专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果9个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]一种清洁装置-CN201711129956.1有效
  • 王勇;安予生;蒋盛超;孟庆勇 - 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
  • 2017-11-15 - 2019-12-03 - B08B1/00
  • 本发明公开一种清洁装置,涉及显示面板制造技术领域。为解决如何在采用清洁布清洁基板时避免清洁布被重复利用、提高清洁布的利用率、降低清洗液的消耗量、提高清洁效率的问题而发明。本发明的清洁装置包括壳体,壳体包括由壳体剖分后形成的至少两个壳体单元,相邻两个壳体单元之间可拆卸连接,壳体内设有存放装置、回收装置和供液装置,壳体上设有开口,开口内设有引导头,存放装置存放有清洁布,清洁布由存放装置抽出并由开口伸出壳体外,且绕过引导头后由开口伸入壳体内并连接于回收装置上,回收装置用于牵引清洁布移动到回收装置以回收清洁布,供液装置用于向绕设于引导头处的清洁布上供给清洗液。本发明的清洁装置用于清洁基板上的点状污渍。
  • 一种清洁装置
  • [发明专利]一种曝光机基台装置及曝光机-CN201710702380.7有效
  • 安予生;蒋盛超;喻琨;吴春晖;余世荣 - 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
  • 2017-08-16 - 2019-06-07 - G03F7/20
  • 本发明涉及液晶显示技术领域,公开了一种曝光机基台装置及曝光机,该曝光机基台装置,包括:基台,基台具有玻璃承载面,且基台上设置有多个开口位于玻璃承载面的真空吸附孔,其中:每一个真空吸附孔内设置有可绕自身轴线转动的支撑机构,支撑机构的自身轴线与真空吸附孔的轴心线平行,且支撑机构具有用于支撑玻璃的支撑面,每一个真空吸附孔内设置有多个用于提供吸附玻璃基板吸附力的抽气孔。上述曝光机基台装置中,在基台上设置真空吸附孔,真空吸附孔内设置支撑机构,避免基台与玻璃基板完全吸附,保证玻璃基板均匀受力,使得在曝光过程中玻璃基板的所有位置曝光程度一致,有效地避免了产生曝光差异导致的亮度不均、画面异常的问题。
  • 一种曝光机基台装置
  • [发明专利]一种基板卡夹-CN201510556780.2有效
  • 吴春晖;安予生;喻琨 - 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
  • 2015-09-02 - 2017-12-08 - B65D85/48
  • 本发明涉及液晶显示技术领域,尤其涉及一种基板卡夹。本发明提供的基板卡夹,包括卡夹框架,所述卡夹框架内设有多层基板放置层,相邻两层所述基板放置层之间的距离能够调节;本发明提供的基板卡夹不需要预留机械手臂的操作空间,因此相邻的基板放置层之间的距离能够压缩至很小,这样在卡夹框架内能够设置更多的基板放置层,单个基板卡夹能够运输基板的数量更多,能够满足基板大批量的运输需求,并且,减少了使用大量卡夹对产线空间的占用,使产线的布局更加合理;同时,可通过调节相邻两层基板放置层之间的距离来调控出能够满足机械手臂操作的空间,并通过机械手臂快速、准确的抽取任一层基板放置层内的基板,节省了存储搬运基板的时间。
  • 一种板卡
  • [发明专利]真空干燥系统和真空干燥方法-CN201510744626.8在审
  • 安予生;孟庆勇 - 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
  • 2015-11-04 - 2015-12-30 - B05D3/00
  • 本发明涉及一种真空干燥系统和方法,该系统包括:支撑平台,用于支撑衬底基板,其中,所述支撑平台包括多个沿预设方向设置的子平台,相邻子平台之间形成有间隙;机械臂,包括多个与所述间隙相对应的条状结构,用于将所述衬底基板置于所述支撑平台或将所述衬底基板移出所述支撑平台。根据本发明的技术方案,通过支撑平台来支撑衬底基板,相对于现有技术在真空干燥工艺中通过多个针状支撑物来支撑衬底基板,支撑平台与衬底基板的接触面积要大得多,可以降低对衬底基板的局部压力,从而避免衬底基板因真空干燥过程中的支撑操作而产生显示器亮度不均匀。并且无需设置较宽的虚拟区域,可以有效利用衬底基板的面积。
  • 真空干燥系统方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top