“安徽格楠机械有限公司”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果73个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]涡扇发动机轴承密封动态测试台-CN202210766559.X有效
发明人：曾庆明;赵亮;曾庆华;左学良;顾芳 -专利权人： 安徽格楠机械有限公司
申请日： 2022-06-30 - 公布日： 2023-08-25 - 主分类号： G01M3/26 文献下载
摘要：本发明涉及轴承检测技术领域，具体是涡扇发动机轴承密封动态测试台，包括机架组件，包括架体，所述架体的上方设置有上固定架，架体的两侧分别设置有机架和侧固定架，还包括有推料组件，所述推料组件设置在侧固定架的上方；测试组件，所述测试组件设置在上固定架上；导气组件，所述导气组件设置在架体的内侧；其中，所述测试组件包括轴承驱动组件、轴承夹持组件和动力组件，轴承驱动组件设置在架体和机架上，本发明能够用于多个的轴承的检测工作，同时通过推料组件进行上料和下料工作，提高检测的效率，同时该装置设置有测试组件，测试组件能够将轴承的两侧固定住，使轴承在转动的时候两侧受力均衡，提高检测的准确性。
发动机轴承密封动态测试

[发明专利]超大硅片超精密减薄技术与设备-CN202211369166.1在审
发明人：曾庆明;赵亮;曾庆华;左学良;顾芳 -专利权人： 安徽格楠机械有限公司
申请日： 2022-11-03 - 公布日： 2023-01-24 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：本发明涉及超大硅片加工研磨领域，具体是涉及超大硅片超精密减薄技术与设备。包括：承载平台，呈水平状态设置；两个取放机构，呈对称状态设置在承载平台的两侧；旋转组件，与承载平台相连，旋转组件包括承托底盘、三个加工底盘和三个自转机构，承托底盘与承载平台同轴心转动连接，三个加工底盘沿承托底盘圆周方向均匀分布，三个自转机构设置在三个加工底盘的下方；回正机构，设置在承载平台的上端并位于一个取放机构的旁侧；三个研磨机构，对应设置在三个加工底盘的旁侧并位于承载平台的上端；三个与研磨机构相连的研磨盘，研磨盘能对硅片进行打磨加工；清洗机构，设置在承载平台的上端并位于另一个取放机构的旁侧。
超大硅片精密薄技设备

[发明专利]一种12吋晶圆专用CMP研磨垫及其制作方法-CN202211068638.X在审
发明人：曾庆明;曾庆华;赵亮;左学良;李健;顾芳 -专利权人： 安徽格楠机械有限公司
申请日： 2022-09-02 - 公布日： 2022-12-23 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种12吋晶圆专用CMP研磨垫，其特征在于：所述的CMP研磨垫由聚氨酯、研磨剂制作而成，所述的聚氨酯重量比为60‑80%、研磨剂重量比为20‑80%，所述的聚氨酯由聚合多元醇20‑58%、二异氰酸脂40‑72%、抗水解剂0.1‑3%、扩链剂2‑5%、空心填料0.1‑3%、增塑剂0.1‑2%、催化剂0.1‑0.5%组成。本发明采用物理发泡的方法制备聚氨酯片材使其泡孔均匀，采用高低压混合发泡方法，使其具有优越的耐磨性和均匀的泡孔，保证晶圆表面轮廓凸出部份高效平坦化并减少划伤，合成具有多重网络结构的聚氨酯材料设计，使其具有优异耐磨、耐腐蚀性能，在聚氨酯内加入研磨剂，使研磨剂填充在聚氨酯内的气泡中，使研磨垫更加均匀、紧密，提高研磨垫的耐磨性能。
一种 12 吋晶圆专用 cmp 研磨及其制作方法

