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[发明专利]用于处理基板的设备-CN202210586283.7在审
发明人： 崔睿珍;郑喆焕;金永珍;文钟元 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2022-05-26 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于处理基板的设备。具体地，提供了一种基板处理设备。基板处理设备包括：具有处理空间的处理容器；配置为支承及旋转处理空间中的基板的支承单元；联接至处理容器并配置为排出处理空间内的气流的排气管；独立于支承单元的旋转而提供并定位在处理容器与支承单元之间的支承框架；及突出至支承框架的外部并配置为在向下方向上导引处理空间内的气流的导叶。
用于处理设备

[发明专利]支承单元、包括支承单元的基板处理设备及基板处理方法-CN202010817359.3在审
发明人：尹嫝燮;吴承勋;崔睿珍;李映一;方炳善;崔重奉;朴贵秀 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2020-08-14 - 公布日： 2021-02-23 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明概念提供一种用于支承基板的支承单元。该支承单元包括：支承板，其具有内部空间并且该支承板上放置有基板；加热构件，其设置在内部空间中并且加热放置在该支承板上的基板；隔热板，其设置在内部空间中并且安置在该加热构件的下方；反射板，其设置在内部空间中并且安置在该隔热板的下方；以及散热板，其设置在内部空间中并且安置在该反射板的下方。
支承单元包括处理设备方法