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[发明专利]粒子束剂量调节装置及其方法、放射治疗设备-CN202311149029.1在审
发明人：朱昆;颜学庆;盖炜;晏立新;刘彬 -专利权人： 广东省新兴激光等离子体技术研究院
申请日： 2023-09-06 - 公布日： 2023-10-27 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：本申请提供一种粒子束剂量调节装置及其方法、放射治疗设备；所述装置包括内置有中空管状体的主体结构，其中，主体结构的一端连接放射束源，另一端设计为输出端口；中空管状体为粒子束提供传输通道，将粒子束传导至所述输出端口；剂量调节组件，密封连接于输出端口上，用于对输出的粒子束进行剂量调控；放射束源在受控状态下向中空管状体注入设定剂量的粒子束，粒子束通过剂量调节组件进行剂量调控后输出至靶区。该技术方案，降低了对放射治疗设备性能的依赖，减少粒子束对正常组织的伤害，提升放射治疗效果。
粒子束剂量调节装置及其方法放射治疗设备

[发明专利]一种产生可压缩的相干拉曼脉冲光纤激光的系统-CN202310824562.7有效
发明人：朱昆;吴经锋;颜学庆 -专利权人： 广东省新兴激光等离子体技术研究院
申请日： 2023-07-06 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： H01S3/067 文献下载
摘要：本发明公开了一种产生可压缩的相干拉曼脉冲光纤激光的系统，属于激光技术领域，其包括：脉冲激光源、第一泵浦、第一波分复用器/合束器、高反射光纤光栅、第一增益光纤、低反射光纤光栅、隔离器、第二泵浦、第二波分复用器/合束器、第二增益光纤、滤波组件以及脉冲压缩器；在放大级中引入光纤光栅类型的谐振腔，对信号脉冲放大的同时去产生拉曼波长激光，为后续拉曼放大提供相干种子光，最终通过滤波压缩获得超短拉曼脉冲激光。本发明结构紧凑、操作简便、价格实惠，同时可通过级联方式产生高阶拉曼脉冲去扩展波长范围，表现了其普适性和应用潜力。
一种产生可压缩相干脉冲光纤激光系统

[发明专利]免疫放疗治疗设备及其应用方法-CN202310915506.4在审
发明人：朱昆;颜学庆;盖炜;刘彬 -专利权人： 广东省新兴激光等离子体技术研究院
申请日： 2023-07-24 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：本申请提供一种免疫放疗治疗设备及其应用方法，通过设计了包括放射束源、引导部件以及控制系统的免疫放疗治疗设备，将引导部件插入到癌症组织的预定位置，根据癌症组织的病理数据计算剂量率及持续治疗时间，利用控制系统控制放射束源输出设定剂量率的电子束流到引导部件，由引导部件将电子束流导入到癌症组织的预定位置处周围，破坏癌细胞，激发人体免疫系统产生免疫效应对其他部位的癌症组织进行免疫放疗治疗；该技术方案，通过介入到癌症组织可以降低电子束流能量，简化了放射束源设备结构，并且通过病例数据计算精准的剂量率的治疗方式能够提升治疗效果和降低对人体组织伤害，更加有利于免疫放疗技术推广应用。
免疫放疗治疗设备及其应用方法

[发明专利]分析磁铁结构及宽幅离子源-CN202310743138.X在审
发明人：黄维;朱昆;颜学庆;蔡实现 -专利权人： 广东省新兴激光等离子体技术研究院
申请日： 2023-06-21 - 公布日： 2023-08-29 - 主分类号： H01J37/147 文献下载
摘要：本申请涉及一种分析磁铁结构及宽幅离子源，该分析磁铁结构包括：设于离子束束流传输线上的第一永磁体、电磁铁以及第二永磁体；第一永磁体产生第一磁场，所述电磁铁产生电磁场，所述第二永磁体产生第二磁场；第一磁场对离子束产生垂直于参考平面的第一垂直偏转力，偏转后的离子束中射入到电磁场产生参考平面方向上的平面偏转力，偏转后的离子束中入射到第二磁场，产生垂直于参考平面的第二垂直偏转力，偏转后的离子束离开第二磁场进行输出。该技术方案，应用于离子注入机中对离子源输出的宽幅离子束在两种偏转力的作用下进行纯化，降低了宽幅离子源的分析磁铁结构复杂性，简化了离子束拓宽结构，降低对束流传输线的要求。
分析磁铁结构宽幅离子源

