专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]太阳能电池镀膜设备及太阳能电池链式生产设备-CN201710435949.8有效
  • 上官泉元;庄正军;朱广东;侯岳明;杨玉杰 - 常州比太科技有限公司
  • 2017-06-09 - 2019-09-13 - H01L31/18
  • 本发明涉及太阳能电池生产技术领域,尤其是涉及一种太阳能电池镀膜设备及太阳能电池链式生产设备。太阳能电池镀膜设备包括传输装置、预热腔室、氧化腔室和镀膜腔室;传输装置用于将载板依次传输至预热腔室、氧化腔室和镀膜腔室;预热腔室的出口与氧化腔室的进口之间设置有第一封闭腔室,第一封闭腔室的内部设置有第一隔离机构,第一隔离机构用于使预热腔室与氧化腔室连通或断开;氧化腔室的出口与镀膜腔室的进口之间设置有第二封闭腔室,第二封闭腔室的内部设置有第二隔离机构,第二隔离机构用于使氧化腔室与镀膜腔室连通或断开。本发明能够在一个设备中连续对硅片进行镀膜,无需对硅片反复上料和下料,从而降低了硅片的污染程度和破碎率。
  • 太阳能电池镀膜设备链式生产
  • [发明专利]太阳能电池镀膜方法及太阳能电池-CN201710435946.4有效
  • 上官泉元;庄正军;朱广东;侯岳明;杨玉杰 - 常州比太科技有限公司
  • 2017-06-09 - 2019-03-19 - H01L31/18
  • 本发明涉及太阳能电池生产技术领域,尤其是涉及一种太阳能电池镀膜方法及太阳能电池。所述方法包括以下步骤:将放置有硅片的载板放置在传输装置上;关闭第一隔离机构,使预热腔室与氧化腔室断开,关闭第二隔离机构,使氧化腔室与镀膜腔室断开;对氧化腔室和镀膜腔室分别抽真空;将载板传送至预热腔室中,对预热腔室抽真空,对硅片进行预热;开启第一隔离机构,传输装置将载板传送至氧化腔室中,再次关闭第一隔离机构,形成氧化硅薄膜;开启第二隔离机构,将载板传送至镀膜腔室,再次关闭第二隔离机构,在镀膜腔室中沉积氮化硅薄膜、非晶硅薄膜和/或氧化铝薄膜。本发明能够在真空环境下连续完成全部的镀膜过程,降低了硅片的污染程度和破碎率。
  • 太阳能电池镀膜方法
  • [实用新型]太阳能电池镀膜设备及太阳能电池链式生产设备-CN201720671986.4有效
  • 上官泉元;庄正军;朱广东;侯岳明;杨玉杰 - 常州比太科技有限公司
  • 2017-06-09 - 2017-12-19 - H01L31/18
  • 本实用新型涉及太阳能电池生产技术领域,尤其是涉及一种太阳能电池镀膜设备及太阳能电池链式生产设备。太阳能电池镀膜设备包括传输装置、预热腔室、氧化腔室和镀膜腔室;传输装置用于将载板依次传输至预热腔室、氧化腔室和镀膜腔室;预热腔室的出口与氧化腔室的进口之间设置有第一封闭腔室,第一封闭腔室的内部设置有第一隔离机构,第一隔离机构用于使预热腔室与氧化腔室连通或断开;氧化腔室的出口与镀膜腔室的进口之间设置有第二封闭腔室,第二封闭腔室的内部设置有第二隔离机构,第二隔离机构用于使氧化腔室与镀膜腔室连通或断开。本实用新型能够在一个设备中连续对硅片镀膜,无需对硅片反复上料和下料,从而降低了硅片的污染程度和破碎率。
  • 太阳能电池镀膜设备链式生产
  • [实用新型]一种用于下镀膜的硅片载板-CN201521128976.3有效
  • 上官泉元;侯岳明;庄正军;杨玉杰;李延槐 - 常州比太科技有限公司
  • 2015-12-29 - 2016-05-25 - C23C16/458
  • 本实用新型涉及硅片载板技术领域,尤其是涉及一种用于下镀膜的硅片载板。本实用新型提供的一种用于下镀膜的硅片载板,硅片载板至少包括一个单元;每个单元包括:框架和固定片,框架的每个边框上设置有至少一个固定片,固定片的一端固定在框架下侧的表面上,固定片的另一端沿框架下侧表面向框架的内侧延伸并伸出框架的内侧表面。该硅片载板的每个单元由框架和固定片组成,固定片设置在框架的底部,固定片的上表面与框架的下表面平齐,两者之间无高度差。硅片采用下镀膜时,硅片放置在框架内,硅片的镀膜面与固定片接触,固定片支撑硅片,硅片的下表面与框架的下表面处于同一平面,硅片与载板之间无高度差,防止绕射现象,还解决了掉渣等技术问题。
  • 一种用于镀膜硅片

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