专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]VB法制备超高纯多晶锗的方法-CN202210829095.2有效
  • 包文瑧;柳廷龙;普世坤;刘吉才;何永彬;刘晋 - 云南中科鑫圆晶体材料有限公司
  • 2022-07-15 - 2023-06-20 - C30B28/06
  • VB法制备超高纯多晶锗的方法,属于超高纯锗多晶制备领域。本发明的方法,包括以下步骤:采用VB法定向凝固结晶,将6‑8N纯度的锗多晶原料放入特殊处理的高纯石英坩埚内,再将其装入高纯石英管内通入高纯氢气,对6‑8N纯度的多晶锗在超高纯氢气气氛中进行高频感应加热,使其全部熔化为液体,保持高频感应加热持续不变,缓慢下降载有锗液体的高纯石英坩埚,使液体自下而上的缓慢凝固,使其中的微量杂质在固液转换的界面中,由于分凝系数不同,不断富集至晶体下部,从而把6‑8N纯度的多晶锗提纯至>12N纯度的超高纯多晶锗。
  • vb法制高纯多晶方法
  • [发明专利]一种VGF法生长磷化铟单晶的方法-CN202110802948.9有效
  • 包文瑧;柳廷龙;赵兴凯;普世坤;何永彬;叶晓达;祝永成;权忠朝 - 云南鑫耀半导体材料有限公司
  • 2021-07-15 - 2022-07-15 - C30B29/40
  • 本发明属于磷化铟单晶制备领域,具体公开一种VGF法生长磷化铟单晶的方法,包括以下步骤:采用VGF法,将原料放入坩埚内并组装单晶生长炉,进行高温退火处理;升温熔料,在加热控制程序中设置加热目标值进行加热和加压;熔种生长,设置生长温度,待籽晶熔融长度达到10‑15mm,进行转肩生长时,坩埚位置开始下降,下降速度不大于2.5mm/h,生长结束后自动停止埚位下降;降温退火,生长结束后自动进入降温退火,温度降至350℃后排空炉内气压,待炉内温度降至约150℃后打开炉门,获取单晶,本发明增加了拉速方法,使得磷化铟单晶在生长过程中的热场更均匀,垂直定向结晶更平稳,生长出的磷化铟单晶更多,晶体合格率更高。
  • 一种vgf生长磷化铟单晶方法

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