专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]石膏材料-CN201410408021.7有效
  • L·伽乐兹;J-P·勒康特;M-J·萨拉辛;M·施鲍特 - 陶氏康宁公司
  • 2009-05-26 - 2017-06-30 - C04B28/14
  • 本发明涉及一种疏水石膏和一种使石膏疏水的方法,尤其涉及粉末疏水添加剂,疏水石膏组合物以及使用含有有机硅混合物的颗粒作为疏水添加剂制备疏水石膏的方法。本发明提供了一种使石膏材料疏水的粒状添加剂,包括在其上沉积有有机硅组分的粒状载体,粘结剂聚合物和用于有机硅组分的乳化剂。这样的粒状疏水添加剂能够向用于其的石膏材料提供高的初始疏水性,且获得的疏水性可持续很长一段时间。
  • 石膏材料
  • [发明专利]CVD前体-CN201310392992.2有效
  • 周晓兵 - 陶氏康宁公司
  • 2009-08-11 - 2013-12-25 - C07F7/10
  • 一种通过热聚合反应性气体混合物二氨基硅杂环丁烷和选自供氮气体、供氧气体及其混合物的源气体而生产含硅薄膜的方法。沉积的薄膜可以是氮化硅、碳氮化硅、二氧化硅或碳掺杂二氧化硅。这些薄膜适用于作为半导体器件中的介电层,钝化涂层,防护涂层,隔板,衬里和/或应激体。
  • cvd
  • [发明专利]生产具有改善的载流子寿命的基底的方法-CN201210002807.X有效
  • G·钟;M·罗伯达 - 陶氏康宁公司
  • 2007-07-17 - 2012-06-27 - C30B25/02
  • 本发明涉及在基底上沉积碳化硅材料的方法,使得所得基底具有0.5-1000微秒的载流子寿命,所述方法包括:a.将包括氯代硅烷气体、含碳气体和氢气的气体混合物引入到含有基底的反应室中;和b.将基底加热到大于1000℃但小于2000℃的温度;条件是反应室内的压力保持在0.1-760托的范围内。本发明还涉及在基底上沉积碳化硅材料的方法,使得所得基底具有0.5-1000微秒的载流子寿命,所述方法包括:a.将包括非氯化的含硅气体、氯化氢、含碳气体和氢气的气体混合物引入到含有基底的反应室中;和b.将基底加热到大于1000℃但小于2000℃的温度;条件是反应室内的压力保持在0.1-760托的范围内。
  • 生产具有改善载流子寿命基底方法
  • [发明专利]乙烯基氢聚硅氧烷粘合剂组合物-CN201080019734.4无效
  • N·格里尔;M·肖普;须藤通孝;B·钟;朱弼忠 - 陶氏康宁公司
  • 2010-04-06 - 2012-04-11 - C08G77/12
  • 提供了一种乙烯基氢聚硅氧烷。所述乙烯基氢聚硅氧烷包含具有至少两个与硅键合的氢原子和至少两个与硅键合的乙烯基的有机基聚硅氧烷。作为乙烯基氢聚硅氧烷中硅原子总数的分数,约25%-约90%的硅原子键合至氢原子,约10%-约45%键合至乙烯基。与硅键合的氢基的数量和与硅键合的乙烯基的数量的比为约1.3-约6。还提供了一种硅氧烷组合物,其包含至少一种乙烯基氢聚硅氧烷和氢化硅烷化催化剂;一种硅氧烷粘合剂,其包含至少一种乙烯基氢聚硅氧烷的固化产物;和一种层压体,其包括至少一种所述硅氧烷粘合剂。当经受高温或直接燃烧时,所述乙烯基氢聚硅氧烷形成保持对各种基底的粘合性的炭。
  • 乙烯基氢聚硅氧烷粘合剂组合

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