专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]半导体存储器及其制造方法和驱动方法-CN01137865.4无效
  • 三井田高 - 伊诺太科株式会社
  • 2001-11-09 - 2004-08-18 - H01L27/105
  • 一种双位非易失可编程读/写存储器,包括半导体存储元件,该元件包括一导电类型半导体衬底21,其上形成有侧表面相对的凸状部分24a、在凸部两侧的衬底表面上形成的一对相反导电类型源/漏区23a、23b、覆盖凸部上表面的第一绝缘膜22a、覆盖凸部侧表面和源/漏区23a、23b的第二绝缘膜22、在凸部侧表面上分别设置的经由第二绝缘膜与侧表面和源/漏区相对的一对浮置栅27a、27b、在浮置栅上形成的第三绝缘膜29以及分别经由第一绝缘膜与凸部上表面相对和经由第三绝缘膜与浮置栅相对的控制栅30a。
  • 半导体存储器及其制造方法驱动
  • [发明专利]检测光信号的方法-CN03142737.5无效
  • 三井田高 - 伊诺太科株式会社
  • 1998-12-18 - 2004-05-12 - H01L21/66
  • 本发明是使用成象器件检测光信号的方法,该方法包括以下步骤:通过信号光在光电二极管的阱区(15)中产生光生空穴,通过大部分阱区(15)把光生空穴转移到形成在源区(16)附近的阱区(15)中的重掺杂掩埋层(25)中,重掺杂掩埋层(25)用比绝缘栅FET的阱区(15)重的杂质掺杂,在重掺杂掩埋层(25)中储存光生空穴,由此与光生电荷的量相对应改变FET的阈值电压,读取阈值电压的变化,作为被光传感器接收的信号光的量。
  • 检测信号方法
  • [发明专利]固态成像设备及其激励方法-CN01101278.1无效
  • 三井田高 - 伊诺太科株式会社
  • 2001-01-05 - 2001-07-18 - H01L27/14
  • 本发明公开了一种固态成像设备,包括一个单位像素,该单位像素包括一个光电二极管和一个用于光信号检测的MOS晶体管,MOS晶体管设有高密度埋层,用于存储在光电二极管中由光辐照生成的光照生成电荷,纵向扫描信号驱动扫描电路用于输出一个扫描信号到栅极,以及升压扫描电路用于输出一个高于电源电压的升压到源区。升压从该升压扫描电路被施加到源区,存储在高密度埋层中的光照生成电荷通过由该升压增高的源电压和栅压被从高密度埋层中清除。
  • 固态成像设备及其激励方法

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