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- [发明专利]一种槽阀装置-CN202211239888.5在审
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李宰卿
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扬州韩思半导体科技有限公司
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2022-10-11
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2022-12-27
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F16K3/18
- 本发明涉及芯片制造中使用的一种槽阀装置,包括由顶板、底板、两侧的侧板和两端的端板围合而成的腔体,腔体两侧设有贯穿腔体的通道一和通道二,腔体内设有可升降的支撑架,支撑架朝向通道二一侧设有阀板,阀板表面设有密封圈,阀板和支撑架之间设有驱动阀板密封通道二的密封气缸,腔体底部设有驱动支撑架升降的升降气缸,顶板安装在腔体顶部,阀板朝向密封气缸一侧设有槽口,密封气缸的活塞杆伸出端设有气缸接头,气缸接头插入槽口内,连接螺钉穿过阀板与气缸接头螺纹连接;支撑架远离阀板一侧的上角部设有斜切面,对应的侧板上设有与斜切面匹配的导向块。该装置应用于晶圆加工中,其密封圈更换方便,同时,其密封良好,使用可靠。
- 一种装置
- [发明专利]一种具有微孔膜蒸发源的真空沉积装置-CN202210796240.1在审
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李宰卿
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扬州韩思半导体科技有限公司
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2022-07-06
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2022-10-14
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C23C14/26
- 本发明公开了一种具有微孔膜蒸发源的真空沉积装置,包括蒸发源、供应单元、源存储单元和外壳,本发明涉及真空沉积技术领域。该具有微孔膜蒸发源的真空沉积装置,通过汽化的汽化源喷射的末端会形成热唇,从而有效防止由于汽化源的冷凝而引起的堵塞,同时能防止由于汽化源凝固而形成的粉末状落到基板上,具有均匀真空沉积到基板的效果,通过调节微孔膜中形成的气孔大小来控制汽化源的扩散速度,并且微孔膜形成的气孔只能通过均匀粒子的汽化源,因此能更有效的均匀真空沉积到基板上,多个直径不同的多数的非导电容器以多段通过结构结合到导电坩埚上,从而延长了汽化源的扩散路径,因此具有均匀真空沉积到基板的效果。
- 一种具有微孔蒸发真空沉积装置
- [发明专利]一种采用电磁波加热的真空成膜装置-CN202210920295.9在审
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李宰卿
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扬州韩思半导体科技有限公司
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2022-08-02
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2022-09-20
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C23C14/24
- 本发明公开了一种采用电磁波加热的真空成膜装置,包括装置本体和反应室,所述装置本体包括外壳,所述外壳的内部设置有坩埚,所述外壳的内部且位于坩埚的外部设置有电磁波加热线圈,所述坩埚的内部设置有源接收单元,并且源接收单元的两侧均固定连接有密封件,所述外壳的一侧设置有冷却构件,并且坩埚的两侧均固定连接有支架,所述源接收单元内部的一侧设置有气体注入单元,并且源接收单元内部的另一侧设置有温度测量单元,本发明涉及真空成膜装置技术领域。该采用电磁波加热的真空成膜装置,使用气相转移沉积法,通过非接触式电磁波加热方法使源得到升华,并在坩埚外部形成的外壳中形成冷却装置,以防止基板的热损坏。
- 一种采用电磁波加热真空装置
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