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[发明专利]光掩模用基板组和光掩模组及显示装置的制造方法-CN201410219079.7有效
发明人： 土屋雅誉;池边寿美 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2012-04-12 - 公布日： 2017-07-28 - 主分类号： G03F1/60 文献下载
摘要：本发明提供光掩模用基板组和光掩模组及显示装置的制造方法。光掩模用基板组具有第1光掩模用基板，其用于在主表面上形成待转印至被转印体的转印用图案而成为第1光掩模；以及第2光掩模用基板，其用于在主表面上形成待与所述转印用图案重叠地转印至所述被转印体的转印用图案而成为第2光掩模，其中，当设所述第1光掩模用基板的主表面上的图案区域内设定的任意的点M相对于基准面的高度为Zm，设所述第2光掩模用基板的主表面上的图案区域内的处于与所述第1光掩模用基板上的点M对应的位置处的点N相对于所述基准面的高度为Zn，并求出了所述Zm与所述Zn之差Zd时，在所述图案区域内，该Zd的最大值ΔZdmax为17μm以下。
光掩模用基板组模组显示装置制造方法

[发明专利]光掩模用基板、光掩模、光掩模制造方法及图案转印方法-CN201210106975.3有效
发明人： 土屋雅誉;池边寿美 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2012-04-12 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： G03F1/60 文献下载
摘要：本发明提供光掩模用基板、光掩模、光掩模制造方法及图案转印方法，在进行接近式曝光时提高图案的转印精度。一种光掩模，其具有：透明基板；以及将形成于透明基板的表面的遮光膜构图为预定的转印用图案而成的转印用图案，其中，利用描绘机的工作台从下方支撑透明基板的第2主表面，同时形成转印用图案，对于没有用支撑部件从下方支撑透明基板时的透明基板的第2主表面的平坦度，在设任意两点的高低差为ΔZb(μm)时，ΔZb≤(1/T)×3.0。
光掩模用基板光掩模制造方法图案

[发明专利]光掩模用基板、光掩模以及图案转印方法-CN201210105308.3有效
发明人： 土屋雅誉;池边寿美 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2012-04-11 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本发明提供光掩模用基板、光掩模以及图案转印方法，在进行接近式曝光时，提高保持区域附近的图案转印精度。一种光掩模用基板，其用于在第1主表面上形成转印用图案而成为光掩模，在该光掩模用基板中，在四边形的第1主表面上的形成有转印用图案的图案区域之外，在第1主表面的相对的两边附近，具有包含抵接面的保持区域，当曝光机保持光掩模时，保持部件与抵接面抵接，关于保持区域，在设保持区域内的平坦度指数为Fsx、保持区域外的平坦度指数为Fex时，满足Fsx≤Fex。
光掩模用基板光掩模以及图案方法

[发明专利]光掩模用基板和光掩模及它们的组、制造方法及转印方法-CN201210106982.3有效
发明人： 土屋雅誉;池边寿美 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2012-04-12 - 公布日： 2012-10-17 - 主分类号： G03F1/26 文献下载
摘要：本发明提供光掩模用基板和光掩模及它们的组、制造方法及转印方法，在进行接近曝光时提高图案的转印精度。一种光掩模用基板，其用于在主表面上形成转印用图案而成为光掩模，在该光掩模用基板中，主表面上的图案区域的高度变动的最大值ΔZmax为8.5(μm)以下。
光掩模用基板光掩模它们制造方法

[发明专利]基板制造方法、坯体制造方法、再生光掩模及其制造方法-CN201110098004.4有效
发明人： 土屋雅誉;藤本照彦 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2011-04-19 - 公布日： 2011-10-19 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明涉及基板制造方法、坯体制造方法、再生光掩模及其制造方法，它们利用了在透明基板的第1主表面上形成有膜图案的已经使用过的光掩模，具有以下工序：从第1主表面上去除膜图案的工序；以及对第1主表面和第2主表面分别进行研磨的研磨工序。在研磨工序中，进行如下研磨量的研磨：该研磨量使得在第1主表面和第2主表面中的转印区域外，不残留300μm以上的大小的损伤缺陷，且残留2μm以上且小于300μm的大小的损伤缺陷，并且使得在第2主表面中的转印区域内，不残留100μm以上的大小的损伤缺陷。
制造方法体制再生光掩模及其

[发明专利]表膜用膜、与TFT液晶面板制造用掩模一起使用的表膜、及包含该表膜的光掩模-CN200980145885.1有效
发明人：柳田好德;金子靖;阿部泰之;小川博司;村井诚;新地博之;土屋雅誉;本田邦之;田中友和;桥本宪尚 -专利权人：旭化成电子材料株式会社;HOYA株式会社
申请日： 2009-11-19 - 公布日： 2011-10-12 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明提供一种能够防止在光刻工序中在硬铬掩模上产生生长性杂质的表膜及表膜用膜、以及包含该表膜的光掩模。本发明的表膜用膜，其主要膜材料为光学用有机高分子，在70℃下72小时的换算成每微米膜厚的草酸透过量为1.0×10-3mg/cm2以下。
表膜用膜 tft 液晶面板制造用掩模一起使用包含光掩模

[发明专利]光掩模的制造方法及使用该光掩模的图案转印方法-CN200910221884.2无效
发明人：村井诚;新地博之;土屋雅誉;本田邦之;田中友和;桥本宪尚 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2009-11-19 - 公布日： 2010-06-16 - 主分类号： G03F1/08 文献下载
摘要：本发明是对于光掩模，在透光性基板的主表面上形成遮光膜并使其以及形成图案，从而形成遮光膜图案，然后，对在该遮光膜图案中所含的Cr实施Cr离子降低处理，由此可以使作为生长性异物产生的主要原因的Cr离子降低，能够抑制生长性异物的产生。
光掩模制造方法使用图案