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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]Ag合金溅射靶-CN202080083116.X在审
发明人： 林雄二郎;小见山昌三 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2020-11-27 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：该Ag合金溅射靶的特征在于，由如下组成的Ag合金构成：含有Ge、In及S且剩余部分为Ag及不可避免的杂质，所述Ag合金中的S的含量为1质量ppm以上且150质量ppm以下。所述Ag合金优选在0.1质量％以上且1.5质量％以下的范围内包含In、在0.1质量％以上且7.5质量％以下的范围内包含Ge。
ag 合金溅射

[发明专利]Ag合金膜及Ag合金溅射靶-CN202080082938.6在审
发明人： 林雄二郎;小见山昌三 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2020-11-26 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： C23C14/14 文献下载
摘要：该Ag合金膜由包含In及Ge的Ag合金构成，在表面侧具有浓集有In及Ge的InGe浓集部。所述Ag合金优选含有0.1质量％以上且1.5质量％以下的In和0.1质量％以上且7.5质量％以下的Ge，并且剩余部分由Ag及不可避免的杂质构成。
ag 合金溅射

[发明专利]环戊烷化合物的制备方法、内酯化合物的制备方法、二醇化合物的制备方法和化合物-CN202080061368.2在审
发明人： 林雄二郎;楳洼成祥;须贺友梨奈 -专利权人：国立大学法人东北大学
申请日： 2020-09-28 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： C07C67/347 文献下载
摘要：本发明提供一种环戊烷化合物的制备方法，其能够以非对映选择性地且根据需要以对映选择性地简便地合成分子内具有多个不对称中心的环戊烷化合物。本发明的制备方法为式(III)所示环戊烷化合物的制备方法，包括在含有吡咯烷化合物的催化剂的存在下，浆特定的α,β‑不饱和醛化合物或其顺反异构体、与特定的α,β‑不饱和酮化合物或其顺反异构体进行环化。
戊烷化合物制备方法内酯醇化

[发明专利]Ag合金溅射靶-CN202080036027.X在审
发明人： 林雄二郎;小见山昌三 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2020-10-22 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： A99Z99/00 文献下载
摘要：该Ag合金溅射靶由包含Ge和In的Ag合金构成，且利用舍勒方程式求出的微晶直径为以下。所述Ag合金优选为如下组成：在0.1质量％以上且1.5质量％以下的范围内包含In、在0.1质量％以上且7.5质量％以下的范围内包含Ge，且剩余部分为Ag及不可避免的杂质。
ag 合金溅射

[发明专利]溅射靶-CN202080023096.7在审
发明人： 林雄二郎;近藤佑一;小路雅弘 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2020-03-11 - 公布日： 2021-11-19 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：一种溅射靶，其含有Ge、Sb及Te，该溅射靶中，C含量在0.2原子％以上且10原子％以下的范围内，并且氧含量以质量比计为1000ppm以下，在Ge‑Sb‑Te相(11)中分散有碳粒子(12)，碳粒子(12)的平均粒径在超过0.5μm且5.0μm以下的范围内。
溅射

[发明专利]层叠透明导电膜、层叠布线膜及层叠布线膜的制造方法-CN201780019852.7有效
发明人：中泽弘实;石井博;岁森悠人;斋藤淳;林雄二郎 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2017-03-22 - 公布日： 2021-10-08 - 主分类号： H01B5/14 文献下载
摘要：本发明的层叠透明导电膜具有由Ag或Ag合金构成的Ag膜及配置于所述Ag膜的双面的透明导电氧化物膜，所述透明导电氧化物膜由包含Zn、Ga及Ti的氧化物形成。
层叠透明导电布线制造方法

[发明专利]溅射靶-CN201980085376.8在审
发明人：近藤佑一;林雄二郎;小路雅弘 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2019-10-01 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的溅射靶的特征在于，包含75mol％以上的由Ge、Sb及Te构成的金属互化物，所述金属互化物的微晶直径为以上且以下。本发明的溅射靶也可以包含选自B、C、In、Ag、Si、Sn及S中的一种以上的添加元素，所述添加元素的合计含量为25mol％以下。
溅射

[发明专利]金属膜、以及溅射靶-CN201980076856.8在审
发明人：岁森悠人;野中庄平;小见山昌三;林雄二郎 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2019-12-05 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： C23C14/14 文献下载
摘要：本发明以0.05原子％以上且5.00原子％以下的范围含有In，并且Pd的含量为40质量ppm以下、Pt的含量为20质量ppm以下、Au的含量为20质量ppm以下、Rh的含量为10质量ppm以下、且Pd、Pt、Au及Rh的总含量为50质量ppm以下，剩余部分由Ag与不可避免杂质构成。
金属膜以及溅射

