专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体存储装置及其制造方法-CN201911282806.3在审
  • 坂本涉;铃木亮太;冈本达也;加藤龙也;荒井史隆 - 东芝存储器株式会社
  • 2015-01-07 - 2020-03-31 - H01L27/11556
  • 本发明涉及半导体存储装置及其制造方法。根据一个实施例,一种半导体存储装置包括基板、设置在所述基板上且在竖直方向上延伸的半导体柱、设置在所述半导体柱的侧方且在第一方向上延伸的多个第一电极膜。所述多个第一电极膜沿着所述竖直方向彼此分离地配置。所述半导体存储装置进一步包括设置在所述半导体柱与所述第一电极膜之间的多个第二电极膜。所述多个第二电极膜沿着所述竖直方向彼此分离地配置。所述半导体存储装置进一步包括设置在所述半导体柱与所述第二电极膜之间的第一绝缘膜,以及设置在所述第二电极膜与所述第一电极膜之间的第二绝缘膜。
  • 半导体存储装置及其制造方法
  • [发明专利]半导体存储装置及其制造方法-CN201580004157.4在审
  • 坂本涉;铃木亮太;冈本达也;加藤龙也;荒井史隆 - 株式会社东芝
  • 2015-01-07 - 2016-11-23 - H01L27/115
  • 根据一个实施例,一种半导体存储装置包括基板、设置在所述基板上且在竖直方向上延伸的半导体柱、设置在所述半导体柱的侧方且在第一方向上延伸的多个第一电极膜。所述多个第一电极膜沿着所述竖直方向彼此分离地配置。所述半导体存储装置进一步包括设置在所述半导体柱与所述第一电极膜之间的多个第二电极膜。所述多个第二电极膜沿着所述竖直方向彼此分离地配置。所述半导体存储装置进一步包括设置在所述半导体柱与所述第二电极膜之间的第一绝缘膜,以及设置在所述第二电极膜与所述第一电极膜之间的第二绝缘膜。
  • 半导体存储装置及其制造方法
  • [发明专利]铁素体磁性材料、铁素体磁铁、铁素体烧结磁铁-CN201180004147.2有效
  • 柳田茂树;森宜宽;森田启之;须藤信浩;加藤龙也;皆地良彦 - TDK株式会社
  • 2011-03-15 - 2012-09-12 - C04B35/26
  • 提供可获得保持高Br和HcJ并且具有高Hk/HcJ的永久磁铁的铁素体磁性材料,以及含有该铁素体磁性材料的铁素体磁铁和铁素体烧结磁铁。铁素体磁性材料、含有该铁素体磁性材料的铁素体磁铁和铁素体烧结磁铁的特征在于,所述铁素体磁性材料具有六方晶结构的铁素体相构成的主相,具有Ca1-w-x-yRwSrxBayFezMm表示的金属元素组成,满足0.25<w<0.5、0.01<x<0.35、0.0001<y<0.013、y<x、8.7<z<9.9、1.0<w/m<2.1、0.017<m/z<0.055,至少含有Si成分作为副成分,将上述铁素体磁性材料中上述Si成分换算为SiO2的含量y1质量%在Y轴表示,将上述z与m的合计量x1在X轴表示,则x1和y1的关系在具有上述X轴和Y轴的X-Y坐标中规定的4个点包围的范围内。
  • 铁素体磁性材料磁铁烧结

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