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- [发明专利]基板干燥装置-CN202111056537.6在审
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申熙镛
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无尽电子有限公司
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2021-09-09
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2022-03-25
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F26B9/06
- 本发明涉及一种包括基板干燥腔室的基板干燥装置，该基板干燥腔室包括上壳体；下壳体，其联接至上壳体以被打开或关闭；晶片放置板，其联接至下壳体的底表面并且在晶片放置板上放置形成有机溶剂的基板；集成式供应/排出端口，其形成为从下壳体的侧表面延伸至下壳体的中间区域，并且形成为在下壳体的中间区域中面向基板放置板并且提供初始加压用超临界流体的供应路径和其中溶解了形成在基板上的有机溶剂的混合流体的排出路径；以及上供应端口，其形成为在上壳体的中心区域中面向基板放置板以提供干燥用超临界流体的供应路径；和柔性供应/排出管，其联接至下壳体的侧表面以提供初始加压用超临界流体通过其被供应至基板干燥腔室的路径以及混合流体通过其被从基板干燥腔室排出的路径，并具有螺旋线圈形状。
- 干燥装置
- [发明专利]基板干燥室-CN202110725003.1在审
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申熙镛;李泰京;申凤澈;郑胤镇;尹炳文
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无尽电子有限公司
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2021-06-29
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2022-01-28
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F26B9/06
- 本发明提供了一种基板干燥室。基板干燥室包括上部壳体；下部壳体，其联接到所述上部壳体以被打开或关闭；基板放置板，其联接到下部壳体并具有面对上部壳体的上表面，其中中央突出区域和外部区域形成在上部壳体的上表面上；基板支撑件，支撑所述基板并将所述基板与所述基板放置板的所述上表面分开；上部供应端口，提供干燥用超临界流体的供应路径；以及集成的供应和排放端口，提供用于初始加压的超临界流体的供应路径和混合流体的排放路径，其中在混合流体中，在利用通过上部供应端口供应的干燥用超临界流体进行的干燥过程之后，有机溶剂溶解在干燥用超临界流体中。根据本发明，流体干燥过程的处理时间减少了。
- 干燥
- [发明专利]基板干燥室-CN202110565372.9在审
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申熙镛;李泰京;尹炳文
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无尽电子有限公司
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2021-05-24
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2021-12-07
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H01L21/67
- 本发明提供了一种基板干燥室，包括：上部壳体；下部壳体；加热器，嵌入上部壳体和下部壳体中的至少一个；基板放置板，在基板放置板上放置其上残留有机溶剂的基板；上部供应端口，形成在上部壳体的中心区域以面对基板放置板，并提供用于干燥的超临界流体的供应路径；以及集成的供应和排放端口，形成为从下部壳体的侧表面延伸到下部壳体的中心区域并且在下部壳体的中心区域中面对基板放置板，并且提供用于初始加压的超临界流体的供应路径和混合流体的排放路径，其中在所述混合流体中，在通过上部供应端口供应的用于干燥的所述超临界流体进行干燥之后，有机溶剂溶解在用于干燥的超临界流体中。根据本发明，能防止在基板上形成的图案塌陷并且提高超临界干燥效率。
- 干燥
- [发明专利]使用了嵌入旋转卡盘中的光源的基板处理设备-CN202110284008.5在审
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李在圣
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无尽电子有限公司
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2021-03-17
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2021-09-24
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H01L21/67