[发明专利]一种12吋晶圆专用CMP抛光垫及其制作方法-CN202211068534.9在审
发明人：曾庆明;曾庆华;赵亮;左学良;李健;顾芳 -专利权人： 安徽格楠机械有限公司
申请日： 2022-09-02 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： B24D11/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种12吋晶圆专用CMP抛光垫，其特征在于：所述的CMP抛光垫由聚氨酯、研磨剂制作而成，所述的聚氨酯重量比为60‑80%、研磨剂重量比为20‑80%，所述的聚氨酯由聚合多元醇20‑58%、二异氰酸脂40‑72%、抗水解剂0.1‑3%、扩链剂2‑5%、空心填料0.1‑3%、增塑剂0.1‑2%、催化剂0.1‑0.5%组成。本发明采用物理发泡的方法制备聚氨酯片材使其泡孔均匀，采用高低压混合发泡方法，使其具有优越的耐磨性和均匀的泡孔，保证晶圆表面轮廓凸出部份高效平坦化并减少划伤，合成具有多重网络结构的聚氨酯材料设计，使其具有优异耐磨、耐腐蚀性能，在聚氨酯内加入研磨剂，使研磨剂填充在聚氨酯内的气泡中，使抛光垫更加均匀、紧密，提高抛光垫的耐磨性能。
一种 12 吋晶圆专用 cmp 抛光及其制作方法

[实用新型]一种芯片研磨用清洁装置-CN202221218878.9有效
发明人：曾庆明;赵亮;曾庆华 -专利权人： 安徽格楠机械有限公司
申请日： 2022-05-21 - 公布日： 2022-10-28 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型是一种芯片研磨用清洁装置，包括操作台、承载块、顶板、液压缸一、移动板、液压缸二、连接板、电机、研磨盘、输水泵和喷水环，其特征在于：所述的操作台设置在支架上，所述的承载块底部设置有安装板，所述的顶板设置在立板上，所述的液压缸一设置在定位板上，所述的移动板上设置有滑块，所述的液压缸二设置在移动板上，所述的连接板与活塞杆二连接，所述的电机设置在固定板上。本实用新型通过电机带动传动轴及研磨盘旋转，使研磨盘与放置在承载槽内的芯片进行研磨处理，根据芯片的研磨要求不同，选择相应的研磨盘，不仅能够提高芯片的研磨质量，也能提高研磨设备的通用性，扩大了研磨设备的适用范围，降低制造多套研磨设备的成本。
一种芯片研磨清洁装置

[实用新型]芯片加工用抛光设备-CN202221228555.8有效
发明人：曾庆明;赵亮 -专利权人： 安徽格楠机械有限公司
申请日： 2022-05-23 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了芯片加工用抛光设备，包括操作台、电机一、旋转筒、底板、承载板、液压缸、连接板、电机二、抛光盘，其特征在于：所述的操作台设置在支架上在操作台上设置有立柱、轴承，所述的电机一设置在操作台背面上，所述的旋转筒竖向穿过轴承，所述的底板与旋转筒顶端连接，所述的承载板上设置有承载槽，所述的连接板与活塞杆连接，所述的电机二设置在活塞杆两侧的连接板上。本实用新型在承载板上的承载槽内设置有通风孔，旋转筒内的风扇将底板的内腔中的气流排出，内腔内产生负压，使承载板上方的气流携带芯片抛光过程中产生的粉尘进入经过通风孔流入到内腔中，并经过旋转筒流入到除尘设备内，提高了环保性能。
芯片工用抛光设备

[实用新型]芯片表面研磨装置-CN202221218879.3有效
发明人：曾庆明;曾庆华;赵亮 -专利权人： 安徽格楠机械有限公司
申请日： 2022-05-21 - 公布日： 2022-10-21 - 主分类号： B24B37/11 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种芯片表面研磨装置，包括底板、液压缸一、推板、承载板、电机一、液压缸二、连接板、移动板、调节板、电机二和研磨盘，其特征在于：所述的底板设置在支架上，所述的液压缸一设置在底板上，所述的推板与活塞杆一连接，所述的承载板正面设置有承载槽，所述的电机一设置在推板上，所述的液压缸二设置在顶板上。本实用新型在推板的限位块顶部设置有固定槽，在固定槽内通过销轴设置有辅轮，将辅轮与卡块接触，使卡块与限位块之间有滑动摩擦改变为滚动摩擦，降低承载板沿着限位块滑动受到的阻力，使承载板能够带动承载槽内的芯片依次经过研磨盘下方进行研磨处理，提高芯片的研磨效率，降低操作人员的劳动强度。
芯片表面研磨装置

