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[实用新型]一种具备冷却装置的弧靶-CN202121709850.0有效
发明人：向必忠;温海涛 -专利权人： 厦门铭意真空科技有限公司
申请日： 2021-07-26 - 公布日： 2022-01-14 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：一种具备冷却装置的弧靶，其特征在于：包括引弧装置、法兰、冷却装置、靶材、磁铁盒、绝缘隔板、护圈、护圈上盖；所述冷却装置装置包括主体、上盖、芯棒；本实用新型设置冷却装置对弧靶进行降温，降温效果好，镀制膜效果佳，设置超大的冷却水道进一步提升降温的效果，同时冷却水道中部设置挡水板，使得进水和出水不会出现混合碰撞的情况，提升冷却的效果。
一种具备冷却装置

[实用新型]一种弧靶用磁铁组-CN202121709971.5有效
发明人：向必忠;温海涛 -专利权人： 厦门铭意真空科技有限公司
申请日： 2021-07-26 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：一种弧靶用磁铁组，其特征在于：包括底座、支架、上盖、若干磁铁；所述支架呈圆柱形，其端面上开设若干安装孔用于安装所述磁铁；所述安装孔分为若干组，均布的开设在所述支架上；相邻两组的安装孔之间呈错位分布；所述支架中部开设通孔Ⅰ；所述支架安装在所述底座上，使用上盖固定；本实用新型采用多组相互错位的安装孔安装磁铁，形成多圈的磁铁组结构，可以让弧光工作范围扩大，有效工作距离增加，提高了镀膜效率，并且使得材料利用率更高，颜色的重复再现性更好。
一种弧靶用磁铁

[实用新型]一种新型电磁铁组弧靶-CN202121722881.X有效
发明人：向必忠;温海涛 -专利权人： 厦门铭意真空科技有限公司
申请日： 2021-07-27 - 公布日： 2021-12-31 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：一种新型电磁铁组弧靶，包括引弧装置、法兰、冷却装置、靶材、绝缘隔板，其特征在于：还包含一电磁铁组；所述电磁铁组套装在所述冷却装置的芯棒Ⅰ上，使用紧固螺母紧固固定；所述电磁铁组包含底座、电磁线圈、上盖；所述底座呈圆盘性，其中心开孔Ⅰ，表面上均布若干凸起，每个凸起上套装一个电磁线圈；所述上盖安装在所述电磁线圈上，使用螺丝Ⅰ与凸起连接，并紧固所述电磁线圈。本实用新型采用电磁铁组结构，可以调节电流和电压的大小，通过电能变化影响磁能变化，并与靶材材料进行匹配，自动线性控制弧光，使得镀层更加致密、结合力好，耐磨、耐腐蚀性能大大提升，材料利用率更高，颜色的重复再现性更好。
一种新型电磁铁组弧靶

[发明专利]一种铵钨青铜纳米棒及其制备方法-CN202010168754.3有效
发明人：邓顺柳;邓思敏;张乃荣;向必忠;温海涛;谢素原 -专利权人：厦门大学;厦门铭意真空科技有限公司
申请日： 2020-03-12 - 公布日： 2021-03-19 - 主分类号： C01G41/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种铵钨青铜纳米棒及其制备方法，其制备方法包括以下步骤：(1)将钨酸分散在极性有机溶剂中，加入一定量铵盐或氮的氢化物，超声分散均匀；(2)将分散液转移至反应釜中，然后将反应釜置于烘箱中进行溶剂热反应；(3)反应结束，待产物自然冷却至室温后进行离心分离，并用乙醇洗涤数次，经真空干燥得到铵钨青铜纳米棒。本发明的铵钨青铜纳米棒合成方法简单、成本低廉、生产效率高，得到的铵钨青铜纳米棒直径为15～30nm，长度为70～300nm。
一种青铜纳米及其制备方法

