝、或纯度99~99.9999%的钛构成，在容器主体、盖体、紧固部件、及接头部件分别施加氟树脂涂层及/或电解研磨。
薄膜形成金属卤化物固体气化供给系统

[发明专利]蒸发原料用容器和使用该蒸发原料用容器的固体气化供给系统-CN202080013070.4在审
发明人：斋笃;松本浩 -专利权人： 株式会社高纯度化学研究所
申请日： 2020-02-05 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： C23C16/448 文献下载
摘要：本发明提供耐腐蚀性优异的蒸发原料用容器。用于贮存薄膜形成用金属卤化物(S)且使其蒸发的蒸发原料用容器(100)，具备：具有容器壁(12)的容器主体(2)、具有载气导入口(16)和混合气体导出口(18)的盖体(4)、固定容器主体(2)和盖体(4)的紧固构件(6)、以及接合构件(8)，容器主体(2)的容器壁(12)由纯度为99～99.9999%的铜、纯度为99～99.9999%的铝、或纯度为99～99.9999%的钛构成，对容器主体(2)、盖体(4)、紧固构件(6)、和接合构件(8)分别施行氟树脂涂层和/或电解抛光。
蒸发原料容器使用固体气化供给系统

[发明专利]双(烷基四甲基环戊二烯基)锌、化学蒸镀用原料和含锌薄膜的制备方法-CN201980058250.1在审
发明人：高桥伸尚;水谷文一 -专利权人： 株式会社高纯度化学研究所
申请日： 2019-11-21 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： C23C16/18 文献下载
摘要：提供：为用于形成含锌薄膜的化学蒸镀用原料，由于在室温下为液体，所以容易处理的、用下述式(1)表示的双(烷基四甲基环戊二烯基)锌(在式(1)中，R1和R2表示碳原子数为3的烷基)，以及含有用下述式(2)表示的双(烷基四甲基环戊二烯基)锌(在式(2)中，R3和R4表示碳原子数为2~5的烷基)的化学蒸镀用原料；和利用化学蒸镀法的含锌薄膜的制备方法。···(1)或(2)。
烷基甲基环戊二烯基化学蒸镀用原料含锌薄膜制备方法

[发明专利]Bi层状结构强电介质薄膜的制造方法-CN97114973.9有效
发明人：宝地户雄幸;门仓秀公;松本政道;有田浩二;吾妻正道;大槻达男 -专利权人：松下电器产业株式会社;株式会社高纯度化学研究所;西梅特里克司有限公司
申请日： 1997-05-14 - 公布日： 2003-07-02 - 主分类号： H01L21/3205 文献下载
摘要：以Bi的有机化合物和金属聚烷氧基化合物的混合物为原料，用CVD等分子沉积法或旋转涂布-烧结法在基板表面形成Bi层状结构的强电介质薄膜的方法。在收容槽1a和1b中分别封入Sr[Ta(OC2H5)6]2和Bi(OC(CH3)2C2H5)3。第1供给系统(1a，16a)保持在150℃，第2供给系统(1b、16b)保持在80℃，通过将载气N2流入第1和第2供给系统，将上述二原料的蒸汽导入成膜室5内。同时，向其导入氧气，在已加热的Si基片8上使上述二蒸汽热分解。
bi 层状结构电介质薄膜制造方法

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