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[发明专利]触控面板传感器用导电性膜、触控面板传感器、触控面板-CN201580028793.0有效
发明人： 佐藤真隆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2015-07-01 - 公布日： 2019-04-23 - 主分类号： G06F3/041 文献下载
摘要：本发明提供密合性优异、具有能够微细化的引出配线、引出配线与检测电极的电气连接性高的触控面板传感器用导电性膜、触控面板传感器和触控面板。本发明的触控面板传感器用导电性膜具备基板、配置在基板的至少一侧的表面上的检测电极、于基板的具有检测电极的一侧表面上配置在检测电极的周边的具有与镀覆催化剂或其前体相互作用的官能团的图案状被镀覆层、配置在图案状被镀覆层上的引出配线、以及将检测电极与引出配线电气连接的导电性连接部，引出配线为通过至少具有下述工序的方法形成的配线，在该工序中，对图案状被镀覆层赋予镀覆催化剂或其前体，对于被赋予了镀覆催化剂或其前体的图案状被镀覆层进行镀覆处理。
面板传感器用导电性传感器

[发明专利]导电性薄膜、触摸面板传感器以及触摸面板-CN201680027956.8有效
发明人：东耕平;塚本直树;佐藤真隆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2016-05-26 - 公布日： 2019-04-23 - 主分类号： H01B5/14 文献下载
摘要：本发明提供一种具有由金属细线构成的网状金属层、金属细线的视觉辨认得到抑制、且金属层的导电特性优异的导电性薄膜、触摸面板传感器以及触摸面板。本发明的导电性薄膜具有：基板；图案状被镀覆层，以网状配置于基板上，且具有与镀覆催化剂或其前体相互作用的官能团；以及网状金属层，配置于图案状被镀覆层上，且由多个金属细线交叉而成，图案状被镀覆层的平均厚度为0.05～100μm，金属层的平均厚度为0.05～0.5μm，构成金属层的网的金属细线的交点的平均交点粗率为1.6以下。
导电性薄膜触摸面板传感器以及

[发明专利]含有腈基的聚合物及其合成方法、使用含有腈基的聚合物的组合物及层压体-CN201310298307.X有效
发明人：加纳丈嘉;永﨑秀雄;佐藤真隆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2007-10-22 - 公布日： 2017-04-26 - 主分类号： C08F220/34 文献下载
摘要：一种金属模型材料的制造方法，包括下列步骤(a1)在基板上形成聚合物层，该聚合物层由具有与电镀催化剂或其前体形成相互作用的官能团，并且和该基板直接化学结合的聚合物构成，和(a2)在该聚合物层上赋予电镀催化剂或其前体的步骤，和(a3)对该电镀催化剂或其前体进行电镀的步骤，和(a4)将形成的电镀膜蚀刻成呈图案状的步骤，上述聚合物层满足下述1～4的条件的全部。条件1在25℃‑50％下的饱和吸水率为0.01～10质量％，条件2在25℃‑95％下的饱和吸水率为0.05～20质量％，条件3在100℃沸水中浸渍1小时后的吸水率为0.1～30质量％，条件4在25℃‑50％下滴加5μL蒸馏水，静置15秒后的接触角为50～150度。
含有聚合物及其合成方法使用组合层压

[发明专利]非线性光学材料和使用其的非线性光学元件-CN201380017468.5有效
发明人：金子明弘;塚濑正昭;佐藤真隆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-03-27 - 公布日： 2017-04-26 - 主分类号： C07D207/44 文献下载
摘要：本发明提供具有良好的非线性光学性能、耐光性、耐升华性、耐热性、并且在电场极化时的稳定性也优异的非线性光学材料和使用其的非线性光学元件。一种有机非线性光学材料，其含有下述通式(I)所表示的化合物与高分子粘结剂。通式(I)中，R1和R2各自独立地表示取代或无取代的烷基、或者取代或无取代的芳基。R3表示氢原子、取代或无取代的烷基、或者取代或无取代的芳基。L表示将具有二氰基亚甲基的氧代吡咯啉环与氮原子经π共轭系连接、且在π共轭系含有偶氮基(‑N＝N‑)的二价连接基团。
非线性光学材料使用光学元件

[发明专利]高分子功能性膜及其制造方法-CN201480012625.8有效
发明人：安居院绫子;佐藤真隆;小玉启祐;井上和臣 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2014-03-25 - 公布日： 2017-03-22 - 主分类号： B01D71/28 文献下载
摘要：本发明提供一种高分子功能性膜及其制造方法，所述高分子功能性膜通过使含有(A)以通式(HSM)表示的苯乙烯系单体、(B)以通式(CL)表示的交联剂及(C)以通式(PI‑1)或(PI‑2)表示的聚合引发剂的组合物进行聚合固化反应而成。R1表示卤原子或‑N+(R2)(R3)(R4)(X1‑)。n1表示1～10的整数。其中，R2～R4分别独立地表示特定的取代基。X1‑表示有机或无机阴离子。L1表示亚烷基或亚烯基。Ra、Rb、Rc及Rd分别独立地表示特定的取代基。n2及n4分别独立地表示1～10的整数。X2‑及X3‑分别独立地表示有机或无机阴离子。R5～R10表示氢原子或特定的取代基。
高分子功能及其制造方法

