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- [发明专利]高浪涌玻璃钝化芯片-CN201510737894.7有效
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万奎;宣玉龙
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常州星海电子有限公司
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2015-11-03
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2016-03-09
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H01L21/306
- 本发明属于片式半导体器件技术领域,具体涉及高浪涌玻璃钝化芯片,包括硅片、硅片的P层、N层以及P层上的玻璃钝化层,P层设有烧结玻璃钝化层的沟道,硅片还设有硼结层,其特征在于:所述的沟道开沟深度为110-135um,沟道宽度为8mil,沟道开沟深度比硼结深度多20um,减小沟道宽度、减小腐蚀深度,以减小侧面腐蚀来实现增大芯片面积,提高抗浪涌能力,调整腐蚀沟道的时间以及调整玻璃钝化层的烧结工艺提高芯片反向恢复时间,正向压降减小,进一步提高芯片抗浪涌能力。
- 浪涌玻璃钝化芯片
- [实用新型]一种超薄大功率整流桥式二极管-CN201520737184.X有效
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万奎;钟俊
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常州星海电子有限公司
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2015-09-22
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2016-03-02
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H01L25/07
- 本实用新型属于二极管技术领域,具体涉及一种超薄大功率整流桥式二极管,包括铜质底料片、底料片上的四只芯粒以及封装本体,二极管总厚度为1.15±0.05mm,底料片上设有镂空结构的封装区域,封装区域两端设有焊接芯粒的载料平台,四只芯粒分别焊接在载料平台上,芯粒上均设有桥片,桥片一端焊接在芯粒上部,桥片另一端焊接在与该芯粒相对一端设置的焊接台上,底料片的厚度为0.30mm,桥片的厚度为0.20mm,桥片完全封装于封装本体内,载料平台底端面与封装本体底端面平齐形成漏铜结构,为超薄的平脚表面贴装型结构,采用水平设置的4桥片搭桥CLIP结构,大大减小应力,减小二极管厚度,底料片外漏,提高散热效果,热稳定性好,整流效率较高。
- 一种超薄大功率整流二极管
- [实用新型]一种片式二极管-CN201320850623.9有效
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何永成;王克文
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常州星海电子有限公司
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2013-12-20
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2014-09-10
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H01L23/488
- 本实用新型涉及一种片式二极管,包括本体、左框架条、右框架条以及芯片,左框架条分为左引线段、左过渡段以及左焊接段三部分,左引线段与左焊接段通过左过渡段平滑过渡,右框架条包括右引线段、右过渡段以及右焊接段,右引线段与右焊接段通过右过渡段平滑过渡,右焊接段上表面设有焊锡,芯片下表面通过焊锡与右焊接段固定连接,芯片上表面设有焊锡,左焊接段通过焊锡与芯片固定连接,左过渡段、左焊接段、右过渡段、右焊接段以及芯片均固定在本体内,左引线段从本体内延伸到本体外,右引线段从本体内延伸到本体外,左引线段的下表面以及右引线段的下表面均与本体的下表面在同一平面。本实用新型厚度薄、成本低且散热性好。
- 一种二极管
- [实用新型]框架条料片-CN201320848890.2有效
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何永成;刘伟
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常州星海电子有限公司
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2013-12-20
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2014-06-18
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H01L21/683
- 本实用新型涉及一种框架条料片,包括料片本体,还包括设置在料片本体上的多组框架条对,所述框架条对由第一框架条和第二框架条组成,所述第一框架条分为第一低位段、第一上升段以及第一高位段,所述第一低位段与第一高位段通过第一上升段平滑过渡,所述第一低位段与料片本体固定连接,所述第二框架条分为第二低位段、第二上升段以及第二高位段,所述第二低位段与第二高位段通过第二上升段平滑过渡,所述第二低位段与料片本体连接。采用上述结构后本实用新型在生产桥片式平脚二极管的生产流程中提供二极管所需的框架条,且能精确定位,对于料片受到的应力也能有很好的缓冲。
- 框架条料片
- [发明专利]低压降高反压快恢复二极管工艺控制方法-CN201310697435.1有效
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何永成;黄小锋
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常州星海电子有限公司
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2013-12-18
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2014-04-23
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H01L21/329
- 本发明创造涉及二极管的制造工艺,特别指低压降高反压快恢复二极管工艺控制方法。所述的方法包括:1.在反向击穿电压、反向恢复时间、正向压降三个电性参数中,调整反向击穿电压至1200V以上,并保证正向压降不超过960mV,2.反向击穿电压与正向压降达到要求后,调整反向恢复时间,观察正向压降的变化,挑选正向压降符合要求的二极管,测试对应的反向恢复时间,并作为电性参数调整的目标值,3.电性参数调整过程,根据GPP芯片上反向恢复时间的分布状况,对控制参数进行调整,满足三个电性参数的GPP芯粒比例达到最大值,并将该参数作为批量生产的控制参数。利用该方法能制得正向压降1150mV以下,反向恢复时间125ns以下,反向击穿电压1200V以上的快恢复二极管,提高制造效率。
- 低压降高反压快恢复二极管工艺控制方法
- [发明专利]一种制备GaP薄膜材料的方法-CN201210552003.7有效
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刘兴泉;张铭菊
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常州星海电子有限公司
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2012-12-19
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2013-06-26
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C23C14/06
- 本发明公开了一种制备GaP薄膜材料的方法,以Ga2O3,P2O5以及还原萃取剂为原料,加入与固体原料质量50%~100%相当的无水乙醇,研磨均匀后,用10~15MPa的压力将其压成厚度为1~10mm的片材,然后将其放置于反应器刚玉坩埚中,用高纯氮气抽真空,置换到氧气浓度为ppm级,然后再用混合气体抽真空置换1~2次,抽真空至7~13Pa,控制升温速度在5~10℃/min范围内,反应区加热升温至1200℃~1250℃范围内,沉积区加热升温至600℃~800℃范围内,恒温3~4h,其间保持真空度不小于-0.08MPa;当反应区温度达到预定温度后,自然降温至室温,充入混合气体至常压后,即得到棕红色的GaP薄膜,本发明使用的原料简单,价廉易得,且均为固体或无毒气体,对环境无污染,对操作人员无安全威胁。
- 一种制备gap薄膜材料方法
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