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[发明专利]一种光谱椭偏测量系统和一种光谱椭偏测量方法-CN202310317770.8有效
发明人：王瑜;杨峰;吕彤欣;韩景珊 -专利权人：睿励科学仪器（上海）有限公司
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明提供了一种光谱椭偏测量系统和光谱椭偏测量方法。该光谱椭偏测量系统包括：光源，用于提供偏振态的入射光；至少一组反射式投影物镜，被配置为：根据目标尺寸，调节自身的位置和/或焦距；根据该位置及该焦距，将该入射光会聚到待测样品的表面，以形成该目标尺寸的光斑；以及从该待测样品的表面获取该光斑的反射光，并根据该位置及该焦距对该反射光进行准直处理；以及探测器，获取该反射式投影物镜输出的反射光，并根据该反射光的偏振态参数确定该待测样品表面的薄膜厚度。本发明能够根据晶圆的图形尺寸，灵活调节聚焦到晶圆表面的光斑尺寸大小，从而准确测量出晶圆表面的薄膜厚度。
一种光谱测量系统测量方法

[发明专利]一种光谱椭偏测量系统-CN202310321985.7在审
发明人：王瑜;杨峰;吕彤欣;韩景珊 -专利权人：睿励科学仪器（上海）有限公司
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本发明提供一种光谱椭偏测量系统，包括：光源，用于提供偏振态的入射光；第一反射式投影物镜，位于光源与待测样品之间的光路内，用于将入射光会聚到待测样品的表面，以形成检测光斑；第二反射式投影物镜，对称第一反射式投影物镜地设置于待测样品与分光器之间的光路，用于从待测样品的表面获取光斑的反射光，并对反射光进行准直处理；分光器，获取第二反射式投影物镜输出的反射光，并对反射光进行关于入射角度的分光，以输出多束基于部分入射角度的分光光束；以及至少一台探测器，获取分光器输出的多束分光光束，并根据多束分光光束的偏振态参数确定待测样品表面的薄膜信息。
一种光谱测量系统

[发明专利]椭偏测量装置和用于获取待测对象的表面信息的方法-CN202310188020.5在审
发明人：王瑜;杨峰;吕彤欣;韩景珊 -专利权人：睿励科学仪器（上海）有限公司
申请日： 2023-02-28 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本公开的实施例提供一种椭偏测量装置和用于获取待测对象的表面信息的方法。其中椭偏测量装置包括：偏振光束提供装置，用于提供多个平行的偏振光束；第一离轴抛物面镜，用于将多个平行的偏振光束反射以便多个被反射后的第一光束聚焦在待测对象的表面上的目标点，每一个偏振光束与对应的第一光束之间的夹角为锐角；第二离轴抛物面镜，用于将被反射后的第一光束经由待测对象的表面反射后形成的多个第二光束反射，以形成多个平行的第三光束，每一个第二光束与对应的第三光束之间的夹角为锐角；以及验偏装置，用于对多个平行的第三光束验偏。本公开的实施例能够显著减小偏振光束入射至离轴抛物面镜的入射角度，从而有效保证偏振光束的偏振态。
测量装置用于获取对象表面信息方法

[发明专利]光谱椭偏测量方法、系统及存储介质-CN202310325048.9在审
发明人：韩景珊;王瑜;杨峰;吕彤欣 -专利权人：睿励科学仪器（上海）有限公司
申请日： 2023-03-29 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： G01N21/21 文献下载
摘要：本发明提供一种光谱椭偏测量方法、系统及存储介质。所述方法包括以下步骤：获取多组基于不同入射角度照射待测样品，并经由所述待测样品反射采集的实测光谱数据；将各组所述实测光谱数据代入预先建立的理论光谱模型，以分别确定基于各所述入射角度的实测椭偏函数值；改变所述理论光谱模型的膜层厚度参数，以分别获得对应各所述入射角度及多种候选膜层厚度的理论椭偏函数值；将关于各所述入射角度的理论椭偏函数值，分别与对应的实测椭偏函数值进行对比及误差分析，以确定光谱拟合误差；以及根据所述光谱拟合误差，确定所述待测样品表面的薄膜信息。
光谱测量方法系统存储介质

[发明专利]基于脉冲激光的椭偏量测装置及相关的光操作方法-CN202211590013.X有效
发明人： 吕彤欣;韩景珊;杨峰 -专利权人：睿励科学仪器（上海）有限公司
申请日： 2022-12-12 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本公开提供了一种基于脉冲激光的椭偏量测装置以及相关的光操作方法。该装置被配置为能够操作选择地在椭偏量测模式下工作，所述椭偏量测装置特别地包括：锁相放大模块，其被配置成接收来自于样品的第一检测信号，并且基于所述第一调制信号作为参考信号，以通过对所述第一检测信号的锁相放大，来产生经噪声处理的第一检测信号；以及控制和处理模块，其被配置成基于所述经噪声处理的第一检测信号，获得与所述样品的特性相关的信息。
基于脉冲激光椭偏量测装置相关操作方法

[实用新型]一种高效可靠的环控装置及泛半导体设备-CN202220372677.8有效
发明人：杨峰;熊金磊;孙思华;邱青菊;吕彤欣 -专利权人：睿励科学仪器（上海）有限公司
申请日： 2022-02-23 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G05D23/20 文献下载
摘要：本申请实施例的目的是提供一种高效可靠的环控装置及泛半导体设备。本申请实施例提供了一种用于控制局部环境的装置，所述装置包括气源装置、过滤装置、调压装置、第一稳压装置、第二稳压装置和抽气气源装置；其中，所述过滤装置用于对进气气体进行过滤；所述调压装置用于设置进气气体压力；所述第一稳压装置用于降低进气气体的压力波动；其中，所述第二稳压装置用于引导目标区域的气流方向。本申请实施例具有以下优点：通过在设备局部使用过滤装置、气体温控装置、第一稳压腔和第二稳压腔等装置，在样品附近形成恒温稳定气流，保证样品附近洁净度，将样品附近空气温度控制在需求范围。
一种高效可靠装置半导体设备

