专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种限域型氢气传感器制备方法-CN202111484534.2有效
  • 胡庆敏;徐甲强;张景韬 - 上海大学
  • 2021-12-07 - 2023-10-20 - G01N27/12
  • 本发明涉及气体传感器技术领域,具体地说是一种限域型氢气传感器制备方法,在CNC上沉积20‑1000个循环的ALD SnO2膜,在CNC上沉积1‑500个循环的NiO,沉积40个循环的NiO,沉积SnO2,制备SnO2外表面限域和SnO2纳米管内表面限域NiO样品,在CNC上沉积NiO,然后沉积ALD‑SnO2,再沉积NiO即可得到SnO2内外表面同时限域NiO,在400‑1200℃下用空气煅烧3小时后形成模板,去除模板接口获得材料,本发明同现有技术相比,NiO和SnO2的协同效应导致了I‑NiSnNCs的漏斗效应,实现了对氢的高传感性能。
  • 一种限域型氢气传感器制备方法
  • [发明专利]一种一体化MEMS氢气传感器制备方法-CN202111485555.6在审
  • 胡庆敏;徐甲强;张景韬;王晨 - 上海大学
  • 2021-12-07 - 2022-03-08 - G01N27/12
  • 本发明涉及气体传感器技术领域,具体地说是一种一体化MEMS氢气传感器制备方法,对MEMS进行清洁和干燥后转移至ALD反应器中,以四(二甲氨基)锡(IV)和水为前驱体沉积SnO2薄膜,控制ALD SnO2在MEMS上沉积的循环次数,获得不同厚度SnO2薄膜,在MEMS沉积150循环的ALD‑SnO2上继续沉积NiO,以二茂镍(NiCp2)和O3为前体,沉积温度270℃,对NiCp2的脉冲、暴露和吹扫,改变MEMS上沉积ALD NiO的循环次数获得不同比例NiO‑SnO2界面位点的敏感材料,本发明同现有技术相比通过原子层沉积精准控制纳米大小或膜厚度,实现高强度、高灵敏和稳定的MEMS传感器制备。
  • 一种一体化mems氢气传感器制备方法

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