[发明专利]迁移抑制层形成用处理液以及具有迁移抑制层的层叠体的制造方法-CN201280024295.5在审
发明人：南一守;佐藤真隆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-05-17 - 公布日： 2014-02-05 - 主分类号： H05K3/28 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种迁移层形成用处理液，其用以形成抑制配线间的铜离子的迁移，并提升配线间的绝缘可靠性的迁移抑制层。本发明的迁移抑制层形成用处理液是用以形成抑制铜配线或铜合金配线中的离子迁移的迁移抑制层的处理液，其含有唑化合物与水，且溶解氧量为7.0ppm以下。
迁移抑制形成用处以及具有层叠制造方法

[发明专利]印刷配线基板的制造方法以及印刷配线基板-CN201180052339.0有效
发明人：南高一;佐藤真隆;荻洼真也;原未奈子 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2011-10-26 - 公布日： 2013-07-10 - 主分类号： H05K3/28 文献下载
摘要：本发明的目的是提供配线间的绝缘可靠性优异的印刷配线基板的制造方法。本发明的印刷配线基板的制造方法包括：层形成步骤，使具有基板及配置于基板上的铜或铜合金配线的核心基板、与包含1,2,3-三唑及/或1,2,4-三唑且pH值显示5～12的处理液接触，然后藉由溶剂清洗核心基板，而于铜或铜合金配线表面上形成包含1,2,3-三唑及/或1,2,4-三唑的铜离子扩散抑制层；以及绝缘膜形成步骤，于层形成步骤后于设置有铜离子扩散抑制层的核心基板上形成绝缘膜。
印刷配线基板制造方法以及

[发明专利]表面金属膜材料、表面金属膜材料的制作方法、金属图案材料的制作方法及金属图案材料-CN200980152593.0有效
发明人： 佐藤真隆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2009-12-08 - 公布日： 2011-11-30 - 主分类号： B32B15/08 文献下载
摘要：一种表面金属膜材料，其中，依次具有基板、接受镀敷催化剂或其前体的聚合物层和通过镀敷形成的金属膜，当设所述基板与所述聚合物层的界面的表面粗糙度(Ra)为xμm、所述聚合物层与所述金属膜的界面的表面粗糙度(Ra)为yμm时，满足：x＞y、且5μm＞x＞0.1μm。
表面金属膜材料制作方法金属图案

[发明专利]镀催化剂的吸附方法、覆有金属层的基板的制造方法、以及这些方法中所用的镀催化液-CN200880123064.3有效
发明人： 佐藤真隆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2008-12-05 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： C23C18/30 文献下载
摘要：一种催化剂的吸附方法，包括下述工序：将光固化性组合物涂覆到基板上的工序，其中所述光固化性组合物含有具有与镀催化剂或其前体形成相互作用的基团以及聚合性基团的化合物、并且通过光固化而形成满足下述条件1和条件2的表面疏水性固化物；以图案状进行曝光，使所述组合物固化的工序；显影除去未固化物的工序；以及使含有镀催化剂或其前体以及有机溶剂的水性镀催化液与上述基板接触的工序，其中，在使含有钯的试验液与形成有所述图案状表面疏水性固化物层的基板接触时，当将形成有表面疏水性固化物层的区域中的钯的吸附量作为A mg/m2、将未形成有表面疏水性固化物层的区域中的钯的吸附量作为B mg/m2时，满足下式(A)和(B)。式(A)：10mg/m2≤A≤150mg/m2，式(B)：0mg/m2≤B≤5mg/m2。条件1：在25℃、相对湿度为50％的环境下的饱和吸水率为0.01～5质量％，条件2：在25℃、相对湿度为95％的环境下的饱和吸水率为0.05～10质量％。
催化剂吸附方法金属制造以及这些所用催化

[发明专利]镀法、形成金属薄膜的方法、以及镀催化液-CN200880123106.3无效
发明人：永崎秀雄;佐藤真隆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2008-12-19 - 公布日： 2010-12-08 - 主分类号： C23C18/20 文献下载
摘要：一种镀法，其特征在于，具有下列工序：(a)将含有催化元素和有机溶剂的镀催化液施加到表面上具有与所述催化元素形成相互作用的官能团的被镀件上的工序，以及(b)对施加有所述镀催化液的被镀件进行镀的工序。
镀法形成金属薄膜方法以及催化

