专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]集成电路图案化的方法-CN202110178492.3在审
  • 黄净惠;邱雅文;谭伦光 - 台湾积体电路制造股份有限公司
  • 2021-02-09 - 2021-10-01 - H01L21/308
  • 本发明的实施例公开了一种集成电路图案化的方法包括:形成抗蚀剂图案,该抗蚀剂图案具有沿着第一方向纵向定向并且由抗蚀剂壁沿着第一方向和垂直于第一方向的第二方向两者分离的沟槽。该方法还包括:将抗蚀剂图案装载到离子注入机中,从而使抗蚀剂图案的顶面面向离子传播方向;以及将抗蚀剂图案倾斜,从而使离子传播方向相对于垂直于抗蚀剂图案的顶面的轴线形成倾斜角。该方法还包括:将抗蚀剂图案围绕轴线旋转到第一位置;在抗蚀剂图案处于第一位置的情况下将离子注入到抗蚀剂壁中;将抗蚀剂图案围绕轴线旋转180度到第二位置;以及在抗蚀剂图案处于第二位置的情况下将离子注入到抗蚀剂壁中。
  • 集成电路图案方法

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