[发明专利]基于自学习的智能硅基晶圆超精密研磨抛光机-CN202111294205.1有效
发明人：曾庆明;曾庆华;赵亮 -专利权人： 安徽格楠机械有限公司
申请日： 2021-11-03 - 公布日： 2022-06-21 - 主分类号： B24B7/22 文献下载
摘要：本发明涉及晶圆加工技术领域，具体是基于自学习的智能硅基晶圆超精密研磨抛光机，包括台架，所述台架的顶部设置有下磨盘，下磨盘和台架的中间穿设有主轴，且下磨盘的上方设置有上磨盘，所述主轴外套设有偏心传动筒，偏心传动筒通过偏心运动机构与主轴连接，且主轴通过偏心传动筒连接有行星运动工件盘；所述上磨盘的顶部连接有压盘，压盘的外壁和内壁分别与台架的顶部外壁和偏心传动筒的外壁活动配合，本发明能够通过偏心传动筒带动行星运动工件盘进行运动，使得晶圆在研磨过程中既能够自转，又能够绕着主轴公转，而且还能够直线往复偏心运动，让晶圆受到各方向的研磨效果，促进研磨粒子对晶圆施加更多方向的作用，极大的提高研磨效率。
基于自学习智能硅基晶圆超精密研磨抛光机

[实用新型]一种多工位研磨机-CN202123378323.9有效
发明人：曾庆华;赵亮;曾庆明 -专利权人： 安徽格楠机械有限公司
申请日： 2021-12-30 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： B24B27/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种多工位研磨机，包括操作台、电机一、传动齿轮、限位筒、顶板、液压缸、连接板、电机二和上研磨盘，其特征在于：所述的操作台设置在支架上，所述的电机一设置在操作台底部，所述的传动齿轮与传动轴一连接，所述的限位筒外壁上设置有连接轮齿，所述的顶板设置在立柱上，所述的液压缸设置在顶板上，并在液压缸上设置有活塞杆，所述的连接板与活塞杆连接。本实用新型通过研磨液携带工件研磨过程中产生的碎屑流入到排污槽内，从排污孔流到底槽底部，并从排污管排出，便于对研磨液进行集中处理，提高了环保性能，在底槽内放置多个限位筒，能够同时对多个工件进行同时研磨处理，提高了工件的研磨效率。
一种多工位研磨机

[实用新型]芯片研磨机的研磨液喷液装置-CN202121394728.9有效
发明人：曾庆华;赵亮;曾庆明 -专利权人： 安徽格楠机械有限公司
申请日： 2021-06-23 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： B24B37/10 文献下载
摘要：本实用新型公开一种芯片研磨机的研磨液喷液装置，包括箱体、电机一、下研磨盘、顶板、液压缸、连接板、电机二、从动轴、输液泵和上研磨盘，其特征在于：所述的箱体顶部设置有立柱、排污槽，所述的电机一设置在箱体内底部，所述的下研磨盘安装在传动轴一上，所述的顶板设置在立柱上，所述的液压缸设置在顶板上，所述的连接板通过连接杆与活塞杆连接，所述的电机二设置在连接板上，所述的从动轴竖向穿过轴承二，所述的输液泵设置在连接板上，所述的上研磨盘通过安装环安装在从动轴上。本实用新型在排污槽内放置过滤板，通过过滤板能够对流入到排污槽内的研磨液进行初步过滤处理，避免大颗粒的杂质从排污管进入到箱体内，提高研磨液的过滤效果。
芯片研磨机研磨液喷液装置

[实用新型]一种芯片研磨机的研磨盘冷却装置-CN202121394816.9有效
发明人：赵亮;曾庆华;曾庆明 -专利权人： 安徽格楠机械有限公司
申请日： 2021-06-23 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： B24B55/03 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种芯片研磨机的研磨盘冷却装置，包括箱体、底座、从动轴、下托体、下研磨盘、输液泵一、电机、顶板和上研磨盘，其特征在于：所述的箱体内底部设置有冷却液箱，所述的底座设置在箱体顶部，所述的立板顶部设置有顶板，所述的从动轴竖向穿过轴承，所述的下托体通过连接环与从动轴连接，所述的下研磨盘安装在下托体上，所述的输液泵一设置在箱体内底部，所述的电机设置在底座底部，所述的液压缸设置在顶板上。本实用新型将下托体上的出液管底端伸入导流槽内，下研磨盘的冷却液从出液管排出，冷却液流入导流槽内，并从回流管快速流入到冷却液箱内，避免冷却液在排污槽内产生聚集，提高芯片研磨机在工作过程中的平稳性。
一种芯片研磨机研磨冷却装置