- 本发明涉及使用了嵌入旋转卡盘中的光源的基板处理设备，包括：支撑基板同时旋转的旋转卡盘；嵌入旋转卡盘而不与其接触的加热模块，其包括向通过旋转卡盘支撑而旋转的基板的下表面发射光的光源单元和其上安装光源单元的光源基板；红外温度测量单元，其安装在光源基板的其上安装光源单元的上表面上，以面向基板的下表面而不与光源单元重叠，并通过红外检测法测量基板温度；与旋转卡盘联接并透射由光源单元朝基板发射的光的透光板；和控制模块，其通过控制由光源单元发射到基板的下表面的光的量控制基板温度，将从红外温度测量单元接收的基板的测量温度与设定临界温度范围比较，并根据基板的测量温度与临界温度范围的比较结果控制光源单元的操作。
- 使用嵌入旋转卡盘中的光源处理设备
- [发明专利]基板干燥室-CN202080007881.3在审
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申熙镛;尹炳文
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无尽电子有限公司
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2020-01-06
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2021-08-17
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H01L21/67
- 本发明涉及一种基板干燥室。本发明包括：上部壳体；下部壳体，其联接到所述上部壳体以被打开或关闭；密封件，其设置在所述下部壳体和所述上部壳体的联接表面之间；基板安装板，其联接到所述下部壳体的所述底表面并且其上安装有基板，有机溶剂形成在基板上；集成的供应/排放端口，其从所述下部壳体中的一侧表面延伸至另一侧表面，并从所述一侧表面和所述另一侧表面之间的中间区域朝向所述基板安装板延伸以便提供用于初始压缩的超临界流体的供应路径和溶解有形成在所述干燥基板上的所述有机溶剂的超临界流体的排放路径；以及上部供应端口，其形成在所述上部壳体的所述中心区域处以面对所述基板安装板以便提供用于干燥的超临界流体的供应路径。
- 干燥
- [发明专利]半导体工艺中的智能图像跟踪系统-CN201980069006.5在审
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裵允晟;裵坰洙;洪光珍;李秀昌;金珉成;李昌雨
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无尽电子有限公司;格林资讯及通信有限公司
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2019-08-23
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2021-06-04
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G06T7/246
- 本发明涉及一种半导体工艺中的智能图像跟踪系统。本发明包括：图像捕获单元，其包括布置在半导体装置的多个点处的相机，以捕获由半导体装置执行的对对象进行的处理过程；装置控制器，其被配置为控制半导体装置的操作并发送作为用于识别对象的信息的对象识别信息、对象的映射到时间信息的位置信息、以及指示半导体装置的当前操作状态的操作状态信息；以及网络图像记录设备，其被配置为执行控制以将相机识别信息添加到从图像捕获单元接收到的图像信息中并将添加有相机识别信息的图像信息存储在图像数据库中，并且被配置为执行控制以将从装置控制器接收到的包括对象识别信息、对象的映射到时间信息的位置信息以及操作状态信息的跟踪信息存储到跟踪数据库中，相机识别信息用于识别捕获图像信息的相机。本发明可以为用户提供支持，使得用户能够跟踪从作为半导体工艺的处理对象的晶片、批量等投入到子装置中直到完成半导体工艺为止的整个过程。
- 半导体工艺中的智能图像跟踪系统
- [发明专利]具有防污染功能的基板干燥装置-CN202010762033.5在审
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李哲洙
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无尽电子有限公司
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2020-07-31
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2021-02-02
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H01L21/67
- 本发明涉及一种具有防污染功能的基板干燥装置，包括：腔室；旋转卡盘；支撑销；第一杯体，其布置在腔室内部，使得第一杯体的上端部位于比由支撑销支撑的基板更高的高度；第二杯体，其布置在第一杯体内部，使得第二杯体的上端部位于比基板更低的高度并且比旋转卡盘的上表面更高的高度；和第三杯体，其布置在第二杯体内部，使得第三杯体的上端部位于比旋转卡盘的下表面更低的高度。根据本发明，通过分开地且双重地构造用于将在基板干燥工序期间由基板和支撑销的旋转所产生的气流分量排放到外部的路径和用于将在基板干燥工序期间由旋转卡盘的旋转所产生的气流分量排放到外部的路径，有效地防止了由在基板干燥工序期间产生的气流引起的基板污染。
- 具有污染功能干燥装置
- [发明专利]基板干燥装置-CN202010690139.9在审
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申熙镛;李泰京;尹炳文
