“濑下武广”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果12个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]固化性树脂组合物、其固化物、固化膜的制造方法、及微透镜的制造方法-CN202111573798.5在审
发明人： 濑下武广;矶部信吾;清水贵裕;井上朋之 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2021-12-21 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及固化性树脂组合物、其固化物、固化膜的制造方法、及微透镜的制造方法。例如，提供即使在含有含氮化合物(其包含具有孤对电子的氮原子)的层上也显示优异的固化性、并且适用期长的固化性树脂组合物、其固化物、使用该固化性树脂组合物的固化膜的制造方法、及使用该固化性树脂组合物的微透镜的制造方法。本发明涉及的固化性树脂组合物含有树脂(A)、热产酸剂(B)和溶剂(S)，上述树脂(A)包括：具有酚式羟基被酸解离性基团保护的化学结构的结构单元及具有羧基被酸解离性基团保护的化学结构的结构单元中的至少一者；和，具有环氧基的结构单元。
固化树脂组合制造方法透镜

[发明专利]波长转换膜、波长转换膜形成用组合物、及含团簇的量子点的制造方法-CN202080051756.2在审
发明人：廖日淳;濑下武广;野田国宏 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2020-07-10 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： C09K11/02 文献下载
摘要：本发明提供显示高的光密度的波长转换膜、适合用于该波长转换膜的形成的波长转换膜形成用组合物、和能够合适地应用于上述的波长转换膜及波长转换膜形成用组合物的含团簇的量子点的制造方法。关于将蓝色光转换为红色光或绿色光的、包含量子点的波长转换膜，使波长转换膜的波长450nm处的光线透过率为40％以下，在波长转换后的光线的色相为红色的情况下，使波长转换膜的波长650nm处的光线透过率为90％以上，在波长转换后的光线的色相为绿色的情况下，使波长转换膜的波长550nm处的光线透过率为90％以上。
波长转换形成组合含团簇量子制造方法

[发明专利]固体摄像器件的制造方法、层叠体、及干膜-CN202110836270.6在审
发明人： 濑下武广;井上朋之 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2021-07-23 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H01L27/146 文献下载
摘要：本发明涉及固体摄像器件的制造方法、层叠体、及干膜。本发明的课题在于提供能够容易地制造小型固体摄像器件的固体摄像器件的制造方法、和能够在前述的固体摄像器件的制造方法中合适地使用的层叠体、及干膜。本发明的解决手段为：在具备光电转换层的第1层叠体上贴合由支撑层和作为近红外吸收层的前体层的粘接层形成的第2层叠体，接着，使粘接层固化而制成近红外吸收层。作为近红外吸收化合物，优选为选自由方酸鎓化合物、二亚铵化合物、菁化合物、酞菁化合物、及铜配合物组成的组中的1种以上。
固体摄像器件制造方法层叠

[发明专利]固化性组合物、固化物、近红外线吸收滤光器及其制造方法-CN202110054998.3在审
发明人： 濑下武广;井上朋之 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2021-01-15 - 公布日： 2021-09-03 - 主分类号： C09D133/10 文献下载
摘要：本发明的课题在于提供近红外线吸收剂的溶剂溶解性及低温稳定性优异的固化性组合物、使用了该固化性组合物的固化物及近红外线吸收滤光器、该固化物的制造方法及近红外线吸收滤光器的制造方法、前述的固化性组合物的低温保存方法及固化性组合物的运送方法、和固化性组合物的提供方法。本发明的解决手段为一种固化性组合物，其包含热固性材料(A)、近红外线吸收染料(B)、和溶剂(S)，近红外线吸收染料(B)具有＞N+＝表示的部分结构，溶剂(S)包含汉森溶解度参数的极性项δp为12(MPa0.5)以上的溶剂(S1)，溶剂(S1)的质量相对于近红外线吸收染料(B)的质量之比为30以上。
固化组合红外线吸收滤光及其制造方法

[发明专利]滤色器的制造方法、滤色器、及树脂组合物-CN202010834489.8在审
发明人： 濑下武广;武内弘明;井上朋之 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2020-08-18 - 公布日： 2021-02-23 - 主分类号： G02B5/22 文献下载
摘要：本发明涉及滤色器的制造方法、滤色器、及树脂组合物。本发明的课题在于提供无需使用氟树脂作为隔壁的材质、且能够使用可通过灰化容易地除去的材质来形成低折射率的隔壁的滤色器的制造方法、可利用该滤色器的制造方法制造的滤色器、和可在前述滤色器的制造方法中合适地使用的树脂组合物。其解决手段为，使用无机成分的含量为5质量％以下的、含有气泡的树脂或含有气泡的树脂组合物等来形成隔壁。
滤色器制造方法树脂组合

[发明专利]液态组合物、含量子点的膜、光学膜、发光显示元件面板及发光显示装置-CN201980043164.3在审
发明人： 濑下武广;野田国宏;盐田大 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2019-06-24 - 公布日： 2021-02-05 - 主分类号： G02B5/20 文献下载
摘要：本发明提供：可合适地用于制造荧光效率良好的光学膜的、包含量子点(A)的液态组合物；使该液态组合物干燥及/或固化而成的含量子点的膜；包含该含量子点的膜的用于发光显示元件的光学膜；包含该光学膜的发光显示元件面板；和具有该发光显示元件面板的发光显示装置。包含量子点(A)的液态组合物中含有：离子液体(B)；和溶剂(S)，所述溶剂(S)包含溶剂(S1)，所述溶剂(S1)为具有环式骨架、并且包含氢原子及碳原子以外的杂原子的化合物。
液态组合量子光学发光显示元件面板显示装置