[实用新型]一种便于清理研磨废料的研磨机-CN202121288006.5有效
发明人：曾庆华;赵亮 -专利权人： 安徽格楠机械有限公司
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： B24B37/00 文献下载
摘要：本实用新型公开一种便于清理研磨废料的研磨机，包括箱体、承载板、电机一、下研磨盘、电机二、限位板、液压缸和上研磨盘，其特征在于：所述的箱体顶部设置有立板，在立板上设置有定位块、轴承，并在立板顶部设置有顶板，所述的承载板两端设置有连接轴，并将连接轴伸入轴承内，所述的电机一设置在承载板底部，在电机一上设置有传动轴，并将传动轴从承载板上方竖向穿出，所述的下研磨盘上设置有下安装环。本实用新型在研磨液盒上设置有电机二，在电机二的旋转轴上设置有连接块，并在连接块上设置有搅拌杆，通过搅拌杆能够搅动研磨液盒内的研磨液，避免研磨液的沉淀，进而提高工件的研磨抛光质量。
一种便于清理研磨废料研磨机

[实用新型]一种用于研磨机的研磨盘表面清洁设备-CN202121288007.X有效
发明人：赵亮;曾庆华 -专利权人： 安徽格楠机械有限公司
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： B24B53/017 文献下载
摘要：本实用新型公开一种用于研磨机的研磨盘表面清洁设备，包括壳体、电机、下研磨盘、液压缸一、上研磨盘、液压缸二、移动板和输液泵，其特征在于：所述的壳体顶部设置有立板，所述的电机设置在排污槽下方的壳体内，所述的下研磨盘上设置有下安装环，所述的液压缸一设置在顶板上，所述的上研磨盘上设置有上安装环，所述的液压缸二设置在立板上，所述的移动板与活塞杆二连接，并在移动板顶部、底部均设置有毛刷条，所述的输液泵设置在顶部上，并在输液泵上设置有输液管。本实用新型在电机的传动轴与排污槽之间设置有密封环，通过密封环避免排污槽内的研磨液顺着传动轴流入电机内，提高了电机在工作过程中的安全性，也能延长电机的使用寿命。
一种用于研磨机研磨表面清洁设备

[实用新型]用于研磨抛光机的研磨液上料机构-CN202121288009.9有效
发明人：曾庆明;赵亮;曾庆华 -专利权人： 安徽格楠机械有限公司
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： B24B57/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种用于研磨抛光机的研磨液上料机构，包括箱体、承载板、电机一、电机二、下研磨盘、上研磨装置和输液泵，其特征在于：所述的承载板放置在箱体顶部，所述的电机一设置在承载板背面上，所述的电机二设置在承载板背面上，在电机二上设置有传动轴二，并将传动轴二从承载板上方竖向穿出，所述的下研磨盘设置在传动轴二上，所述的上研磨装置安装在顶板上，所述的输液泵设置在承载板背面上，在输液泵上设置有吸液管、输液管，并将吸液管伸入箱体内。本实用新型在排污槽内放置过滤板，通过过滤板能够对流入到排污槽内的研磨液进行初步过滤处理，避免大颗粒的杂质从排污管进入到箱体内，提高研磨液的过滤效果。
用于研磨抛光机液上料机构

[实用新型]一种工件抛光设备-CN202121288010.1有效
发明人：曾庆明;赵亮;曾庆华 -专利权人： 安徽格楠机械有限公司
申请日： 2021-06-09 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： B24B29/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种工件抛光设备，包括底板、液压缸一、承载板、顶板、液压缸二、连接板、电机一、移动环、电机二和抛光盘，其特征在于：所述的底板设置在支架上，所述的液压缸一设置在立板上，所述的承载板背面设置有滑块，所述的顶板设置在立柱上，所述的液压缸二设置在顶板上，所述的连接板与活塞杆二连接，所述的电机一设置在定位板上，所述的移动环内设置有内螺纹，所述的电机二设置在固定板上，所述的抛光盘上设置有安装环，并将安装环安装在传动轴上。本实用新型通过手柄旋转调节螺杆，使调节螺杆推动紧固板来回移动，紧固板从工件相对两侧对工件进行夹持，提高工件在被夹持及抛光过程中的稳定性，进而提高工件的抛光效率及抛光质量。
一种工件抛光设备

1
2
3
4
5
下一页»
尾页
共 73 条