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- [发明专利]摄像装置-CN202310175496.5在审
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薮光纮
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株式会社斯库林集团
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2023-02-27
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2023-09-26
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G01N21/84
- 本发明提供一种摄像装置。在拍摄试样容器的摄像装置中，能将试样容器在预先确定的位置对其配置。摄像装置获得俯视时具有四边形状的板状的试样容器的图像。摄像装置具有载置台(12)、位置基准部件(15)和保持机构(16)。位置基准部件包括相互正交的纵向延伸部(151)和横向延伸部(152)。保持机构具有：旋转板(162)，在水平方向上以板状扩展；及主体部，利用弹簧的弹力使旋转板向周向的前方旋转。旋转板具有前翼部(41)和从前翼部向周向的前方突出的突出部(43)。在旋转板旋转而前翼部与试样容器接触时，试样容器被向横向施力，沿着纵向延伸部。在突出部与试样容器接触时，试样容器被向纵向施力而沿着横向延伸部。
- 摄像装置
- [发明专利]基板处理装置以及基板处理方法-CN202310224692.7在审
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大宅宗明;三林武;森井敬亮
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株式会社斯库林集团
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2023-03-07
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2023-09-26
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G03F7/20
- 本发明提供能够对多个曝光装置进行灵活的搬运的基板处理装置以及基板处理方法。在接口部(20)中配置有多个搬运机械手和多个模块，所述接口部(20)将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部以及进行后工序的处理的后处理部与第一曝光装置(3a)以及第二曝光装置(3b)连接。多个模块的一部分层叠配置。作为通过接口部(20)搬运基板的模式，选择连续处理模式或交替处理模式，所述连续处理模式为将多个基板分别依次搬运至第一曝光装置(3a)以及第二曝光装置(3b)这两者的处理模式，所述交替处理模式为将多个基板交替地搬运至第一曝光装置(3a)或第二曝光装置(3b)的处理模式。在任意一种模式下，多个搬运机械手的访问次数均为4以下。
- 处理装置以及方法
- [发明专利]基板处理装置-CN202310246372.1在审
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濑川悠太;守屋千晶
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株式会社斯库林集团
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2023-03-14
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2023-09-26
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H01L21/67
- 本发明提供一种基板处理装置。提供一种能够以更高的精度降低排气管中的压力变动的技术。基板处理装置具有塔、多个个别排气管、集合排气管、切换部、外部气体导入部以及控制部。塔包括在铅垂方向上排列设置的多个处理单元。切换部对多个个别排气管中的各个个别排气管与集合排气管的连通以及切断进行切换。外部气体导入部具有向集合排气管导入来自外部的外部气体的流路。控制部基于与多个处理单元分别对应的个别导入面积以及切换部的切换状态，控制外部气体导入部的导入面积。与多个处理单元分别对应的个别导入面积根据多个处理单元的各个设置位置而设定。
- 处理装置
- [发明专利]光照射装置以及光照射方法-CN202310280739.1在审
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冈淳一
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株式会社斯库林集团
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2023-03-21
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2023-09-26
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B23K26/00
- 本发明提供一种即使在发生点图案的相位偏移的情况下也能够容易地应对的技术。光照射装置(1)向基材(W)的表面照射光。光照射装置(1)具有：载物台(42)，保持基材；脉冲光源(31)，输出规定周期的脉冲光；至少一个电流扫描器(357)，利用脉冲光在X轴方向上扫描基材(W)的表面；至少一个声光元件(353)，其为能够变更脉冲光的衍射角的元件，通过变更衍射角，使脉冲光在基材(W)上的位置在X轴方向上移动；以及控制部(22)，控制电流扫描器(357)和声光元件(353)。
- 照射装置以及方法
- [发明专利]基板处理装置-CN202310285570.9在审
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根本脩平;正司和大
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株式会社斯库林集团
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2023-03-22
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2023-09-26
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H01L21/67
- 本发明在向旋转的基板供给处理液来处理基板的基板处理技术中，抑制跳回液滴，良好地处理基板。本发明具有设置为能够形成捕集从基板飞散的处理液的液滴的捕集空间，并且绕旋转轴旋转的旋转杯部。该上述旋转杯部具有：下杯，其接受从旋转机构施加的杯驱动力而绕旋转轴旋转；以及上杯，其一边通过连结于下杯而与下杯一体地绕旋转轴旋转，一边捕集在捕集空间飞散的液滴，并且，上杯具有：第一连结部位，其通过位于下杯的上方并在与下杯之间形成间隙，从而使捕集空间和排出空间连通；以及倾斜部位，其从第一连结部位朝向基板的周缘部的上方倾斜地设置，且利用与捕集空间对置的倾斜面捕集液滴。
- 处理装置
- [发明专利]基板处理装置及基板处理方法-CN202310285810.5在审
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根本脩平;正司和大;村元僚
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株式会社斯库林集团
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2023-03-22
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2023-09-26
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H01L21/67
- 本发明提供在密闭空间中利用处理液处理基板的基板处理装置，缩短其生产节拍时间。该发明具备气氛分离机构，其具有固定在处理腔室的顶棚壁附近的上密闭部件和在上密闭部件的下方侧能够沿铅垂方向移动地设置的下密闭部件，且构成为在处理腔室内能够由下密闭部件及上密闭部件包围从被飞散防止机构包围的空间朝向处理腔室的顶棚壁的空间而形成密闭空间。而且，在铅垂方向通过使下密闭部件下降至下密闭部件的上端部与上密闭部件的下端部一致或局部地重叠的下限位置来形成密闭空间。另一方面，通过使下密闭部件上升到比下限位置靠上方的退避位置来形成用于相对于基板保持部搬入搬出基板的搬送空间。
- 处理装置方法
- [发明专利]基板处理装置-CN202310288031.0在审
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根本脩平;正司和大;村元僚
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株式会社斯库林集团
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2023-03-22
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2023-09-26
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H01L21/67
- 本发明提供向旋转的基板供给处理液来处理基板的基板处理装置，其成本低，且抑制跳回液滴，稳定地处理基板。本发明具备：基板保持部，其设置为能够一边吸附并保持基板的下表面中央部，一边绕沿铅垂方向延伸的旋转轴旋转；旋转机构，其输出用于使基板保持部旋转的旋转驱动力；处理机构，其向保持于基板保持部的基板供给处理液来处理基板；以及旋转杯部，其设置为能够包围旋转的基板的外周，并且绕旋转轴旋转，且捕集从基板飞散的处理液的液滴。旋转机构还具有将旋转驱动力的一部分作为杯驱动力传递至旋转杯部的动力传递部，通过旋转驱动力使基板保持部及旋转杯部同时进行旋转。
- 处理装置
- [发明专利]衬底处理装置-CN202310293124.2在审
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中泽和彦;森冈利仁;蒲裕充;太田乔
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株式会社斯库林集团
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2023-03-23
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2023-09-26
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H01L21/67
- 衬底处理装置中，对衬底(9)的下表面(92)与基座部(21)的基座面(210)之间送出气体，形成朝向径向外侧的气流(93)，通过伯努利效应，在衬底(9)与基座部(21)之间的空间产生压力下降。基座面(210)的第2面(212)随着朝向径向外侧而朝向上方。第3面(213)随着从第2面(212)的外周缘朝向径向外侧而朝向下方。第4面(214)是与第3面(213)的下端缘连续的圆环状的面。第4面(214)在比衬底(9)的外周缘更靠径向外侧向径向外侧扩展。由此，能抑制处理液附着到衬底(9)的下表面(92)，且提高衬底(9)的保持的稳定性。
- 衬底处理装置
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