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[发明专利]蚀刻方法和蚀刻装置-CN201811610534.0有效
发明人：浅田泰生;折居武彦;入江伸次;高桥信博;萩原彩乃;山口达也 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2018-12-27 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： H01L21/311 文献下载
摘要：本发明提供一种蚀刻方法和蚀刻装置。在向沿着横向按照含硅膜、多孔质膜、非蚀刻对象膜的顺序相邻地设置有含硅膜、多孔质膜、非蚀刻对象膜的基板供给蚀刻气体而将含硅膜去除时，防止非蚀刻对象膜的蚀刻。实施如下工序：成膜工序，在该成膜工序中，供给成膜气体(21、22)，在多孔质膜(15)的孔部(16)成膜穿过防止膜(23)，该穿过防止膜(23)用于防止对含硅膜(14)进行蚀刻的蚀刻气体(24)穿过该孔部(16)而向非蚀刻对象膜(11)供给；以及蚀刻工序，在该蚀刻工序中，在形成有穿过防止膜(23)的状态下，供给蚀刻气体(24)而对含硅膜(14)进行蚀刻。
蚀刻方法装置

[发明专利]对交替的金属和电介质具有可调选择性的含钛材料层非等离子体刻蚀-CN202080055950.8在审
发明人：伊藤大辅;苏巴迪普·卡尔;入江伸次;艾兰·莫斯登 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2020-05-06 - 公布日： 2022-03-18 - 主分类号： H01L21/3213 文献下载
摘要：实施例提供了对含钛材料层的非等离子体刻蚀，诸如气相和/或远程等离子体刻蚀，该非等离子体刻蚀对其他材料层具有可调选择性。在加工室内接收衬底，并且该衬底具有暴露的材料层，这些材料层包括含钛材料层和至少一个附加材料层。通过将该衬底暴露于包含含卤素气体的受控环境中，来相对于该含钛材料层选择性地刻蚀该附加材料层。对于一个实施例，该含卤素气体包括氟基气体。对于一个实施例，该含钛材料层是钛或氮化钛材料层。对于一个实施例，该附加材料层包括钨、氧化钨、氧化铪、氧化硅、硅锗、硅、氮化硅和/或氧化铝。可以通过调节诸如温度等工艺参数来执行相对于含钛材料层的非选择性刻蚀。
交替金属电介质具有可调选择性材料等离子体刻蚀

[发明专利]含硅膜的蚀刻方法、计算机存储介质及含硅膜的蚀刻装置-CN201910375455.4在审
发明人：折居武彦;浅田泰生;林军;萩原彩乃;入江伸次;田内启士;和田翔 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-05-07 - 公布日： 2019-11-26 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明涉及含硅膜的蚀刻方法、计算机存储介质及含硅膜的蚀刻装置。本发明的课题在于，在对基板上的含硅膜进行蚀刻时，减小蚀刻后的含硅膜的表面粗糙度；和/或，在对具有形成有孔以使蚀刻对象部分露出的图案的基板上的含硅膜进行蚀刻时，使孔的内部的蚀刻后的含硅膜的表面平坦。本蚀刻装置是对基板上的含硅膜进行蚀刻的装置，其具备如下给气部(12)：对上述含硅膜供给至少包含F₂气的第一含氟气体和至少包含ClF₃气体、IF₇气体、IF₅气体或SF₆气体的第二含氟气体两者。
含硅膜蚀刻含氟气体蚀刻装置对基板计算机存储介质表面粗糙度表面平坦给气基板减小图案

[发明专利]热处理用舟式容器和立式热处理装置-CN02825957.2有效
发明人： 入江伸次;酒井裕史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2002-09-17 - 公布日： 2005-04-20 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：本发明涉及一种热处理用舟式容器，其特征在于具有多根支柱；在所述各支柱上，沿高度方向以规定间隔形成的多个爪部；借助所述爪部，在所述多根支柱之间呈多层安装的、具有可装载被处理体的被处理体装载面的多个支承板；设置于所述被处理体装载面上的槽和贯通孔。根据本发明，由于设置于被处理体装载面上的槽和贯通孔的作用，在支承板的被处理体装载面与被处理体之间形成空气层，可抑制被处理体的粘贴。由此，即使在高温的热处理时，仍可抑制被处理体的粘贴造成的滑动。
热处理用舟式容器立式装置

[实用新型]热处理用的器皿和纵向型热处理装置-CN02292606.2无效
发明人： 入江伸次;酒井裕史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2002-12-27 - 公布日： 2005-03-09 - 主分类号： H01L21/324 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种热处理用的器皿，其特征在于，它具有下列各部分：许多根支柱；在上述各支柱上沿着高度方向隔开规定的间隔形成的许多爪部；通过上述爪部，安装在上述许多根支柱上的许多格上，具有能装载被处理物体的装载面的许多支承板；设置在上述被处理物体的装载面上的沟槽，以及设置在上述沟槽内的许多通孔。按照本实用新型，由于在被处理物体的装载面上设置了沟槽，并且在沟槽内设有许多通孔，因而能阻止在支承板的被处理物体装载面与被处理物体之间形成了一层空气层，以及被处理物体的粘附。借助于这种结构，即使在高温热处理时，也能够阻止被处理物体因粘附而发生滑移。
热处理器皿纵向装置