[发明专利]被镀敷层形成用组合物、金属图案材料及其制作方法-CN200910178540.8有效
发明人：加纳丈嘉;佐藤真隆;河野贵胤 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2009-09-27 - 公布日： 2010-03-31 - 主分类号： C08L33/16 文献下载
摘要：本发明提供一种被镀敷层形成用组合物，其中，可以形成可利用水溶液进行显影、且对镀敷催化剂或其前体的吸附性优异的被镀敷层。另外，还提供金属图案材料的制作方法及利用该方法得到的金属图案材料，其中，使用利用水溶液进行的显影可以简便地形成与基板的密合性优异的金属图案。上述课题利用含有具有与镀敷催化剂或其前体形成相互作用的非离解性官能团、自由基聚合性基团、及离子性极性基团的聚合物的被镀敷层形成用组合物、使用其的金属图案材料的制作方法、以及由该制作方法得到的金属图案材料来达到。
被镀敷层形成组合金属图案材料及其制作方法

[发明专利]表面金属膜材料及其制造方法、金属模型材料及其制造方法、聚合物层形成用组合物、含有腈基的聚合物及其合成方法、使用含有腈基的聚合物的组合物及层压体-CN200780039405.4有效
发明人：加纳丈嘉;永﨑秀雄;佐藤真隆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2007-10-22 - 公布日： 2009-09-09 - 主分类号： B32B15/08 文献下载
摘要：一种金属模型材料的制造方法，包括下列步骤：(a1)在基板上形成聚合物层，该聚合物层由具有与电镀催化剂或其前体形成相互作用的官能团，并且和该基板直接化学结合的聚合物构成，和(a2)在该聚合物层上赋予电镀催化剂或其前体的步骤，和(a3)对该电镀催化剂或其前体进行电镀的步骤，和(a4)将形成的电镀膜蚀刻成呈图案状的步骤，上述聚合物层满足下述1～4的条件的全部。条件1：在25℃-50％下的饱和吸水率为0.01～10质量％，条件2：在25℃-95％下的饱和吸水率为0.05～20质量％，条件3：在100℃沸水中浸渍1小时后的吸水率为0.1～30质量％，条件4：在25℃-50％下滴加5μL蒸馏水，静置15秒后的接触角为50～150度。
表面金属膜材料及其制造方法金属模型材料聚合物形成组合含有合成使用层压

[发明专利]塑料光学介质和其制造方法-CN200680020366.9有效
发明人： 佐藤真隆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2006-06-06 - 公布日： 2008-06-18 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：将第一可聚合组合物注入管(30)中，然后聚合成第一层(13)。接下来，将第二可聚合组合物注入管(30)中，并聚合成第二层(14)。重复这些注入和聚合步骤，形成包括n层聚合物的光学介质(10)。通过聚合包括与其他层的其他可聚合组合物相同的多种可聚合成分的可聚合组合物而形成每一层。内侧的层由包含较大比例的可聚合成分的可聚合组合物形成，与用于形成外侧相邻层的可聚合组合物相比，所述可聚合成分比相同可聚合组合物中的至少另一种可聚合成分具有更高的折射率。相邻两聚合物层的折射率之差至少为5×10^－5，但小于5×10^－3。
塑料光学介质制造方法

[发明专利]用于形成光学装置的可聚合组合物、光学装置及制备光学装置的方法-CN200580046019.9无效
发明人：佐佐木广树;佐藤真隆;京田浩和 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2005-11-04 - 公布日： 2008-01-09 - 主分类号： C08F220/22 文献下载
摘要：一种用于形成光学装置的可聚合组合物，其包括下式(1)的可聚合单体和下式(2)的可聚合单体。式(1)其中R¹和R²各自是H或D；R³是H、D、CH₃、CD₃或卤原子；R⁴是具有2-8个碳原子的烷基，并且至少部分由氟原子取代，式(2)其中R¹和R²各自是H或D；R³是H、D、CH₃、CD₃或卤原子；X¹-X⁵各自是H、D、卤原子或CF₃，并且X¹-X⁵中至少一个是卤原子或CF₃。使用该组合物可以制备即使处于湿态时光传输能力也高，并且传输损失降低的光学装置。
用于形成光学装置聚合组合制备方法

[发明专利]具有折射率分布的塑料光学器件的制备方法-CN200580042197.4无效
发明人： 佐藤真隆 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2005-12-15 - 公布日： 2008-01-09 - 主分类号： G02B6/00 文献下载
摘要：本发明提供具有折射率分布的塑料光学器件的制备方法，其包括用至少一种不可聚合的化合物填充中空的塑料结构的中空处，所述不可聚合的化合物具有的折射率比所述塑料结构的折射率高至少0.001；使所述不可聚合的化合物扩散进入所述塑料结构中。所述方法得到了具有折射率分布的塑料光学器件，其不存在归因于热退化或解聚作用的损失增加的问题。
具有折射率分布塑料光学器件制备方法

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