专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果11个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]掩模图形制成方法及半导体装置的制造方法-CN02144071.9无效
  • 小谷敏也;田中聪;井上壮一;小林幸子;市川裕隆 - 株式会社东芝
  • 2002-09-29 - 2003-04-16 - H01L21/00
  • 一种由设计图形生成掩模图形的掩模图形制成方法,包括直到前述设计图形的设计结束为止,制成修正库,该修正库记录有由前述设计图形的掩模蚀刻坐标组、和用于修正前述边缘坐标组的修正值组组成的对;获得设计结束后的设计图形的第一个边缘坐标组;将对应于与第一个边缘坐标组一致的边缘坐标组的修正值组记录到前述修正库中,或从该修正库中调出;在无记录的情况下,通过根据预先确定的修正参数进行的模拟,计算出第一边缘坐标组的修正值组;将由第一边缘坐标组和修正值组构成的对追加记录到前述修正库中;在有记录的情况下,从前述修正库中读取对应的修正值组;和根据计算出的修正值组、或读出的修正值组中的任何一个,对设计图形进行修正,生成掩模图形。
  • 图形制成方法半导体装置制造

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top