专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [外观设计]眼影盒-CN202330066470.8有效
  • 闵安娜;安贤敏;李载明;韩守进 - 艾丝珀株式会社
  • 2023-02-22 - 2023-08-01 - 28-02
  • 1.本外观设计产品的名称:眼影盒。2.本外观设计产品的用途:用于一种眼影盒。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片:立体图。5.其他需要说明的情形:除了仰视图的中央矩形以外的外壳由透明材料制成。
  • 眼影
  • [发明专利]传送单元及用于处理基板的装置和方法-CN202110076016.0在审
  • 李暎熏;李载明 - 细美事有限公司
  • 2017-05-27 - 2021-06-01 - H01L21/66
  • 公开了传送单元及用于处理基板的装置和方法,尤其是用于对基板进行液体处理的装置和方法。一种用于处理基板的装置包括:液体处理室,其将液体供应到所述基板上以对基板进行液体处理;干燥室,其去除基板上的残留液体;以及传送单元,其将基板在液体处理室和干燥室之间传送,其中所述传送单元包括支撑基板的手构件,以及测量基板上残留液体的重量的重量测量单元。基板上残留液体的重量可以通过在传送基板时测量基板的重量来测量。
  • 传送单元用于处理装置方法
  • [发明专利]传送单元及用于处理基板的装置和方法-CN201710389450.8有效
  • 李暎熏;李载明 - 细美事有限公司
  • 2017-05-27 - 2021-02-09 - H01L21/66
  • 公开了传送单元及用于处理基板的装置和方法,尤其是用于对基板进行液体处理的装置和方法。一种用于处理基板的装置包括:液体处理室,其将液体供应到所述基板上以对基板进行液体处理;干燥室,其去除基板上的残留液体;以及传送单元,其将基板在液体处理室和干燥室之间传送,其中所述传送单元包括支撑基板的手构件,以及测量基板上残留液体的重量的重量测量单元。基板上残留液体的重量可以通过在传送基板时测量基板的重量来测量。
  • 传送单元用于处理装置方法
  • [发明专利]用于处理基板的设备和方法-CN201610792133.6有效
  • 李暎熏;林义相;赵珉晙;李载明 - 细美事有限公司
  • 2016-08-31 - 2020-11-06 - H01L21/67
  • 公开的是一种用于处理基板的方法,其中,超临界流体被供应到装载有基板的腔室中,以处理基板,所述方法包括:供应步骤,将所述超临界流体供应到腔室内直到所述腔室的内部的压力达到预设压力;和所述供应步骤之后的基板处理步骤,在重复将超临界流体供应到腔室内部中以及将超临界流体排出腔室内部之外的过程中执行超临界工艺,其中,在所述供应步骤中供应到腔室的超临界流体的流速是可变的。
  • 用于处理设备方法
  • [发明专利]制造半导体器件的方法-CN201910795188.6在审
  • 姜明昊;李载明 - 三星电子株式会社
  • 2019-08-26 - 2020-06-23 - G03F1/36
  • 提供了如下所述的一种制造半导体器件的方法。生成掩模布局,该掩模布局用于形成包括矩形凹口的多高度单元的目标图案。从掩模布局中检测与矩形凹口相对应的初步矩形掩模图案。多高度单元由在一个方向上布置并彼此连接的标准单元形成,并且矩形凹口设置在两个相邻的标准单元之间。响应于检测到初步矩形掩模图案,将六边形掩模图案放置在初步矩形掩模图案的至少一个短边上,以生成组合掩模图案。组合掩模图案的外边界保留在掩模布局中并且对应于目标图案的矩形凹口。基于组合掩模图案,形成目标掩模和半导体器件。
  • 制造半导体器件方法
  • [外观设计]化妆刷-CN201930472499.X有效
  • 金尹熙;李载明;安贤敏 - 艾丝珀株式会社
  • 2019-08-29 - 2020-03-17 - 04-02
  • 1.本外观设计产品的名称:化妆刷。2.本外观设计产品的用途:用于化妆时涂抹化妆品。3.本外观设计产品的设计要点:在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片:设计1立体图1。5.指定设计1为基本设计。
  • 化妆

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