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[发明专利]图案形成方法、光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物、抗蚀剂膜和制造电子器件的方法-CN201380039975.9有效
发明人： 上村聪;高桥秀知;加藤启太 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2013-09-19 - 公布日： 2019-05-31 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明的图案形成方法包括(i)使用光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物形成膜，所述光化射线敏感或放射线敏感树脂组合物含有具有包含能够通过归因于酸的作用的分解而生成极性基团的基团的重复单元和包含羧基的重复单元的树脂(A)，根据使用光化射线或放射线的照射生成酸的化合物(B)，以及溶剂(C)；(ii)使用KrF准分子激光、极紫外线或电子束将所述膜曝光；以及(iii)通过使用包含有机溶剂的显影液将已曝光的膜显影而形成阴图型色调图案。
光化射线放射线敏感树脂图案形成敏感电子束组合物形成电子器件极性基团极紫外线抗蚀剂膜色调图案有机溶剂曝光放射线显影液溶剂树脂显影羧基照射分解制造

[发明专利]图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、电子元件及其制造方法-CN201280068005.7有效
发明人：加藤启太;白川三千纮;高桥秀知;上村聪 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2012-11-28 - 公布日： 2017-10-24 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供图案形成方法、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、抗蚀剂膜、电子元件及其制造方法。一种图案形成方法，包含(一)使用感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜；(二)对所述膜进行曝光；及(三)使用包含有机溶剂的显影液对曝光后的所述膜进行显影而形成负型图案。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有树脂(A)，包含具有由于酸的作用分解而生成极性基的基的重复单元、以及具有芳香族基的重复单元；化合物(B)，通过照射光化射线或放射线而产生酸；及溶剂(C)。其中，树脂(A)是具有萘基等的重复单元的树脂及/或和/或所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有具有萘环等的化合物(D)。
图案形成方法感光射线放射线性树脂组合抗蚀剂膜电子元件制造

[发明专利]纤维素系树脂组合物-CN201380024353.9有效
发明人：原田昌史;山崎有司;上村聪;田中友基 -专利权人：株式会社ADEKA
申请日： 2013-05-07 - 公布日： 2017-04-26 - 主分类号： C08L1/08 文献下载
摘要：本发明提供抑制了加工时的辊污染以及由此导致的生产率的降低的纤维素系树脂组合物。一种纤维素系树脂组合物，其特征在于，其为在纤维素系树脂中添加聚酯系增塑剂而得到的纤维素系树脂组合物，聚酯系增塑剂为由多元酸和多元醇以及根据需要的阻聚剂得到、并且将分子量430以下的成分去除至5wt％以下而得到的聚酯系增塑剂。
纤维素树脂组合

[发明专利]图案形成方法及光阻组成物-CN201610793819.7在审
发明人：加藤启太;樽谷晋司;土桥彻;上村聪;榎本雄一郎;藤井佳奈;岩户薰;片冈祥平;水谷一良 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2011-03-25 - 公布日： 2016-12-07 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：本发明提供一种形成图案以确保优良的曝光宽容度(EL)以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法。所述图案形成方法包含(A)由光阻组成物形成膜；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影，藉此形成负像图案。所述光阻组成物含有(a)在受酸作用时使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP为2.5(兆帕)^1/2或2.5(兆帕)^1/2以上的树脂，(b)当曝露于光化射线或辐射时分解产生酸的化合物，以及(c)溶剂。ΔSP＝SP_F‑SP_I(1)。
图案形成方法组成

[发明专利]聚酯系增塑剂和纤维素系树脂组合物-CN201480036581.2在审
发明人：原田昌史;山崎有司;上村聪;田中友基 -专利权人：株式会社ADEKA
申请日： 2014-03-31 - 公布日： 2016-02-17 - 主分类号： C08L1/00 文献下载
摘要：提供能够抑制加工时的辊污染和由此带来的生产率的降低的纤维素系树脂组合物。一种聚酯系增塑剂，其特征在于，其由下述通式(1)表示，并且聚合度为1的成分不足5质量％。(式(1)中，n表示平均聚合度且为1.95＜n≤6，A表示直链或支链的碳数1～18的亚烷基、碳数5～12的环亚烷基、或者碳数6～18的芳香族基团，G表示直链或支链的碳数2～12的亚烷基、直链或支链的碳数4～12的具有醚键的亚烷基、碳数5～12的环亚烷基，E表示氢原子或者碳数2～10的脂肪族酰基或者碳数7～13的芳香族酰基。)
聚酯增塑剂纤维素树脂组合

[发明专利]负型图案形成方法及抗蚀剂图案-CN201180057434.X有效
发明人：加藤启太;藤井佳奈;上村聪;岩户薰 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2011-11-29 - 公布日： 2013-07-31 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：一种负型图案形成方法，包含：（i）由化学增幅型抗蚀剂组成物形成膜厚度为大于或等于200纳米的膜，所述化学增幅型抗蚀剂组成物含有（A）树脂、（B）化合物以及（C）溶剂，其中所述树脂（A）能够藉由酸的作用提高树脂（A）的极性而使树脂（A）对含有一或多种有机溶剂的显影剂的溶解性降低，所述化合物（B）能够在用光化射线或辐射照射后产生酸；（ii）使所述膜曝光从而形成经曝光的膜；以及（iii）用含有一或多种有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。
图案形成方法抗蚀剂

