专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]小分子组合物、光刻胶组合物及在基板上形成图案的方法-CN202110559806.4有效
  • 陈慧;许翔 - 上海邃铸科技有限公司
  • 2021-05-21 - 2023-10-10 - G03F7/004
  • 本发明公开一种小分子光刻胶组合物,所述小分子光刻胶组合物包括下述组分:组分1,所述组分为式1结构,式1具体如下:#imgabs0#以及组分2,所述组分2为式2结构,式2具体如下:#imgabs1#此外,本发明还公开了一种光刻胶组合物,所述光刻胶组合物含上述的小分子组合物、光酸发生剂以及有机溶剂。此外,本发明还公开了一种在基板上形成图案的方法,所述方法包括以下步骤:步骤S1:在基板上涂布上述的光刻胶组合物的薄膜;步骤S2:将薄膜放置于掩膜及光源之下曝光后形成图案;步骤S3:在步骤S2形成图案后,使用碱性显影液进行显影操作。
  • 分子组合光刻基板上形成图案方法
  • [发明专利]芳香胺卤化物及其合成方法-CN202211710481.6在审
  • 许翔 - 上海邃铸科技有限公司
  • 2022-12-29 - 2023-06-27 - C07C317/36
  • 本申请公开了一种结构式(I)所示芳香胺卤化物,及其合成方法:其中,Ar1和Ar2分别独立的为芳香环,且其中至少一个取代有卤素原子,所述卤素原子直接连接到所述芳香环上;R1和R2分别独立的为取代基,L为单键、或连接Ar1和Ar2的二价取代基;a为Ar1上取代的R1的数量,b为Ar2上取代的R2的数量,n为L的数量,并且a、b、n分别为独立的为0或正整数。本申请所述芳香胺卤化物的合成方法,反应条件温和,后处理简单,成本可控。
  • 芳香卤化物及其合成方法
  • [发明专利]一种纤维及其制备方法-CN202110558298.8有效
  • 朱荫建;许翔 - 上海邃铸科技有限公司
  • 2021-05-21 - 2023-05-09 - D01F6/78
  • 本发明涉及一种纤维及其制备方法。该纤维将二酐与二胺进行聚合反应,加入硅氧烷和酯化剂,将所得的成纤聚合物溶液通过溶液纺丝的方法挤出,先得到预取向初生纤维,再经过干燥和高温环化处理,得到高性能聚酰亚胺纤维。在聚酰亚胺大分子链上引入硅氧烷结构,硅氧烷结构不仅耐热性好,且具有一定的柔软性,将其键合到刚性较大的聚酰亚胺分子链时,利于大分子的排列取向;同时在聚合/纺丝工艺中引入酯化剂,改善氢键效应,提高大分子运动性能,最终可获得具有更好的机械性能优良,高温长时间使用性能好,热尺寸稳定性优良的聚酰亚胺纤维。
  • 一种纤维及其制备方法
  • [发明专利]一种透明纤维及其制备方法-CN202110559786.0有效
  • 朱荫建;许翔 - 上海邃铸科技有限公司
  • 2021-05-21 - 2023-05-05 - D01F6/74
  • 本发明涉及一种透明纤维及其制备方法。该透明纤维含有聚酰亚胺结构,且聚酰亚胺结构中还含有氟取代基结构;透明纤维中还含有硅氧键结构,该透明纤维在近红外光领域光透过率能达90%以上,且光折射率在1.3~1.6。硅氧键结构占整个纤维的重量比为0.5~10%,重均分子量2000以下。该透明纤维通过将二酐与二胺进行聚合反应,还加入硅氧烷结构和酯化剂,将所得的成纤聚合物溶液通过溶液纺丝的方法挤出,得到初生纤维,再经过干燥和高温环化处理,得到透明聚酰亚胺纤维。本发明中的含氟聚酰亚胺可以提高透明性,硅氧结构的存在能进一步的提高其透明性,同时工艺改善使得成纤性能较好,纺丝性能较好。
  • 一种透明纤维及其制备方法
  • [发明专利]聚合物、树脂组合物及其生产方法与应用-CN202111178280.1在审
  • 陈慧;许翔 - 上海邃铸科技有限公司
  • 2021-10-09 - 2023-04-14 - C08G73/10
  • 本申请提供一种聚合物及其形成的树脂组合物,可以制成树脂膜,具有高附着力,尤其为无机板材,尤其是硅板、玻璃基板等。本申请所述的聚合物,优选为含有如下式(II)和/或(III)所示基团:其中,R1、R2、R3分别独立地选自H、或C1‑C10的有机基团,且R1、R2、R3中至少有一个基团含有供电子基团;R4为单键、或者C1‑C10的有机基团;式(III)中,R1’为C1‑C10的有机基团,且还含有供电子基团,R4’为单键、或者C1‑C10的有机基团。同时其耐热性能良好,线性热膨胀系数(CTE)较好。
  • 聚合物树脂组合及其生产方法应用
  • [发明专利]一种聚合物及其生产方法与应用-CN202111177153.X在审
  • 陈慧;许翔 - 上海邃铸科技有限公司
  • 2021-10-09 - 2023-04-11 - C08G73/10
  • 本申请一种聚合物,所述聚合物含有至少一个如下式1和/或至少一个如下式2所示结构单元:通过控制聚酰亚胺薄膜中氟元素的含量,提高聚酰亚胺薄膜的透明性;通过控制硫元素的含量,控制聚酰亚胺薄膜的折射率范围;通过二酸酐残基及二胺残基结构以及含量的控制,减少聚酰亚胺分子内的电荷转移的量,进一步提高聚酰亚胺薄膜的透明性,并且提高薄膜的力学性能;因此,通过本申请的设计可以获得可见光区域透明性优异、耐热性能良好的聚酰亚胺薄膜。
  • 一种聚合物及其生产方法应用
  • [发明专利]一种含氟的光酸抑制剂的光刻胶-CN202110559808.3在审
  • 许翔 - 上海邃铸科技有限公司
  • 2021-05-21 - 2021-08-13 - G03F7/004
  • 本发明公开了一种含氟的光酸抑制剂的光刻胶,所述树脂组合物中包括树脂A,树脂B以及光酸发生剂C,其中,所述树脂B包括含氟的光酸抑制剂D的结构单元,且所述树脂B的重均分子量小于所述树脂A的重均分子量。此外,本发明还公开了一种光刻胶组合物,所述光刻胶组合物包括上述的树脂组合物。本发明中通过使用含氟的酸抑制剂用于控制光刻胶中光酸发生剂的分布及总量,所述的含氟的酸抑制剂可以通过其末端基团和光刻胶中树脂单体共聚的方式联接,这样就可以获得分布均匀的含氟的酸抑制剂的光刻胶树脂,在曝光显影后就可以获得优良的曝光图案。
  • 一种抑制剂光刻

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