[发明专利]具有快速切换时序控制装置的双前端强场激光系统及方法-CN202310750120.2在审
发明人：耿易星;赵研英;颜学庆;李先铎;陈超;杨秀红 -专利权人： 广东省新兴激光等离子体技术研究院
申请日： 2023-06-25 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： H01S3/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种具有快速切换时序控制装置的双前端强场激光系统及方法。本发明采用两个前端放大系统，为高能激光提供一个前端备份，当一个前端放大系统故障时，能够利用另一个前端放大系统，这样保证整个激光系统依然能够继续使用；对于激光脉冲，泵浦也是脉冲的情况下，被放大的激光脉冲与泵浦脉冲之间有一定的时序要求，这就要求泵浦脉冲、被放大的激光脉冲以及激光光路上其他需要与脉冲同步的电子器件都需要时间上同步，这需要通过外部时钟提供时序至这些器件，从而激光才能得到放大，定时系统是这类激光非常重要的系统；本发明采用时序控制激光，使高能放大系统能够快速切换两个前端放大系统。
具有快速切换时序控制装置前端激光系统方法

[发明专利]挂架收发系统及连续镀膜生产线-CN202310907354.3在审
发明人：曹祯烨;杜瀚翔;陈惠君;朱昆;颜学庆;刘玮 -专利权人：等离子体装备科技（广州）有限公司;广东省新兴激光等离子体技术研究院
申请日： 2023-07-24 - 公布日： 2023-08-22 - 主分类号： C23C14/50 文献下载
摘要：本申请涉及一种挂架收发系统及连续镀膜生产线，所述挂架收发系统包括：收发平台，以及至少一个挂架平台；挂架平台在使用时平行于收发平台放置；挂架平台上排列承载多个挂架，收发平台上设有平移平台；平移平台沿着平行方向进行运动，将传动结构对准挂架平台上任意位置处的挂架或者对准基片进出口位置；平移平台上设有传动结构；传动结构将装载未镀膜基片的挂架从挂架平台上取出，并且平移运动至基片进出口位置，将挂架推入镀膜连续线中；以及将装载已镀膜基片的挂架从镀膜连续线中取出，并且平移运动至挂架平台的指定位置，将挂架推入挂架平台中。该技术方案，应用于连续镀膜生产线，能够简化挂架收发结构，降低设备占地面积，降低了设备成本。
挂架收发系统连续镀膜生产线

[发明专利]一种高对比度拍瓦激光装置及其控制方法-CN202310750112.8在审
发明人：赵研英;耿易星;颜学庆;李先铎;杨秀红;陈超 -专利权人： 广东省新兴激光等离子体技术研究院
申请日： 2023-06-25 - 公布日： 2023-08-18 - 主分类号： H01S3/094 文献下载
摘要：本发明公开了一种高对比度拍瓦激光装置及其控制方法。本发明将振荡器的第一腔镜通过第一压电陶瓷安装在镜架，将第二腔镜通过第二压电陶瓷安装在镜架上，对于长时间对激光腔长的锁定，激光腔长的长时间的腔长漂移将超出压电陶瓷量程；第二压电陶瓷能够高精度的同步参量放大器的晶体中泵浦脉冲和种子脉冲的时间，步进电机能够解决泵浦脉冲和种子脉冲长时间漂移问题，当第二压电陶瓷的伸缩量将超过自身极限时，通过步进电机的移动，引入一个较大延时，使第二压电陶瓷上的电压回到中间值；采用基于步进电机的电动平移台对再生腔腔长长时间的腔长漂移进行补偿，实现再生放大器重复频率能够长时间锁定到振荡器重复频率电信号分频后的信号频率上。
一种对比度激光装置及其控制方法

