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[发明专利]用于防止流体的渗透和泄漏的多层且多环的密封件-CN202180072424.7在审
发明人： 卡尔·弗雷德里克·利瑟;布兰得利·泰勒·施特伦;尼克·拉伊·小林百格 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-10-18 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种密封件包含第一带状构件、第二带状构件、以及桥接构件，所述密封件用于防止流体通过所述密封件与第一主体之间的第一界面。第一带状构件在所述第一带状构件的第一侧限定第一带状密封表面。所述第一带状构件被配置成在被挤压至所述第一主体时与所述第一主体一起提供第一流体密封。第二带状构件在所述第二带状构件的第一侧限定第二带状密封表面，所述第二带状构件被配置成在被挤压至所述第一主体时与所述第一主体一起提供第二流体密封。所述第一带状构件和所述第二带状构件至少部分地在所述第一带状构件与所述第二带状构件之间限定空腔。桥接构件延伸通过所述空腔并且将所述第一带状构件连接至所述第二带状构件。
用于防止流体渗透泄漏多层密封件

[发明专利]具有晶片定心功能的旋转转位器-CN202280005406.1在审
发明人：布莱恩·路易斯·拉特里夫;理查德·M·布兰克;斯蒂芬·托平;卡尔·弗雷德里克·利瑟 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2022-04-22 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供旋转转位器，其允许与多站腔室内的每个晶片基座到基座传送操作相关联地执行逐个晶片的居中。一种这样的旋转转位器具有可沿一个或多个横向方向移动的旋转中心轴线，以提供晶片居中能力；为此类实现方案提供了具有横向移动能力的密封装置。另一种这样的旋转转位器在转位器的晶片支撑件处使用额外的旋转能力，结合晶片在转位器的晶片支撑件上的有意偏心放置，以提供晶片居中能力。
具有晶片定心功能旋转转位器

[发明专利]半导体工具布置-CN202280005052.0在审
发明人： 卡尔·弗雷德里克·利瑟 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2022-04-27 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：各种示例包括半导体处理工具的布置。在一个示例中，半导体处理工具包括多个多站式模块，每个模块具有多个处理站。处理站中的至少一些被组织成菱形布置。真空传送模块耦合到每个多站式模块。真空传送模块具有一个或多个真空传送机械手以将衬底往来于多个处理站中的至少一个传送。至少一个附加处理站位于真空传送模块中。公开了其他系统和装置。
半导体工具布置

[发明专利]具有可旋转顶板组件的多站工具-CN202180044560.5在审
发明人： 卡尔·弗雷德里克·利瑟;阿德里安·拉沃伊 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-10-26 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：提供了具有多站处理室的半导体处理工具，其包括转动轴承机构，该转动轴承机构允许半导体处理工具的顶板组件在维修和保养操作期间转动。在一些实现方案中，可提供竖直位移机构，该竖直位移机构可用于将顶板组件在第一配置与第二配置之间转变，其中顶板组件至少在第二配置中是可转动的。
具有旋转顶板组件工具

[发明专利]间歇性停滞流-CN202180047012.8在审
发明人：道格拉斯·L·凯尔;爱丽丝·G·霍利斯特;卡尔·弗雷德里克·利瑟 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2023-03-14 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：一种从反应室清除残留沉积物的方法包括从远程等离子体源(RPS)通过直接输送将清洗气体供应至所述反应室。所述清洗气体在所述反应室中形成多个气流流线。每个流线起始于用于接收清洗气体的注入点，并终止于耦接至用于排空清洗气体的前线的室泵口。修改所述清洗气体的流动特性，以使所述气流流线的至少一部分重定向，以在所述反应室的内周附近循环，从而清除残留沉积物或加强清洗物向待清洁表面扩散。所述内周沿着所述反应室的一个或多个垂直面设置，所述一个或多个垂直面正交于包括所述注入点的水平面。
间歇性停滞

[发明专利]透过传感器效应的数字反演的射频功率的准确确定-CN202180045807.5在审
发明人：阿施施·索拉卜;卡尔·弗雷德里克·利瑟 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-06-22 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： G01R19/252 文献下载
摘要：一种装置可包含能测量耦合至装置的一或多个处理站的功率的一或多个测量传感器。所述装置可额外包含耦合至一或多个测量传感器中的对应一者的输出端口的一或多个模数转换器，所述模数转换器可以提供通过一或多个测量传感器所测量到的RF信号的数字表示。耦合至存储器的处理器可确定信号的数字表示与参考信号水平的相交点，并且可因此确定RF信号的频率内容及特性，其可使一或多个测量传感器的相位迟延失效。
透过传感器效应数字反演射频功率准确确定

