“朴济应”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网_中国专利网

首页在售求购查询申请展会资讯专利榜企服商城升级VIP

立即登录免费注册

在售专利
求购专利
查询专利
新闻资讯
技术展会
招商加盟
专利榜

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247 本网专利代理业务由天津创信方达专利代理事务所(普通合伙)承接机构代码：12247

专利名称

专利名称
专利号码
专利分类
申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

专利下载VIP

公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

钻瓜专利网为您找到相关结果5个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]用于提高组织内的生产率的方法-CN200510084943.8无效
发明人：崔秉一;朴济应;李美梨 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 2005-07-25 - 公布日： 2006-02-22 - 主分类号： G06Q10/00 文献下载
摘要：一种通过在组织的成员之间共享赞扬、鼓励、赞赏和感谢，在组织内提高生产率的方法，其中该方法还对成员提供了虚拟空间，以交换和共享鼓舞消息。
用于提高组织生产率方法

[发明专利]用于半导体器件制备的显影设备及其控制方法-CN97113629.7无效
发明人：金东浩;安雄宽;朴济应;李炳官 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 1997-06-20 - 公布日： 2002-07-10 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：一种用于半导体器件制备的显影设备，包括工作台，装在工作台上并装有适量显影液的容器，装在容器上方、固定已曝光晶片底面的旋转盘，使旋转盘转动的驱动电机，使旋转盘垂直传动以使晶片在容器中上下移动的垂直驱动器，使旋转盘和垂直驱动器转动一定角度以使晶片的图案形成面有选择地转向上或转向下的翻转驱动器，提供适量显影液到容器中的显影液供应器，以及喷洒清洗液到晶片的图案形成面上的清洗液供应器。
用于半导体器件制备显影设备及其控制方法

[发明专利]烷氧基N－羟基烷基链酰胺作为抗蚀剂脱除剂的用途-CN99111965.7无效
发明人：朴东镇;黄震虎;吉俊仍;朴济应;全相文 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 1999-08-05 - 公布日： 2000-02-09 - 主分类号： G03F7/42 文献下载
摘要：本发明公开了一种抗蚀剂脱除剂和一种脱除抗蚀剂的组合物,其具有优异的抗蚀剂和聚合物脱除性能,其不会对底层产生侵蚀,本发明还公开了所述抗蚀剂脱除剂和脱除抗蚀剂的组合物的制备方法和采用所述抗蚀剂脱除剂和脱除抗蚀剂的组合物脱除抗蚀剂的方法。所述抗蚀剂脱除剂包含烷氧基N－羟基烷基链酰胺。所述抗蚀剂脱除组合物,包含烷氧基N－羟基烷基链烷酰胺和至少一种偶极矩为3或大于3的极性材料和一种侵蚀抑制剂以及一种链烷醇胺。在其上具有抗蚀剂的基质与所述的抗蚀剂脱除剂或抗蚀剂脱除组合物可脱除抗蚀剂。
烷氧基羟基烷基链酰胺作为抗蚀剂脱除用途

[发明专利]N链烷醇烷氧基烷酰胺化合物、抗蚀剂脱除剂、用于脱除抗蚀剂的组合物及其制备方法-CN98123846.7无效
发明人：朴东镇;黄震虎;吉俊仍;朴济应;全相文 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 1998-11-05 - 公布日： 2000-02-09 - 主分类号： C07C231/00 文献下载
摘要：一种酰胺化合物、一种抗蚀剂脱除剂、一种抗蚀剂脱除组合物及其制备方法。该化合物为N链烷醇烷氧基烷酰胺,它通过链烷醇胺与烷基烷氧基链烷酸酯反应来制备。所述的抗蚀剂脱除剂含有N链烷醇烷氧基烷酰胺。所述的抗蚀剂脱除组合物含有链烷醇胺与烷基烷氧基链烷酸酯的混合物或浸蚀抑制剂与N链烷醇烷氧基烷酰胺的混合物。该组合物还可含有极性材料。该抗蚀剂脱除剂和组合物对从基材上脱除抗蚀剂和聚合物有极好的能力,而又不浸蚀抗蚀剂下面的层。
链烷醇烷氧基烷酰胺化合物抗蚀剂脱除用于组合及其制备方法

[发明专利]脱除抗蚀剂的方法和设备-CN98123847.5无效
发明人：朴东镇;黄震虎;吉俊仍;朴济应;全相文 -专利权人：三星电子株式会社
申请日： 1998-11-05 - 公布日： 2000-02-09 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：一种抗蚀剂脱除方法和使用这种方法的抗蚀剂脱除设备。抗蚀剂脱除方法包括提供一种基材以及在该基材上形成抗蚀剂。然后将基材与含有N链烷醇烷氧基烷酰胺的抗蚀剂脱除剂接触,以便从基材上脱除抗蚀剂。另一方面,将基材与含有N链烷醇烷氧基烷酰胺和浸蚀抑制剂或者链烷醇胺和烷基烷氧基链烷酸酯的抗蚀剂脱除组合物接触。因为可用简单的方法在短时间内脱除抗蚀剂,以及因为可减小抗蚀剂脱除设备的尺寸,所以可提高半导体元件制造设备的生产率。
脱除抗蚀剂方法设备

1
共 5 条

友情链接：交换友情链接需要网站权重大于4，网站收录10W以上，如符合条件，请联系QQ：76009968。

关于我们寻求报道投稿须知广告合作版权声明网站地图友情链接企业标识联系我们

在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

版权所有钻瓜科技（天津）有限公司津ICP备15000985号津公网安备 12019202000206号http://www.vipzhuanli.com/公布日期

咨询在线客服

咨询在线客服

tel code back_top