专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光刻胶去除剂组合物-CN201880002643.6有效
  • 吴恒鹏 - 默克专利股份有限公司
  • 2018-10-31 - 2021-10-29 - G03F7/42
  • 本发明涉及去除剂组合物,其包含四烷基氢氧化铵、苄型醇、包含至少一种二醇化合物的二醇组分,和烷基胺组分,其中所述烷基胺组分选自二烷基胺、具有拥有结构(I)的结构的单烷基胺和它们的组合,其中,在所述二烷基胺中,该烷基基团之一为C‑1至C‑4正烷基且另一个烷基基团为C‑16至C‑20正烷基,对于所述单烷基胺来说,m’和m独立地选自范围在4‑8的整数。本发明还涉及使用这些组合物从基材去除图案化的光刻胶的方法。
  • 光刻去除组合

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