[发明专利]热传递阀挠曲件和方法-CN202180042309.5在审
发明人： 卡尔·弗雷德里克·利瑟 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-08-30 - 公布日： 2023-02-14 - 主分类号： F16K49/00 文献下载
摘要：在一些示例中，提供了一种用于流动控制阀的阀挠曲件。一种示例性的阀挠曲件包含：第一隔膜；第二隔膜，所述第二隔膜围绕所述阀挠曲件的周边部分直接或间接地连接至所述第一隔膜，连接的所述第一隔膜和所述第二隔膜包围所述阀挠曲件的内容积；以及热传递介质，其设置在所述阀挠曲件的所述内容积内。
传递挠曲方法

[发明专利]经由吹扫环防止局部化的等离子电弧-CN202180043943.0在审
发明人： 卡尔·弗雷德里克·利瑟;布兰得利·约翰·贝克;阿伦·克沙瓦穆尔蒂;萨珊·罗汉姆 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-10-22 - 公布日： 2023-02-14 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：一种吹扫环，其包括被配置用于接收气体的供应端口。外部通道连接到供应端口。出口网络被配置用于接近吹扫环内径的气体出口流。吹扫环包括多个通道，其被配置用于使气体沿径向方向从外部通道流向出口网络。吹扫环包括多个过道，其被配置用于减少在外部通道和出口网络之间沿径向方向的气体流。多个通道和多个过道被配置用于提供穿过出口网络圆周的均匀压力的气体出口流。
经由吹扫环防止局部等离子电弧

[发明专利]用于平衡多站系统中的等离子体的模块化配方控制校准(MRCC)装置-CN202210741688.3在审
发明人：埃勒·Y·朱科;卡尔·弗雷德里克·利瑟;大卫·弗伦奇;苏尼尔·卡普尔;亚伦·宾汉;大卫·艾伦·梅茨;布雷特·赫尔齐格;雅各布·L·海斯特;布莱恩·奈特 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2019-08-28 - 公布日： 2023-01-13 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种用于平衡多站系统中的等离子体的模块化配方控制校准(MRCC)装置。其中一种调谐射频(RF)功率的电路包括低频至中频(LF/HF)调谐电路，所述调谐电路包括与LF/MF电感器串联耦合的可变LF/MF电容器。LF/MF调谐电路耦合于接地和配置为接收RF输入的公共节点之间。所述电路包括并联耦合至LF/MF调谐电路的高频(HF)调谐电路，所述LF/MF调谐电路在接地和公共节点之间。HF调谐电路包括与HF电感器串联耦合的可变HF电容器。当调整可变LF/MF电容器或可变HF电容器时，在LF/MF调谐电路的LF/MF电感器与HF调谐电路的HF电感器之间发生交叉并联隔离。
用于平衡系统中的等离子体模块化配方控制校准 mrcc 装置

[发明专利]具有散热器的高温衬底支撑件-CN202180014767.8在审
发明人：拉梅什·钱德拉塞卡拉;卡尔·弗雷德里克·利瑟;克里斯多夫·盖奇;塞舒·尼玛拉;兰基山·拉奥·林加姆帕利;乔尔·霍林斯沃思;文森特·布克哈特;威廉·拉弗蒂;谢尔盖·格奥尔吉耶维奇·别洛斯托茨基 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-02-17 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：一种用于衬底支撑件的基板包含：加热器层，其被配置成选择性加热所述基板；以及散热器，其被设置在所述加热器层和所述基板的上表面之间。所述散热器被配置成将所述加热器层提供的热能分布至所述整个基板。所述基板包含第一材料，所述第一材料具有第一热膨胀系数(CTE)和第一热传导率。所述散热器包含第二材料，所述第二材料具有第二CTE以及大于所述第一热传导率的第二热传导率。
具有散热器高温衬底支撑

