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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]安装状态提示装置和安装状态提示方法-CN201910966976.7在审
发明人：早坂直人;三原直辉;汤村香子;星屋旬祐 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-10-12 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种安装状态提示装置和安装状态提示方法。安装状态提示装置包括数据库、获取部、第一确定部、比较部和输出部。数据库对于处理装置所包含的多个部件，分别保存该部件的安装位置和朝向的信息。获取部获取由3D扫描仪取得的表示处理装置的外观的状态的第一外观数据。第一确定部基于第一外观数据，识别处理装置所包含的多个部件，对每个识别出的部件确定该部件的安装位置和朝向。比较部对每个识别出的部件，将该部件的安装位置和朝向与保存于数据库中的安装位置和朝向的信息进行比较。输出部输出比较部的比较结果。根据本发明，能够提高处理的吞吐量。
安装状态提示装置方法

[发明专利]等离子体处理用设备和等离子体处理用方法-CN201180055047.2无效
发明人：野泽俊久;田才忠;佐佐木胜;三原直辉;松本直树;茂山和基;吉川润 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-11-16 - 公布日： 2013-07-31 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：一种等离子体处理用设备，其包括：处理容器，其设置有用于载置基体的载置台；第一气体供给单元，其被构造成将第一气体供给至处理容器；第一等离子体产生单元，其被构造成将第一气体的至少一部分转化成第一等离子体；第二气体供给单元，其被构造成将第二气体供给至处理容器；和第二等离子体产生单元，其被构造成将第二气体的至少一部分转化成第二等离子体。第二气体的入口距离载置台的高度低于第一气体的入口距离载置台的高度。
等离子体处理设备方法

[发明专利]等离子体处理装置-CN201210125069.8有效
发明人：茂山和基;石桥清隆;森田治;谷川雄洋;松本直树;三原直辉;吉川弥 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-04-25 - 公布日： 2012-10-31 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子处理装置，其具备：处理容器；工作台；电介质部件；导入微波的单元；喷射器；和电场屏蔽部。处理容器在其内部划分形成处理空间。工作台设置在处理容器内。电介质部件面对工作台设置。导入微波的单元经由电介质部件将微波导入处理空间内。喷射器为电介质制，具有一个以上的贯通孔。喷射器例如由松散电介质材料构成。该喷射器配置在电介质部件的内部。喷射器与形成在电介质部件上的贯通孔一起划分形成用于向处理空间供给处理气体的路径。电场屏蔽部覆盖喷射器的周围。
等离子体处理装置

[发明专利]等离子体处理装置-CN201210082584.2无效
发明人：吉川润;松本直树;三原直辉;吉川弥;吉村正太;高桥和树 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2012-03-26 - 公布日： 2012-10-03 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种等离子体处理装置。该等离子体处理装置能够降低被处理基体的中央部分的处理速度。一个实施方式的等离子体处理装置包括：处理容器、气体供给部、微波发生器、天线、同轴波导管、保持部、电介质窗以及电介质棒。气体供给部向处理容器内供给处理气体。微波发生器发生微波。天线将等离子体激励用的微波导入处理容器内。同轴波导管设置于微波发生器与天线之间。保持部用来保持被处理基体，在同轴波导管的中心轴线延伸的方向上与天线相对配置。电介质窗设置于天线与保持部之间，且使来自天线的微波透射到处理容器内。电介质棒在保持部与电介质窗之间的区域沿着同轴波导管的中心轴线设置。
等离子体处理装置

[发明专利]等离子处理装置及供气构件支撑装置-CN201110145317.0有效
发明人： 三原直辉;周藤贤治;村上和生;古川哲史 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2011-05-24 - 公布日： 2011-11-30 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种能够确实地供给气体而进行等离子处理的等离子处理装置。等离子处理装置包括：外部气体供气构件40，具有供给等离子处理用气体的供气口；及套管部27，作为在处理容器内支撑外部气体供气构件40的供气构件支撑装置。套管部27包含：三个支撑构件44～46，以将外部气体供气构件40及侧壁连结的方式，在供气构件的延伸方向上隔开各自之间隔而设置；及安装部47～49，固定于侧壁，且可安装支撑构件。支撑构件包含：固定并安装于第一安装部47的第一支撑构件44；及以自由支撑的方式安装于第二安装部48、49的第二支撑构件45、46。
等离子处理装置供气构件支撑

[发明专利]气体供给部件以及等离子体处理装置-CN200980134206.0无效
发明人：周藤贤治;三原直辉 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2009-08-19 - 公布日： 2011-07-27 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：气体供给部件(11)包括将以环状延伸的气体流路的设置在其内部的环状部(12)。环状部(12)具备：环状的第一部件(13a)，其包括设置有供给气体的多个供给孔(19)的平板部(18)；环状的第二部件(13b)，其在与第一部件(13a)之间形成成为气体流路的空间(14)。
气体供给部件以及等离子体处理装置

[发明专利]等离子体处理装置-CN201010273923.6有效
发明人： 三原直辉;松本直树;吉川润;村上和生 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2010-09-02 - 公布日： 2011-04-06 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子体处理装置。在用于将处理气体导入到处理容器中的导入部中抑制碳系附作物的产生。本发明的等离子体处理装置(1)将被导入到处理容器(2)中的处理气体等离子体化以对衬底(W)进行处理，其中，在处理容器(2)的顶面上设有处理气体导入部(55)，在导入部(55)形成有气体滞留部(61)和多个喷气孔(66)，其中，气体滞留部(61)滞留从处理容器(2)的外部经由供应路径(52)提供的处理气体，喷气孔(66)连通气体滞留部(61)和处理容器(2)内部，在气体滞留部(61)中，与供应路径(52)的开口部(52a)相对的位置上没有设置喷气孔(66)，喷气孔(66)的截面为扁平形状。
等离子体处理装置

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