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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]待机端口以及具有待机端口的基板处理装置-CN202310803632.0在审
发明人：郑富荣;金钟翰;张瑛珍;柳镇泽;崔英骏;金大勋;方炳善;禹钟贤;金俙焕;申哲榕;朴贵秀 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2018-12-19 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开为待机端口以及具有该待机端口的基板处理装置。在将处理液供应到基板上之前，待机端口排出当处理液排放到待机端口中时产生的烟雾，从而防止腔室空气污染。
待机端口以及具有处理装置

[发明专利]基板支承单元和具有该基板支承单元的基板处理装置-CN202010575185.4有效
发明人：朴仁煌;朴贵秀;李暎熏;崔永燮;吴承勋;禹钟贤;诸振模 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-06-22 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明涉及基板支承单元和具有该基板支承单元的基板处理装置。一种用于支承基板的装置包括：可转动的旋转头，其支承所述基板；中空轴，其与所述旋转头连接、并将扭矩传递至所述旋转头；喷嘴组件，其设置在所述旋转头的内部空间中从而不旋转，并且将处理液供应到所述基板的背侧；和密封部件，其使用磁性流体密封所述旋转头与所述喷嘴组件之间的间隙。
支承单元具有处理装置

[发明专利]待机端口以及具有待机端口的基板处理装置-CN201811567172.1有效
发明人：郑富荣;金钟翰;张瑛珍;柳镇泽;崔英骏;金大勋;方炳善;禹钟贤;金俙焕;申哲榕;朴贵秀 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2018-12-19 - 公布日： 2023-07-25 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开为待机端口以及具有该待机端口的基板处理装置。在将处理液供应到基板上之前，待机端口排出当处理液排放到待机端口中时产生的烟雾，从而防止腔室空气污染。
待机端口以及具有处理装置

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN201910809061.5有效
发明人：李映一;朴贵秀;吴承勋;崔重奉;金大勋;方炳善 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2019-08-29 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理方法。在一实施例中，基板处理方法包括以下步骤：使基板旋转；以及通过向所述基板的上表面供给工艺流体而形成液膜，在所述基板旋转期间，所述基板上的所述液膜的厚度被调节为设定厚度。
处理方法装置

[发明专利]用于处理基板的装置和用于处理基板的方法-CN202211387473.2在审
发明人： 朴贵秀;崔峻荣;张瑛珍;高镛璿;张奎焕;林俊铉 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-11-07 - 公布日： 2023-05-09 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明构思提供了一种基板处理装置和基板处理的方法。该基板处理装置包括：第一工艺处理单元，该第一工艺处理单元配置为以单一式方法对基板进行处理；第二工艺处理单元，该第二工艺处理单元配置为以批量式方法对基板进行处理；以及姿态改变单元，该姿态改变单元设置在第一工艺处理单元与第二工艺处理单元之间，并且配置为在竖直姿态和水平姿态之间改变基板的姿态，并且其中基板被装载到第一工艺处理单元并从第一工艺处理单元卸载。
用于处理装置方法

[发明专利]处理基板的装置和方法-CN202211236298.7在审
发明人：崔峻荣;高镛璿;林俊铉;朴贵秀;张瑛珍 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-10-10 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本发明提供一种处理基板的装置和方法，该装置包括：加工罐，该加工罐具有容纳空间，在容纳空间中容纳加工液体；以及支承构件，该支承构件用于支承接收空间中竖直姿态的至少一个基板；以及姿态改变机械手，该姿态改变机械手用于将处于浸入液体状态中的状态的基板的姿态从竖直姿态改变为水平姿态；其中姿态改变机械手包括：手部，该手部配置为抓握基板；以及臂，该臂用于移动手部。
处理装置方法

[发明专利]用于处理基板的设备和方法-CN202211193995.9在审
发明人：崔峻荣;朴贵秀;张瑛珍;林俊铉 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-09-28 - 公布日： 2023-03-31 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明构思提供一种基板处理设备。所述基板处理设备包括：处理槽，所述处理槽具有用于容纳处理液的容纳空间；支撑构件，所述支撑构件被配置为在所述容纳空间处以竖直姿势支撑至少一个基板；以及姿势改变机器人，所述姿势改变机器人被配置为将浸渍在所述处理液中的基板的姿势从所述竖直姿势改变为水平姿势，并且其中所述姿势改变机器人包括：主体，所述主体被配置为在其上保持所述基板；以及液体供应构件，所述液体供应构件被配置为将润湿液供应到放置在所述主体上的所述基板。
用于处理设备方法

[发明专利]液体供应单元及用于处理基板的装置和方法-CN202011529351.3在审
发明人：梁承太;崔气勋;郑富荣;朴贵秀 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-12-22 - 公布日： 2021-07-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种用于处理基板的装置，包括：壳体；支撑单元，其在壳体中支撑基板；喷嘴，其将处理液分配到基板上；和液体供应单元，其将处理液供应至喷嘴。液体供应单元包括：容器，其具有储存处理液的储存空间；液体供应管，处理液通过该液体供应管从容器流至喷嘴；和超声波施加构件，其在处理液被供应至喷嘴之前向处理液施加超声波。超声波施加构件包括：储液器，其具有容纳液体的内部空间；和超声发生器，其向容纳在储液器中的液体施加超声波。液体供应管的一部分浸没在容纳于储液器中的液体中。
液体供应单元用于处理装置方法