[发明专利]图案形成方法以及感光化射线性或感放射线性树脂组合物-CN201180025664.8有效
发明人：岩户熏;高桥秀知;平野修史;上村聪;加藤启太 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2011-05-20 - 公布日： 2013-01-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种形成图案的方法以及一种在极限解析力、粗糙度特征、曝光宽容度(EL)及桥接缺陷性能方面优越的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。所述形成图案的方法包含(1)使感光化射线性或感放射线性树脂组合物形成膜、(2)将所述膜曝光，以及(3)以含有有机溶剂的显影剂使经曝光的所述膜显影。所述感光化射线性或感放射线性树脂组合物含有(A)含有具有被设置为用以当曝露于光化射线或放射线时分解而产生酸的结构部分的重复单元的树脂，以及(B)溶剂。
图案形成方法以及感光射线放射线性树脂组合

[发明专利]图案形成方法及抗蚀剂组成物-CN201180010800.6有效
发明人：岩户薰;片冈祥平;樽谷晋司;上村聪;加藤启太;榎本雄一郎;水谷一良;土桥彻;藤井佳奈 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2011-02-24 - 公布日： 2012-12-26 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明提供一种形成图案以确保优良的感光度、限制解析力、粗糙度特性、曝光宽容度(EL)、曝光后烘烤(PEB)温度依赖性以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法以及一种用于所述方法的抗蚀剂组成物。所述方法包括(A)由包括含有重复单元的树脂的抗蚀剂组成物形成膜，其中所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团，所述树脂从而在受酸作用时降低其在含有有机溶剂的显影剂中的溶解度；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影。
图案形成方法抗蚀剂组成

[发明专利]图案形成方法及光阻组成物-CN201180015598.6无效
发明人：加藤启太;樽谷晋司;土桥彻;上村聪;榎本雄一郎;藤井佳奈;岩户薰;片冈祥平;水谷一良 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2011-03-25 - 公布日： 2012-12-12 - 主分类号： G03F7/038 文献下载
摘要：本发明提供一种形成图案以确保优良的曝光宽容度(EL)以及聚焦宽容度(聚焦深度DOF)的方法。所述图案形成方法包含(A)由光阻组成物形成膜，所述光阻组成物；(B)使所述膜曝光；以及(C)使用含有有机溶剂的显影剂使经曝光的膜显影，藉此形成负像图案。所述光阻组成物含有(a)在受酸作用时使其分解且其由下式(1)表示的ΔSP为2.5(兆帕)1/2或2.5(兆帕)1/2以上的树脂，(b)当曝露于光化射线或辐射时组成产生酸的化合物，以及(c)溶剂。ΔSP＝SPF-SPI(1)。
图案形成方法组成

[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物及使用其的图案形成方法-CN201180015971.8有效
发明人：片冈祥平;岩户薰;上村聪;土桥彻;榎本雄一郎;藤井佳奈;水谷一良;樽谷晋司;加藤启太 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2011-03-25 - 公布日： 2012-12-05 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明提供一种感光化射线性或感放射线性树脂组合物以及一种使用其的图案形成方法，从而确保在曝光后延迟(PED)期期间的极佳蚀刻抗性以及稳定性。所述组合物含有含重复单元的树脂以及当曝露于光化射线或放射线时产生pka≥-1.5的酸的化合物，所述重复单元含有在受酸作用时即分解藉此产生醇羟基的基团。
感光射线放射线性树脂组合使用图案形成方法

[发明专利]使用含有机溶剂的显影剂的图案形成方法和用于图案形成方法的漂洗溶液-CN200980147739.2有效
发明人： 上村聪;樽谷晋司 -专利权人：富士胶片株式会社
申请日： 2009-11-27 - 公布日： 2011-10-26 - 主分类号： G03F7/039 文献下载
摘要：一种图案形成方法，所述图案形成方法包括：(i)从有机溶剂系显影用抗蚀剂组合物形成抗蚀剂膜的步骤，所述抗蚀剂组合物含有(A)树脂，所述树脂能够通过酸的作用增加极性而降低在含有机溶剂的显影剂中的溶解度，和(B)能够在使用光化射线或辐射照射时产生酸的化合物；(ii)曝光步骤；(iii)显影步骤，所述显影步骤使用含有机溶剂的显影剂；和(iv)洗涤步骤，所述洗涤步骤使用漂洗溶液，其中在所述步骤(iv)中，使用至少含有如说明书中所定义的溶剂S1或S2的漂洗溶液。
使用有机溶剂显影剂图案形成方法用于漂洗溶液

[发明专利]纤维素系树脂组合物及纤维素系树脂薄膜-CN200980142009.3无效
发明人：原田昌史;山崎有司;上村聪;村上圣 -专利权人：株式会社ADEKA
申请日： 2009-08-28 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： C08L1/08 文献下载
摘要：本发明提供即使较大量地配合增塑剂也不存在渗出问题的纤维素系树脂组合物和纤维素系树脂薄膜。所述纤维素系树脂组合物是在纤维素系树脂中添加(A)聚酯系增塑剂而得到的纤维素系树脂组合物，(A)聚酯系增塑剂通过多元酸和多元醇的反应得到，多元酸的80摩尔％以上为琥珀酸和己二酸。所述纤维素系树脂薄膜由该纤维素系树脂组合物得到。
纤维素树脂组合薄膜

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