[实用新型]一种新型研磨抛光设备-CN201921640884.1有效
发明人：向必忠;温海涛 -专利权人： 厦门铭意真空科技有限公司
申请日： 2019-09-29 - 公布日： 2020-05-19 - 主分类号： B24B31/02 文献下载
摘要：一种新型研磨抛光设备，其特征在于：包括机架、料筒、升降装置、旋转装置、控制箱、上下料装置；所述料筒上面开口，放置在机架上，用于盛放磨料；所述料筒侧面设置把手；所述上下料装置由若干滚筒组成，安装在机架上，置于所述料筒的下方；所述控制箱安装在机架上，位于机架侧面；所述升降装置安装机架上，位于所述料筒的上方；所述旋转装置安装在所述升降装置上。本实用新型的旋转装置设置电机Ⅱ、旋转轴Ⅰ、转轴Ⅱ、旋转盘，电机Ⅱ驱动旋转轴Ⅰ、旋转盘、转轴Ⅱ、工件绕旋转轴Ⅰ的轴心转动的同时，通过齿轮的啮合传动，带动转轴Ⅱ及工件绕转轴Ⅱ的轴心转动，实现了工件在抛光研磨作业过程中自转与公转，工件处理的效果好。
一种新型研磨抛光设备

[实用新型]一种阴极电弧及溅射沉积源-CN201921145191.5有效
发明人：向必忠;温海涛 -专利权人： 厦门铭意真空科技有限公司
申请日： 2019-07-22 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： C23C14/35 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种阴极电弧及溅射沉积源，包括法兰盘、牙套、靶材、屏蔽组件、绝缘隔板、引弧装置、冷却板和磁场可调的磁力装置。牙套固设在法兰盘顶部中心处，靶材固定安装牙套内，屏蔽组件固设在靶材外侧，绝缘隔板固设在屏蔽组件的外侧。引弧装置包括引弧发生器、放电针和活动栓，引弧发生器固定在法兰盘上，放电针设在靶材的上方，冷却板固设在法兰盘的底部，冷却板的内部设有循环冷却水路，冷却板的底部设有分别与循环冷却水路相连通的进水口和出水口，磁力装置固定安装在冷却板底部。本实用新型可通过磁力装置来调整磁场的大小，进而使得弧斑在工件上产生不同沉积效果；阴极座与法兰盘合二为一，冷却水路一体化，结构简单且冷却效果佳。
一种阴极电弧溅射沉积

[发明专利]一种新型研磨抛光设备-CN201910930962.X在审
发明人：向必忠;温海涛 -专利权人： 厦门铭意真空科技有限公司
申请日： 2019-09-29 - 公布日： 2019-12-06 - 主分类号： B24B31/02 文献下载
摘要：一种新型研磨抛光设备，其特征在于：包括机架、料筒、升降装置、旋转装置、控制箱、上下料装置；所述料筒上面开口，放置在机架上，用于盛放磨料；所述料筒侧面设置把手；所述上下料装置由若干滚筒组成，安装在机架上，置于所述料筒的下方；所述控制箱安装在机架上，位于机架侧面；所述升降装置安装机架上，位于所述料筒的上方；所述旋转装置安装在所述升降装置上。本发明的旋转装置设置电机Ⅱ、旋转轴Ⅰ、转轴Ⅱ、旋转盘，电机Ⅱ驱动旋转轴Ⅰ、旋转盘、转轴Ⅱ、工件绕旋转轴Ⅰ的轴心转动的同时，通过齿轮的啮合传动，带动转轴Ⅱ及工件绕转轴Ⅱ的轴心转动，实现了工件在抛光研磨作业过程中自转与公转，工件处理的效果好。
料筒升降装置旋转装置转轴上下料装置轴心转动控制箱旋转盘旋转轴电机磨料研磨抛光设备驱动旋转轴安装机架侧面设置带动转轴工件处理机架侧面啮合传动抛光研磨上面开口作业过程齿轮滚筒自转盛放把手