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[发明专利]清洗液及清洗方法-CN201210019335.9有效
发明人：宫下雅之;久次米孝信;山本雅士;伊达和哉 -专利权人：斯泰拉化工公司
申请日： 2012-01-20 - 公布日： 2012-08-08 - 主分类号： C11D7/60 文献下载
摘要：本发明涉及一种清洗液及清洗方法。本发明的目的是提供对于表面附着有氧化铈的被清洗物，能够将该氧化铈以铈离子的形式溶解而清洗除去的清洗液以及使用该清洗液的清洗方法。一种清洗液，其特征在于，该清洗液除去被清洗物表面残留的氧化铈，该清洗液含有(1)氟化氢和(2)铵盐，所述铵盐是选自氯化铵、硝酸铵、硫酸铵、四甲基氯化铵、四甲基硝酸铵和四甲基硫酸铵中的至少1种。
清洗方法

[发明专利]微细加工处理剂以及使用其的微细加工处理方法-CN201080035331.9有效
发明人：宫下雅之;久次米孝信;二井启一;长谷部类;石丸慧 -专利权人：斯泰拉化工公司
申请日： 2010-08-09 - 公布日： 2012-05-23 - 主分类号： H01L21/308 文献下载
摘要：本发明提供对硅氮化膜和硅氧化膜的层叠膜可选择性地将硅氧化膜进行微细加工的微细加工处理剂，以及使用其的微细加工处理方法。本发明的微细加工处理剂是用于形成有硅氮化膜和硅氧化膜的被处理物的微细加工的微细加工处理剂，其中包含下述(A)成分或(B)成分中的至少任一方、下述(C)成分和下述(D)成分；下述(A)成分或(B)成分中的至少任一方与(C)成分的含量的合计相对于微细加工处理剂的总量为90重量％以下。(A)成分：0.01重量％～20重量％的氟化氢，(B)成分：0.1重量％～20重量％的氟化铵或氟化季铵盐中的至少任一方，(C)成分：1重量％～80重量％的选自盐酸、硝酸、硫酸和磷酸中的至少任一种酸，(D)成分：水。
微细加工处理以及使用方法

[发明专利]微细加工处理剂及微细加工处理方法-CN200980159339.3有效
发明人：宫下雅之;久次米孝信;二井启一 -专利权人：斯泰拉化工公司
申请日： 2009-05-21 - 公布日： 2012-04-25 - 主分类号： H01L21/308 文献下载
摘要：本发明提供微细加工处理剂及微细加工处理方法。本发明提供在对至少层叠有氧化硅膜及氮化硅膜的层叠膜进行微细加工时可选择性地对氧化硅膜进行微细加工的微细加工处理剂及使用该微细加工处理剂的微细加工处理方法。本发明的微细加工处理剂的特征在于，含有(a)0.01～15重量％的氟化氢或者0.1～40重量％的氟化铵中的至少1种、(b)水及(c)0.001～10重量％的选自丙烯酸、丙烯酸铵、丙烯酸酯、丙烯酰胺、苯乙烯磺酸、苯乙烯磺酸铵及苯乙烯磺酸酯中的至少任1种水溶性聚合物。
微细加工处理方法

[发明专利]清洗液和清洗方法-CN200980159163.1无效
发明人：宫下雅之;久次米孝信;二井启一;山本雅士 -专利权人：斯泰拉化工公司
申请日： 2009-05-21 - 公布日： 2012-04-18 - 主分类号： C11D7/60 文献下载
摘要：本发明提供对于在表面附着有氧化铈的被清洗物，能够使氧化铈溶解为铈离子而清洗除去的清洗液以及使用该清洗液的清洗方法。本发明的清洗液的特征在于，是除去氧化铈的清洗液，含有氟化氢与选自盐酸、硝酸、硫酸、醋酸、磷酸、碘酸及氢溴酸中的至少任一种酸，及水而构成，使上述氧化铈溶解为铈离子而除去。
清洗方法

[发明专利]微细加工处理剂以及使用其的微细加工处理方法-CN200580043740.2无效
发明人：菊山裕久;脇雅秀;伊藤周德;久次米孝信;二井启一;长谷部类;鹤丸一志;中嶌秀纪 -专利权人：斯泰拉化工公司
申请日： 2005-12-19 - 公布日： 2007-12-05 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明所涉及的微细加工处理剂，是用于含有钨膜以及硅氧化膜的层叠膜的微细加工的微细加工处理剂，其特征在于，含有氟化氢和硝酸和至少氟化铵以及氯化铵中的任意一种。由此，可以提供能对钨膜以及硅氧化膜的层叠膜，通过控制蚀刻速度进行微细加工处理的微细加工处理剂以及使用其的微细加工处理方法。
微细加工处理以及使用方法