[发明专利]密封件镀膜方法及密封件制备方法-CN202210105144.8有效
发明人：朱昆;颜学庆;曹健辉;刘玮;马伟;杨锐;曹祯烨;陈惠君;杜瀚翔;李冬娜;刘晓兰 -专利权人：等离子体装备科技（广州）有限公司;广东省新兴激光等离子体技术研究院
申请日： 2022-01-27 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本申请涉及一种密封件镀膜方法及密封件制备方法，所述的密封件镀膜方法，包括：对基于成型工艺生产的密封件进行上料；将上料好的密封件放入清洁腔室；在清洁腔室处于真空环境下，利用等离子体对所述密封件的表面进行清洁；在清洁完成后，将所述密封件从所述清洁腔室转移到镀膜腔室；在镀膜腔室处于真空环境下，利用化学气相沉积工艺对所述密封件的镀膜部位表面进行镀膜；该技术方案，能够有效地清除密封件成型过程中残留的有机溶剂等，避免了清洗和烘干耗时长的影响，极大地提高了镀膜效率；而且能够提升薄膜沉积的膜层质量。
密封件镀膜方法制备

[发明专利]电子设备金属外壳的制备工艺及其加工设备-CN202211557368.9在审
发明人：朱昆;洪梁;颜学庆;李冬娜;陈惠君;曹祯烨;杜瀚翔;王利明;刘晓兰;李辉;曹健辉;刘玮 -专利权人：等离子体装备科技（广州）有限公司;广东省新兴激光等离子体技术研究院
申请日： 2022-12-06 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：本申请涉及一种电子设备金属外壳的制备工艺及其加工设备，所述制备工艺包括：将熔融金属液在高压高速下浇铸入外壳模具的压室内铸型，并在高压下结晶凝固成型得到电子设备的金属外壳铸件；将金属外壳铸件放入真空腔室，采用PVD镀膜方式在金属外壳铸件的外表面镀上纯金属膜；从真空腔室中取出已镀膜的金属外壳铸件，对金属外壳铸件上的纯金属膜进行阳极氧化形成金属氧化膜层；该技术方案，利用压铸替代高成本的CNC技术，通过PVD镀膜代替污染严重的电镀技术，遮盖了压铸过程的偏析问题，通过阳极氧化形成耐磨和高质量的氧化膜层，在减少了环境污染和降低制备成本的前提下，制备出具有更高品质的电子设备金属外壳。
电子设备金属外壳制备工艺及其加工设备

[发明专利]肿瘤放射治疗设备及其控制方法-CN202211694640.8有效
发明人：朱昆;颜学庆;盖炜;刘彬 -专利权人： 广东省新兴激光等离子体技术研究院
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： A61N5/10 文献下载
摘要：本申请涉及一种肿瘤放射治疗设备及其控制方法，所述设备包括：激光器，电子加速腔室；其中，电子加速腔室的首端连接激光器，电子加速腔室设置为真空状态；激光器向电子加速腔室输入激光光束，激光光束在电子加速腔室内与导入的气体靶相互作用，在靠近肿瘤部位产生准直的高能电子束；高能电子束快速运动至电子加速腔室的末端，电子加速腔室的末端插入到肿瘤部位，作用于肿瘤部位；该技术方案，在肿瘤部位处或附近位置产生准直的高能电子束，降低了激光器设备要求条件，从而极大地降低了设备成本，而且所产生的高能电子束能够满足闪疗的要求，减少治疗次数，降低治疗周期。
肿瘤放射治疗设备及其控制方法

[发明专利]一种激光加速质子束流均匀化方法及装置-CN202210079897.6有效
发明人：王科栋;朱昆;颜学庆 -专利权人：北京大学;广东省新兴激光等离子体技术研究院
申请日： 2022-01-24 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： H05H7/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光加速质子束流均匀化方法及装置。本发明的束流均匀化传输线采用四极磁铁和高阶磁铁的组合，对质子束流X方向和Y方向进行束流均匀化操，质子束流横截面逐渐变为均匀分布的矩形束流；本发明方法摒弃了传统治癌加速器使用连续扫描叠加剂量的控制方法，而是将原本的高斯分布束团优化为相对规则且粒子分布均匀的矩形，矩形束斑应用使扫描叠加的照射面积覆盖病灶且无重叠；能够将激光产生的粒子得到最大化的利用率并转化为更易操控的矩形束流，以便于在治疗过程中进行步距扫描，确保被照射病灶能够收到均匀且可控的剂量照射；本发明采用高阶磁铁完成对激光驱动质子束流均匀性的优化，推进激光驱动质子治疗装置项目。
一种激光加速质子均匀方法装置