[发明专利]支承单元、包括支承单元的基板处理设备及基板处理方法-CN202010817359.3在审
发明人：尹嫝燮;吴承勋;崔睿珍;李映一;方炳善;崔重奉;朴贵秀 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-08-14 - 公布日： 2021-02-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明概念提供一种用于支承基板的支承单元。该支承单元包括：支承板，其具有内部空间并且该支承板上放置有基板；加热构件，其设置在内部空间中并且加热放置在该支承板上的基板；隔热板，其设置在内部空间中并且安置在该加热构件的下方；反射板，其设置在内部空间中并且安置在该隔热板的下方；以及散热板，其设置在内部空间中并且安置在该反射板的下方。
支承单元包括处理设备方法

[发明专利]基板处理装置-CN202010700754.3在审
发明人：李茂贤;朴贵秀;方炳善;崔重奉;李映一;尹嫝燮;罗丞殷;崔叡珍;金坰焕 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-07-20 - 公布日： 2021-01-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：用于处理基板的装置包括：处理腔室，在处理腔室中限定有处理空间；用于在处理空间中支撑基板的支撑单元；用于将处理液供应至支撑在支撑单元上的基板的液体供应单元；以及加热单元，其设置在支撑单元中用于加热支撑在支撑单元上的基板，其中加热单元包括：用于加热基板的多个灯；以及设置在灯上方以透射从灯发出的光的窗口，其中该窗口包括：板状的基座；和光调节装置，其形成在基座上以扩散或会聚从灯发出的光。
处理装置

[发明专利]流体供应单元和具有流体供应单元的基板处理装置-CN202010658763.0在审
发明人：朴仁煌;朴贵秀;李暎熏;崔永燮;吴承勋;禹钟贤;诸振模 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-07-09 - 公布日： 2021-01-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供了一种流体供应单元和具有流体供应单元的基板处理装置。一种用于处理基板的装置包括：工艺腔室，其具有用于处理基板的处理空间；流体供应单元，用于向处理空间供应流体，其中，流体供应单元包括：供应管，其连接到处理空间以将流体供应到处理空间；泵，其安装在供应管中以向流体提供流动压力；排气管线，其安装在泵和工艺腔室之间以将流体中的压力排放到外部；安全阀，其安装在排气管线中以打开和关闭排气管线；以及储存器，其安装在泵和分支点之间，排气管线在该分支点从供应管分支，其中储存器具有比供应管的位于泵和分支点之间的部分的截面积大的截面积。
流体供应单元具有处理装置

[发明专利]基板处理装置-CN202010440047.5在审
发明人：吴承勋;金永珍;方炳善;郑富荣;李暎熏;朴贵秀 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-05-22 - 公布日： 2020-12-18 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开的基板处理装置包括：管道，连接储存药液的储罐和排出药液的排出口；文丘里喷嘴，设置于所述管道，并包括将药液向目标物排出的药液排出部；以及第一负压调节阀，在所述管道上设置于所述文丘里喷嘴与所述排出口之间，当所述第一负压调节阀开启时，在所述文丘里喷嘴产生负压而限制从所述药液排出部排出药液。
处理装置

[发明专利]基板处理方法及基板处理装置-CN202010406079.3在审
发明人：梁承太;郑富荣;朴贵秀;李在洪;金昊永;郑允硕 -专利权人：细美事有限公司;首尔大学校产学协力团
申请日： 2020-05-14 - 公布日： 2020-11-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及基板处理方法和基板处理装置。提供了一种用于处理基板的方法。所述方法包括，在所述基板旋转的情况下，将第一处理液供应至所述基板的处理目标表面；和随后，在处于蒸汽状态的蒸发抑制剂存在于供应至所述基板的所述第一处理液的周围的情况下，将具有比所述第一处理液的表面张力低的表面张力的第二处理液供应至所述基板，使得所述基板上的所述第一处理液被所述第二处理液替代。因此，可以在施用到基板的清洁液周围形成蒸汽气氛。因此，可以在清洁液被有机溶剂替代的过程中，防止液膜破坏现象。
处理方法装置

[发明专利]用于处理基板的装置-CN202010703983.0在审
发明人：宋吉勋;崔起龙;崔荣哲;朴贵秀;朴善用 -专利权人：细美事有限公司;三星电子株式会社
申请日： 2015-05-29 - 公布日： 2020-10-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本申请涉及用于处理基板的装置。该装置包括：器皿，提供处理空间；基板支撑单元，设置在器皿中以支撑基板；喷射构件，在基板上喷射处理溶液以清洗基板；及提升单元，根据处理溶液的种类改变器皿的垂直位置，以允许处理溶液流入预定一个收集瓶，器皿具有内侧面，在内侧面上形成有至少一个纹理图案；器皿包括多个收集瓶，收集瓶具有在垂直方向上位于不同水平高度的入口，至少一个纹理图案设置在收集瓶中每一个的内侧面上、被设置成具有线性形状、包括多个纹理图案，其中一些纹理图案被设置成彼此具有相同的深度或者具有至少两种不同的深度；至少一个纹理图案包括多个纹理图案，其中一些纹理图案被设置成以至少两种不同的距离彼此间隔开。
用于处理装置

[发明专利]基板处理装置和基板处理方法-CN202010725079.X在审
发明人：李映一;崔重奉;李昇浩;朴贵秀;宋吉勋;吴承勋;金钟翰 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2018-10-12 - 公布日： 2020-10-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供了一种基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置包括支承构件、处理液喷嘴和控制器，支承构件用于支承基板，处理液喷嘴用于供应处理液至定位在支承构件上的基板，控制器用于控制处理液喷嘴使得在低流量供应段和高流量供应段中将供应至基板的处理液不同地排出，高流量供应段中的每小时平均排出量多于低流量供应段中的每小时平均排出量。
处理装置方法

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