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[发明专利]一种含光致酸产生剂光敏聚合物及其制备方法-CN202211180931.5有效
发明人：刘斌;权京哲 -专利权人：苏州威迈芯材半导体有限公司
申请日： 2022-09-27 - 公布日： 2023-09-19 - 主分类号： C08F220/18 文献下载
摘要：本发明提供一种含光致酸产生剂光敏聚合物，本发明的含光致酸产生剂光敏聚合物的制备方法，光敏聚合物可以通过包括光酸产生剂来制备为光敏聚合物，其中乙烯基被引入脂环中，从而使将光致酸产生剂在抗蚀剂中的降低不均匀性和浓度，达到改善线边缘粗糙度。
一种含光致酸产生光敏聚合物及其制备方法

[发明专利]一种具有聚集诱导发光效应的感光树脂的制备方法及应用-CN202310500684.0在审
发明人：刘斌;吴邵伟;权京哲;黎瑶;张凌;李为立 -专利权人：苏州威迈芯材半导体有限公司
申请日： 2023-05-06 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： C08G65/332 文献下载
摘要：本发明提供了一种具有聚集诱导发光效应的感光树脂的制备方法及应用，制备方法如下：将带有羧基的四苯基乙烯与烯丙基聚乙二醇混合溶解于有机溶剂中；加入脱水剂到体系中溶解搅拌均匀；反应体系脱除空气后通入氮气，在无水无氧环境下，室温搅拌12～36h；反应结束后过滤，以去除脱水剂产生的副产物，并收集过滤后的产品；将过滤后的产物倒入旋转蒸发仪中，去除体系中残留的有机溶剂，得到感光树脂四苯基乙烯基‑烯丙基聚乙二醇酯。本发明制备工艺简单，反应过程的副产物易于分离去除，引入的刚性基团可以增强体系的抗刻蚀性能以及附着力，本发明的感光树脂用来制备负性光刻胶底部抗反射涂层，在经过固化成膜后，更易于增加显影效果。
一种具有聚集诱导发光效应感光树脂制备方法应用

[发明专利]一种有机硅中间体4-苯甲腈基氧烷基三烷氧基硅烷的制备方法-CN202310297044.4在审
发明人：刘斌;吴绍伟;孙毅;权京哲 -专利权人：苏州威迈芯材半导体有限公司
申请日： 2023-03-24 - 公布日： 2023-07-18 - 主分类号： C07F7/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种有机硅中间体4‑苯甲腈基氧烷基三烷氧基硅烷及其制备方法，制备方法如下：S1：将4‑羟基苯腈、碱性溶液、反应溶剂和卤代烷基烯放入广口瓶中，室温下进行搅拌过夜，旋去反应溶剂和过量的卤代烷基烯，随后加入DCM，处理后后用EA/PE＝0‑5％柱层析纯化，得到4‑(烯烷氧基)苯甲腈；S2：将4‑(烯烷氧基)苯甲腈、三烷氧基硅烷、催化剂和反应溶剂依次加到单口瓶中，在N2保护下搅拌过夜，冷却至室温后用旋转蒸发仪旋干拌样，最后用EA/PE＝0‑5％柱层析纯化得到无色油状产品4‑苯甲腈基氧烷基三烷氧基硅烷4‑苯甲腈基氧烷基三烷氧基硅烷。本发明原料成本低廉，操作简单、提取纯化方便，产品产率较高，得到的产品在金属有机配合物、高分子化合物以及新的有机分子结构修饰方面有着十分重要的应用。
一种有机硅中间体苯甲腈基氧烷基三烷氧基硅烷制备方法