[发明专利]固化性树脂组合物及固化物-CN202010578650.X在审
发明人： 濑下武广;武内弘明;井上朋之 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2020-06-23 - 公布日： 2020-12-29 - 主分类号： C08L33/14 文献下载
摘要：本发明涉及固化性树脂组合物及固化物。其课题在于提供下述固化性树脂组合物，其能够实现具有高的耐溶剂性的低折射率材料。本发明的解决手段是，作为固化性树脂组合物，包含：组合具有特定的两种结构单元的(A)树脂；(B)壳部分由树脂构成的中空粒子；和(S)有机溶剂。(B)中空粒子的平均粒径优选为20nm以上且300nm以下。在固化性树脂组合物中的全部固态成分中，(A)树脂的含有比例优选为30质量％以上且90质量％以下。
固化树脂组合

[发明专利]返工方法以及酸性清洗液-CN201811593567.9在审
发明人：平野勋;濑下武广;昆野健理 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2018-12-25 - 公布日： 2019-07-19 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：提供一种返工方法与能够适合用于该返工方法的酸性清洗液，该返工方法在表面具备包含含硅材料的下层膜的基板中，除去形成在下层膜上的图案化的有机树脂膜从而进行返工时，能够抑制对下层膜的损伤，并且从下层膜上良好地剥离有机树脂膜。在表面具备包含含硅材料的下层膜的基板中，除去形成在下层膜上的图案化的有机树脂膜从而进行返工时，使用包含可卤代的烷基磺酸的酸性清洗液进行有机树脂膜的除去。
下层膜返工有机树脂膜酸性清洗液含硅材料图案化基板烷基磺酸卤代剥离损伤

[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂-CN201110402834.1无效
发明人： 濑下武广;内海义之;川上晃也;羽田英夫;清水宏明;中村刚 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-11-13 - 公布日： 2012-07-11 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中，涉及通式(I)表示的化合物；以及通式(b1-1)表示的化合物(式中，Q¹是2价连接基团或单键；Y¹是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO₂-键。M⁺是碱金属离子。A⁺是有机阳离子)。
抗蚀剂组合图案形成方法新型化合物以及产酸剂

[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂-CN201110206830.6有效
发明人： 濑下武广;内海义之;川上晃也;羽田英夫;清水宏明;中村刚 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-11-13 - 公布日： 2012-02-08 - 主分类号： C07D327/04 文献下载
摘要：本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中，涉及通式(I)表示的化合物；以及通式(b1-1)表示的化合物(式中，Q¹是2价连接基团或单键；Y¹是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO₂-键。M⁺是碱金属离子。A⁺是有机阳离子。)
抗蚀剂组合图案形成方法新型化合物以及产酸剂

[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案的形成方法、新型化合物以及产酸剂-CN200810173347.0有效
发明人： 濑下武广;内海义之;川上晃也;羽田英夫;清水宏明;中村刚 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-11-13 - 公布日： 2009-07-01 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的抗蚀剂图案的形成方法、用作该抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物、用作该化合物的前体的化合物以及该产酸剂。其中，涉及通式(I)表示的化合物；以及通式(b1-1)表示的化合物(式中，Q¹是2价连接基团或单键；Y¹是可具有取代基的亚烷基或可具有取代基的氟代亚烷基；X表示可具有取代基的碳原子数为3～30的环式基，该环结构中具有-SO₂-键。M⁺是碱金属离子。A⁺是有机阳离子)。
抗蚀剂组合图案形成方法新型化合物以及产酸剂

[发明专利]抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法、新型化合物及其制法-CN200810212866.3有效
发明人：川上晃也;岩井武;羽田英夫;秀坂慎一;黑泽刚志;圆山夏子;松泽贤介;濑下武广;清水宏明;中村刚 -专利权人：东京应化工业株式会社
申请日： 2008-09-10 - 公布日： 2009-04-15 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明涉及含有能用作产酸剂的新型化合物的抗蚀剂组合物、抗蚀剂图案形成方法、所述化合物、能用作所述化合物的前体的化合物及其制造方法。其中，涉及式(I)表示的化合物以及式(b1-1)表示的化合物[式中，X是-O-、-S-、-O-R³-或-S-R⁴-，R³和R⁴分别独立地是碳原子数为1～5的亚烷基；R²是碳原子数为1～6的烷基、碳原子数为1～6的烷氧基、碳原子数为1～6的卤代烷基、卤原子、碳原子数为1～6的羟烷基、羟基或氰基；a是0～2的整数；Q¹是碳原子数为1～12的亚烷基或单键；Y¹是碳原子数为1～4的亚烷基或氟代亚烷基；M⁺是碱金属离子；A⁺是有机阳离子。
抗蚀剂组合图案形成方法新型化合物及其制法

1
共 12 条