[发明专利]离子分离器、离子同轴传输束线及离子束加速器-CN202211631489.3在审
发明人：朱昆;颜学庆;蔡实现;黄维 -专利权人： 广东省新兴激光等离子体技术研究院
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： G21K1/087 文献下载
摘要：本申请涉及一种离子分离器、离子同轴传输束线及离子束加速器，所述离子同轴传输束线包括离子分离器和离子合束器；其中，离子分离器包括同轴连接的第一电磁场结构和第二电磁场结构；离子合束器包括串联连接的第三电磁场结构和第四电磁场结构；离子分离器用于将不同离子束进行分离成多个同轴平行传输的离子束流；离子合束器用于通过将所述同轴平行传输的离子束流合并成同轴传输的离子束流。本申请的技术方案，具有束线长度短，体积小巧灵活的特点，可以有效分离不同类型的离子束流，过滤不需要的离子，并实现多种离子束合并到一条束流线上，同时同轴加速性能。
离子分离器同轴传输离子束加速器

[发明专利]引出带状离子束的离子源-CN202211634819.4在审
发明人：朱昆;颜学庆;蔡实现;黄维 -专利权人： 广东省新兴激光等离子体技术研究院
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-01-31 - 主分类号： H05H1/46 文献下载
摘要：本申请涉及一种引出带状离子束的离子源，包括长方体结构的弧腔以及设于弧腔外部的磁场结构；弧腔的第一侧面上设有微波窗和进气口，微波窗用于向弧腔内导入微波能量，进气口用于向弧腔内部通入气体；弧腔的第二侧面上设有引出带状束离子的引出极，用于从弧腔内引出带状离子束；其中第二侧面是与第一侧面相对的侧面；磁场结构沿着弧腔长度方向设置，用于在弧腔内产生设定磁场强度且沿着弧腔长度方向平行延伸的共振面；气体进入弧腔后，在磁场结构产生的强磁场和微波窗导入的微波能量作用下达到电子回旋共振状态产生等离子体，并将离子从引出极引出；该技术方案，引出大宽度的带状离子束，解决了当前离子源的状离子束流宽度受限问题。
引出带状离子束离子源

[发明专利]一种激光打靶防溅射装置及方法-CN202210987946.6在审
发明人：陈讯;赵家瑞;马文君;高营;颜学庆 -专利权人：北京大学;广东省新兴激光等离子体技术研究院
申请日： 2022-08-17 - 公布日： 2022-11-08 - 主分类号： B23K26/70 文献下载
摘要：本发明公开了一种激光打靶防溅射装置及方法，该装置设置在聚焦镜与靶之间，包括可旋转的转轮，在转轮非中心位置设置有打靶孔，激光打靶时，打靶孔位于激光光路上，使得激光穿过转轮，轰击靶；激光打靶后，转轮旋转使得打靶孔转离激光光路，打靶产生的飞溅物被转轮阻挡。本发明公开的激光打靶防溅射装置及方法，能够有效的阻挡激光打靶产生的飞溅物，避免飞溅物对聚焦镜、反射镜等光学元件造成损坏。
一种激光打靶溅射装置方法

[发明专利]镀膜材料存放装置、真空镀膜设备及真空镀膜方法-CN202111639074.6有效
发明人：刘玮;朱昆;曹健辉;陈惠君;颜学庆;刘晓兰 -专利权人： 广东省新兴激光等离子体技术研究院;等离子体装备科技（广州）有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2022-11-04 - 主分类号： C23C14/56 文献下载
摘要：本申请涉及一种镀膜材料存放装置、真空镀膜设备及真空镀膜方法，所述镀膜材料存放装置包括：连接真空腔室的密封腔室，用于放置真空镀膜设备镀膜使用的镀膜材料；设于密封腔室与真空腔室接合处的真空阀门，用于连通或者分隔密封腔室与真空腔室；连接真空阀门的驱动装置，用于驱动打开或者关闭真空阀门；连接驱动装置的控制装置，用于控制驱动装置在镀膜过程中打开真空阀门，在镀膜后关闭真空阀门，对密封腔室内的镀膜材料进行密封保护；该技术方案，避免了密封腔室内的镀膜材料与空气接触发生反应或者被吸附污染，保证了镀膜材料的纯度，使得在镀膜过程中，无需频繁清洁镀膜材料，提高了镀膜效率，也提升了镀膜效果。
镀膜材料存放装置真空镀膜设备方法

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