[发明专利]一种光学检测装置和检测方法-CN202210215042.1在审
发明人：杨峰;毛宗钦;朱强铭;吕彤欣;其他发明人请求不公开姓名 -专利权人：睿励科学仪器（上海）有限公司
申请日： 2022-03-07 - 公布日： 2022-07-22 - 主分类号： G01N21/59 文献下载
摘要：本申请实施例的目的是提供一种光学检测装置和检测方法。本申请实施例的装置包括光学组件、真空腔组件和运动平台组件；其中，所述光学组件包括光源装置、反射镜、反射镜调节架和传感装置；其中，所述光学组件包括光源装置、反射镜、反射镜调节架和传感装置；其中，所述运动平台组件包括线性运动平台和薄膜卡盘。本申请实施例具有以下优点：能够提供高洁净度的检测环境，保证样品的高洁净度；使用与薄膜实际使用工况相同光源对其进行检测，能够提升检测的准确度。
一种光学检测装置方法

[发明专利]一种基于同步参考光校正的椭偏测量系统-CN202111570272.1在审
发明人：牛晓海;黄建华;尚振华;姚岭;邱青菊;吴博文;吕彤欣 -专利权人：睿励科学仪器（上海）有限公司
申请日： 2021-12-21 - 公布日： 2022-05-03 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本申请提供了一种基于同步参考光校正的椭偏测量系统，该系统中在起偏器之后设置有分光器，该分光器能够将起偏器出射的线偏振光分成不同方向的测量光和参考光，所述参考光照射到所述第二探测器，所述测量光沿着入射光束的方向经过待检测样品反射最终由第一探测器捕获，处理器可对所述第一探测器和所述第二探测器同步测量的光强进行收集和处理，由于参考光与测量光来自于同一方向的线偏振光，因此能够使用参考光来有效地实时校正光源强度波动，提高系统测量稳定性，从而实现了具备超高稳定度的椭偏测量系统。
一种基于同步参考校正测量系统

[发明专利]光谱椭偏仪-CN200780022259.4有效
发明人： 吕彤欣;王笑寒 -专利权人：睿励科学仪器（上海）有限公司
申请日： 2007-04-24 - 公布日： 2009-06-24 - 主分类号： H01Q19/06 文献下载
摘要：本发明揭示了一种光学测量和/或检测装置，其在一个应用中可用来检测半导体器件。本发明揭示了一种在椭偏仪中用于获取待测器件信息的方法，其中包括以下步骤：使用多个起偏器提供多个入射偏振光束，其中每一个光束在一个设定好的偏振角下被起偏；使用一个抛物面反射器将该多个入射偏振光束聚焦在待测器件上某一点；使用一个抛物面反射器收集从该待测器件上反射的多个光束；使用多个检偏器检偏该收集到的光束，其中每一个检偏器具有设定好的与相应起偏器相对应的偏振角。
光谱椭偏仪

[发明专利]图像转动装置及其应用-CN200780022269.8无效
发明人： 吕彤欣;王笑寒 -专利权人：睿励科学仪器（上海）有限公司
申请日： 2007-07-31 - 公布日： 2009-06-24 - 主分类号： G01N21/00 文献下载
摘要：本发明揭示了一种检测待测器件的光学检测装置，该装置包括光源、图像旋转器、抛物面反射器以及一个或多个探测器，其中，所述光源提供一光束，该光束穿过所述图像旋转器并反射离开所述抛物面反射器，照射到待测器件上产生离开该待测器件的衍射光束，所述衍射光束再次反射离开所述抛物面反射器并穿过所述图像旋转器，被所述探测器接收。
图像转动装置及其应用

[发明专利]光学聚焦装置-CN200780021283.6无效
发明人： 吕彤欣;王笑寒 -专利权人：睿励科学仪器（上海）有限公司
申请日： 2007-04-16 - 公布日： 2009-06-24 - 主分类号： G01N21/55 文献下载
摘要：本发明揭示了一种光学测量和/或检测装置，在应用中可用来检测半导体器件。它包括：光源，用于提供光线；具有内反射面的半抛物面反射器，其中，该反射器具有焦点和概要轴。一个待测器件置于该焦点附近。进入反射器的平行于所述概要轴的入射光线被导向至焦点并在该待测器件上反射离开，从而产生指示该待测器件的信息，然后，反射光线离开该反射器。探测器收集反射出来的光线并对其进行分析从而确定该待测器件的特征。
光学聚焦装置

[发明专利]同时具有多波长、多入射角和多方位角的光学测量系统-CN200780016961.X有效
发明人： 吕彤欣;王笑寒 -专利权人：睿励科学仪器（上海）有限公司
申请日： 2007-05-10 - 公布日： 2009-05-27 - 主分类号： G01N21/55 文献下载
摘要：本发明揭示了一种光学测量和/或检测装置，该装置在一个应用中可被用来检测半导体器件。它包括：光源，用以提供入射光线；具有内反射面的半抛物面反射器，其中，所述反射器具有焦点和概要轴；和置于焦点附近的待测器件。和反射器的对称轴平行的入射光线进入反射器后，将被导向到焦点以及从待测器件上反射离开，从而产生表示该待测器件的指示信息，然后反射光线离开该反射器。探测器阵列接收反射出来的光线，该光线可被分析以确定待测器件的特征。
同时具有波长入射角多方位光学测量系统

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