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无尽电子有限公司
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2020-07-17
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2021-01-19
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H01L21/67
- 本发明涉及一种基板干燥装置，包括：腔室；超临界流体产生和储存单元，其产生并储存待供给至腔室内的超临界流体；和超临界流体供给调节单元，其调节储存在超临界流体产生和储存单元中的、待供给至腔室的超临界流体，其中腔室包括：上壳体；下壳体；基板放置板，在其上布置上面形成了有机溶剂的基板；上供给口，其形成为在下壳体的中心区域中面对基板放置板并提供干燥用超临界流体的供给路径；和集成式供给和排放口，其从下壳体的侧表面延伸至中心区域，形成为在下壳体的中心区域中面对基板放置板，并提供初始加压用超临界流体的供给路径以及使用干燥用超临界流体执行干燥后的、其中干燥用超临界流体中溶解了有机溶剂的混合流体的排放路径。
- 干燥装置
- [发明专利]基板干燥腔室-CN202010565901.0在审
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申熙镛;李泰京;尹炳文
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无尽电子有限公司
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2020-06-19
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2020-12-22
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H01L21/67
- 一种基板干燥腔室，包括：基板放置板；上供给口，其提供干燥用超临界流体的供给路径；集成式供给和排出口，其提供初始加压用超临界流体的供给路径以及执行干燥后的、其中干燥用超临界流体中溶解了有机溶剂的混合流体的排出路径；以及加热构件，其加热初始加压用超临界流体和混合流体。根据本发明，可以解决的问题在于：在将初始加压用超临界流体引入腔室内的过程中，由于压力降低所引起的冷却现象，使得超临界流体被液化或汽化而在基板上引起微粒污染；并且可以解决的问题在于：当完成干燥工序排出混合流体时，由于冷却作用使得混合流体相分离，从而在基板上引起微粒污染，或由于混合流体的表面张力而使形成在基板上的图案塌陷。
- 干燥
- [发明专利]基板干燥腔室-CN202010494273.1在审
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申傛湜
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无尽电子有限公司
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2020-06-03
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2020-12-04
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H01L21/67
- 一种基板干燥腔室，包括：上壳体；下壳体；基板放置板，其与下壳体的底表面联接；上供给口，其形成为面对基板放置板并提供用于干燥的超临界流体的供给路径；和集成式供给和排出口，其从下壳体的侧表面延伸至下壳体的中心区域，形成为面对基板放置板，并提供用于初始加压的超临界流体的供给路径以及使用通过上供给口供给的用于干燥的超临界流体执行干燥后的、其中用于干燥的超临界流体中溶解了有机溶剂的混合流体的排出路径。根据本发明，当供给和排出超临界流体时，可以引导对称流以将超临界流体均匀地分散到腔室中以进行供给和排出，从而提高基板的干燥效率，并且当在完成干燥工序后打开腔室时，可以防止颗粒被引入腔室内的基板上。
- 干燥
- [发明专利]基板干燥装置-CN202010501307.5在审
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申熙镛;李泰京;尹炳文
-
无尽电子有限公司
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2020-06-04
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2020-12-04
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H01L21/67
- 本发明涉及一种基板干燥装置，其包括：腔室，其提供用于干燥基板的干燥空间；超临界流体产生及储存单元，其产生并储存被供应到腔室内的干燥空间的超临界流体；以及超临界流体供应调节单元，其安装在超临界流体产生及储存单元与腔室之间的供应管线中并且调节储存在超临界流体产生及储存单元中的、待供应至腔室的超临界流体，其中所述超临界流体供应调节单元包括：确定是否供应储存在超临界流体产生及储存单元中的超临界流体的主开闭阀，调节经过主开闭阀的超临界流体的流量的计量阀，以及安装在主开闭阀和计量阀之间并降低由超临界流体经过主开闭阀而施加在计量阀上的压差的孔口。
- 干燥装置
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