[发明专利]金属膜、以及溅射靶-CN201980077161.1在审
发明人：岁森悠人;野中庄平;小见山昌三;林雄二郎 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2019-12-05 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： C23C14/14 文献下载
摘要：本发明以0.10原子％以上且5.00原子％以下的范围含有Cu，并且Pd的含量为40质量ppm以下、Pt的含量为20质量ppm以下、Au的含量为20质量ppm以下、Rh的含量为10质量ppm以下、且Pd、Pt、Au及Rh的总含量为50质量ppm以下，剩余部分由Ag与不可避免杂质构成。
金属膜以及溅射

[发明专利]金属膜、以及溅射靶-CN201980077191.2在审
发明人：岁森悠人;野中庄平;小见山昌三;林雄二郎 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2019-12-05 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： C23C14/14 文献下载
摘要：本发明中，Pd的含量为40质量ppm以下、Pt的含量为20质量ppm以下、Au的含量为20质量ppm以下、Rh的含量为10质量ppm以下、且Pd、Pt、Au及Rh的总含量为50质量ppm以下，剩余部分由Ag与不可避免杂质构成。
金属膜以及溅射

[发明专利]溅射靶-CN201980061500.7在审
发明人： 林雄二郎;近藤佑一;小路雅弘 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2019-11-20 - 公布日： 2021-04-30 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的溅射靶含有Ge、Sb及Te，并具有氧浓度高的高氧区域(11)和氧浓度低于该高氧区域(11)的低氧区域(12)，且具有低氧区域(12)在高氧区域(11)的基质内以岛状分散的组织。在溅射靶中，直径0.5μm以上且5.0μm以下的空隙也可以以平均密度计在0.12mm2的范围内存在两个以上且十个以下的范围内。
溅射

[发明专利]层叠反射电极膜、层叠反射电极图案及层叠反射电极图案的制造方法-CN201780018466.6有效
发明人：中泽弘实;石井博;岁森悠人;斋藤淳;林雄二郎 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2017-03-22 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： H05B33/26 文献下载
摘要：本发明的层叠反射电极膜具有：Ag膜，由Ag或Ag合金构成；及透明导电氧化物膜，配置于所述Ag膜上，所述透明导电氧化物膜由氧化物构成，所述氧化物包含Zn和Ga，还包含Sn、Y及Ti中的一种或两种以上。
层叠反射电极图案制造方法

[发明专利]Ag合金溅射靶及Ag合金溅射靶的制造方法-CN201980007189.8在审
发明人： 林雄二郎;小见山昌三 -专利权人：三菱综合材料株式会社
申请日： 2019-02-19 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： C23C14/34 文献下载
摘要：本发明的Ag合金溅射靶的特征在于，具有如下组成：在合计0.1质量％以上且1.5质量％以下的范围内包含In及Sn中的至少一种以上，且剩余部分为Ag及不可避免的杂质，在Ar气体压力0.1Pa、电流密度1.5W/cm2、累计电量0.01kWh/cm2的条件下实施溅射后的靶溅射面的算术平均表面粗糙度Ra设为7μm以下。
ag 合金溅射制造方法

[发明专利]制备含五元环化合物的方法-CN201280020527.X有效
发明人： 林雄二郎 -专利权人：小野药品工业株式会社
申请日： 2012-04-27 - 公布日： 2014-01-29 - 主分类号： C07C205/18 文献下载
摘要：本发明提供允许制备立体特异性且不对称的含五元环化合物的方法，所述化合物用作形成前列腺素类等的五元环的合成中间体，所述方法在较短的工序中具有高收率和在非对映异构体选择性和对映异构体选择性方面具有极好的立体选择性且无需麻烦的操作如光学拆分，能够简便地进行制备。所述用于制备含五元环化合物的方法包括在催化剂的存在下，在水不溶性有机溶剂和/或不含氧原子的水溶性有机溶剂中，使由以下化学式(I)表示的α,β-不饱和硝基化合物与1,4-丁二酮化合物缩合和成环的环化步骤，从而制备由以下化学式(II)表示的含五元环化合物，其中所述催化剂由具有吡咯烷环且该环上氮原子的α-位碳有光学活性的化合物形成。
制备含五元环化方法

[发明专利]磷酸奥司他韦的中间体化合物-CN201310123757.5有效
发明人： 林雄二郎;石川勇人 -专利权人：住友化学株式会社
申请日： 2009-05-28 - 公布日： 2013-09-11 - 主分类号： C07C323/61 文献下载
摘要：本发明提供一种能够制备作为医药品安全性高的磷酸奥司他韦制剂且收率较高、适于大量合成的磷酸奥司他韦的中间体化合物。本发明的磷酸奥司他韦的中间体化合物例如是由下述通式（B）表示的化合物。在通式（B）中，R¹¹表示可以具有取代基的碳原子数大于等于1小于等于10的烷基或芳基，R¹³表示可以具有取代基的芳基、杂芳基、环烷基、杂环烷基，环烯基、杂环烯基、烷基、烯基或者炔基，R¹⁴表示羧基、在羧基上结合了保护基的基团、卤化羰基、-C（=O）-N₃、-NCO、-NAc₂或者-NHAc。
磷酸中间体化合物

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