[发明专利]处理室的原位表面涂层-CN202180013050.1在审
发明人：杰弗里·沃马克;卡尔·弗雷德里克·利瑟;柯蒂斯·W·贝利;基思·约瑟夫·马丁;里格尔·马丁·布鲁宁;尼克·雷·小莱恩巴格 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2021-02-04 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：一种反应器系统包括处理室、气体入口和分配器。分配器耦合到气体入口。分配器控制从管形瓶到气体入口的气流。管形瓶包括涂层材料，涂层材料当在反应系统的操作条件下在处理室内释放时，涂覆处理室的内壁。
处理原位表面涂层

[发明专利]单片式各向异性衬底支撑件-CN202080088821.9在审
发明人：乔尔·霍林斯沃思;兰基山·拉奥·林加姆帕利;卡尔·弗雷德里克·利瑟;斯蒂芬·托平;诺亚·埃利奥特·贝克 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2020-10-20 - 公布日： 2022-08-02 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：衬底支撑件包括单片式各向异性主体，其包括第一层、第二层和中间层。第一层由第一材料形成并且其中设置有RF和夹持电极。第二层由第一材料或第二材料形成，其中设置有加热元件。中间层由与第一层和第二层不同的材料形成，使得以下至少一者实现：中间层的热能传导率不同于第一或第二材料中的至少一者的热能传导率；或者，中间层的电导率不同于第一材料或第二材料中的至少一者的电导率。或者中间层设置在第一层和第二层之间，或者第二层设置在第一层和中间层之间。
单片各向异性衬底支撑

[发明专利]用于平衡多站系统中的等离子体的模块化配方控制校准(MRCC)装置-CN201980072652.7有效
发明人：埃勒·Y·朱科;卡尔·弗雷德里克·利瑟;大卫·弗伦奇;苏尼尔·卡普尔;亚伦·宾汉;大卫·艾伦·梅茨;布雷特·赫尔齐格;雅各布·L·海斯特;布莱恩·奈特 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2019-08-28 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种调谐射频(RF)功率的电路。所述电路包括低频至中频(LF/HF)调谐电路，所述调谐电路包括与LF/MF电感器串联耦合的可变LF/MF电容器。LF/MF调谐电路耦合于接地和配置为接收RF输入的公共节点之间。所述电路包括并联耦合至LF/MF调谐电路的高频(HF)调谐电路，所述LF/MF调谐电路在接地和公共节点之间。HF调谐电路包括与HF电感器串联耦合的可变HF电容器。当调整可变LF/MF电容器或可变HF电容器时，在LF/MF调谐电路的LF/MF电感器与HF调谐电路的HF电感器之间发生交叉并联隔离。
用于平衡系统中的等离子体模块化配方控制校准 mrcc 装置

[发明专利]射频辅助等离子体生成中的阻抗变换-CN202080083903.4在审
发明人：埃勒·Y·尤科;托马斯·利·弗雷德里克;卡尔·弗雷德里克·利瑟;保罗·康科拉 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2020-12-02 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种用于向设备提供信号的设备可以包括一个或多个射频信号发生器，以及将来自一个或多个RF信号发生器的信号耦合到制造室的电气小传输线。该装置还可以包括电抗电路，以将电气小传输线的阻抗从相对高阻抗灵敏度的区域转换到相对低阻抗灵敏度的区域。
射频辅助等离子体生成中的阻抗变换

[发明专利]调谐电路中基于频率的阻抗调整-CN202080078827.8在审
发明人：斯蒂芬·托平;卡尔·弗雷德里克·利瑟;大卫·弗伦奇;吉恩·吉米·王;布兰特·亨利 -专利权人：朗姆研究公司
申请日： 2020-10-27 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种用于在处理室内处理衬底的衬底处理系统包括匹配网络、第一调谐电路和控制器。所述匹配网络从RF产生器接收具有第一频率的第一RF信号并且使所述匹配网络的输入与所述RF产生器的输出阻抗匹配。所述调谐电路不同于所述匹配网络且包含具有第一阻抗的电路部件。所述调谐电路接收所述匹配网络的输出并且将第二RF信号输出至衬底支撑件的第一电极。所述控制器确定用于所述电路部件的目标阻抗并且基于所述目标阻抗，对所述RF产生器发出信号，以将在所述匹配网络处接收到的所述第一RF信号的所述第一频率调整为第二频率，从而改变所述电路部件的所述第一阻抗以匹配所述目标阻抗。
调谐电路基于频率阻抗调整

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