专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]包括与无源元件集成的器件晶片的晶片级封装-CN201110412463.5有效
  • Q·甘;R·沃伦;A·洛比安科;S·梁 - 斯盖沃克斯瑟路申斯公司
  • 2006-03-10 - 2012-03-21 - H01L23/498
  • 根据示例性的实施例,一种晶片级封装包括这样的器件晶片,所述器件晶片包括至少一个器件晶片接触衬垫和器件,并且其中所述至少一个器件晶片接触衬垫被电连接到所述器件。所述晶片级封装包括位于所述器件晶片之上的第一聚合物层。所述晶片级封装包括位于所述第一聚合物层之上并具有第一端子和第二端子的至少一个无源元件。所述至少一个无源元件的第一端子被电连接到所述至少一个器件晶片接触衬垫。所述晶片级封装包括位于所述至少一个无源元件之上的第二聚合物层。所述晶片级封装包括位于所述第二聚合物层之上并被电连接到所述至少一个无源元件的所述第二端子的至少一个聚合物层接触衬垫。
  • 包括无源元件集成器件晶片封装
  • [发明专利]包括与无源元件集成的器件晶片的晶片级封装-CN200680008015.6有效
  • Q·甘;R·沃伦;A·洛比安科;S·梁 - 斯盖沃克斯瑟路申斯公司
  • 2006-03-10 - 2009-07-29 - H01L23/10
  • 根据示例性的实施例,一种晶片级封装包括这样的器件晶片,所述器件晶片包括至少一个器件晶片接触衬垫和器件,并且其中所述至少一个器件晶片接触衬垫被电连接到所述器件。所述晶片级封装包括位于所述器件晶片之上的第一聚合物层。所述晶片级封装包括位于所述第一聚合物层之上并具有第一端子和第二端子的至少一个无源元件。所述至少一个无源元件的第一端子被电连接到所述至少一个器件晶片接触衬垫。所述晶片级封装包括位于所述至少一个无源元件之上的第二聚合物层。所述晶片级封装包括位于所述第二聚合物层之上并被电连接到所述至少一个无源元件的所述第二端子的至少一个聚合物层接触衬垫。
  • 包括无源元件集成器件晶片封装
  • [发明专利]包括具有提高的线性和可制造性的FET的BiFET-CN200480031215.4有效
  • P·J·赞帕尔迪;R·N·皮尔森 - 斯盖沃克斯瑟路申斯公司
  • 2004-10-04 - 2006-11-29 - H01L31/0328
  • 根据一个示例性实施例,一种位于衬底上的BiFET,包括位于所述衬底上方的发射极层部分,其中所述发射极层部分包括第一类型的半导体。所述HBT还包括蚀刻停止层的第一部分,其中所述蚀刻停止层的所述第一部分包括InGaP。所述BiFET还包括位于所述衬底上方的FET,其中所述FET包括源极和漏极区域,其中所述蚀刻停止层的第二部分位于所述源极和漏极区域之下,以及其中所述蚀刻停止层的所述第二部分包括InGaP。所述FET还包括第二类型的半导体层,其位于所述蚀刻停止层的所述第二部分之下。所述蚀刻停止层提高了所述FET的线性,且没有降低所述HBT中的电子电流。
  • 包括具有提高线性制造fetbifet

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