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[发明专利]无轴离心泵的磁体转子以及无轴离心泵-CN201910602490.5有效
发明人：朱小凡;陈章晏;张文福;刘家桦;叶日铨 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-07-04 - 公布日： 2021-01-22 - 主分类号： H02K1/27 文献下载
摘要：本发明提供一种无轴离心泵的磁体转子，所述磁体转子包括磁体以及包围所述磁体的保护涂层，所述保护涂层为具有一定厚度且在所述厚度内具有多个中空的腔室的结构。本发明还提供一种无轴离心泵，所述无轴离心泵包括：泵体，具有流体入口和流体出口；以及叶轮，布置在所述泵体内，所述叶轮包括所述磁体转子。根据本发明的磁体转子通过将保护涂层设置成具有多个中空的腔室的结构，对磁体转子的磁体提供更有效的保护。
离心泵磁体转子以及

[实用新型]多任务清洗装置-CN201921026467.8有效
发明人：王永昌;陈章晏;丁洋;崔亚东;颜超仁 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-07-03 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： B08B3/08 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种多任务清洗装置，所述多任务清洗装置包括壳体，壳体表面设置有液体输入端口、气体输入端口及至少两个输出端口；壳体内设置有气体总管道和液体总管道，液体总管道的一端连接液体输入端口，另一端与多个第一支管道的输入端连接，气体总管道的一端连接气体输入端口，另一端与多个第二支管道的输入端连接，每个第一支管道和第二支管道上均设置有开关阀；每个第一支管道的输出端和第二支管道的输出端分别连接三通管件的两个输入端，每个三通管件的输出端通过一个输出管道连接一个输出端口。本实用新型提供的多任务清洗装置可以同时执行多个清洗任务，相对于逐个对清洗对象进行清洗的方法，可以显著提高清洗效率，缩短清洗时间。
任务清洗装置

[实用新型]一种晶圆清洗装置-CN201921078514.3有效
发明人：丁洋;陈章晏;颜超仁 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-07-10 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种晶圆清洗装置，包括承载盘，用于承载晶圆并带动所述晶圆旋转；以及喷嘴，用于向所述晶圆表面提供清洗液，以清洗所述晶圆，所述喷嘴在所述晶圆所在平面的正投影位于所述晶圆外部。所述喷嘴停止喷洒后喷嘴上存留的清洗液在滴落时不会滴落到所述晶圆的表面，即防止了“偷滴”现象的发生，提高了晶圆的良率，降低了生产成本。
一种清洗装置

[实用新型]一种湿法刻蚀设备-CN201921178762.5有效
发明人：郑涛;陈章晏;丁洋;颜超仁 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-07-24 - 公布日： 2020-03-10 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种湿法刻蚀设备，具有晶圆搬送装置以及用于对所述晶圆搬送装置所具有的夹持部进行清洗的清洗装置，所述清洗装置包括：清洗槽，用于盛装清洗液；以及清洗单元，用于清洗浸泡于所述清洗液内的所述夹持部，所述清洗单元具有与所述夹持部位置相对应的清洗部，所述清洗部能够对所述夹持部的表面进行摩擦，既提高了清洗的效率，又保证了清洗的洁净度。
一种湿法刻蚀设备

[实用新型]一种湿法工艺清洗腔室结晶的装置-CN201921081322.8有效
发明人：颜超仁;陈章晏;郑涛;丁洋 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-07-11 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种湿法工艺清洗腔室结晶的装置，包括：旋转基座；第一喷嘴，所述第一喷嘴设置在所述旋转基座上；多个第二喷嘴，所述多个第二喷嘴设置在所述旋转基座的边缘处，围绕所述旋转基座中心成同心圆对称分布；晶圆支撑座，所述晶圆支撑座位于所述旋转基座上方，用于承载和/或夹持晶圆进行清洗；杯状集液与排液区，所述杯状集液与排液区构成清洗腔室的侧壁，用于防止化学品溅出，并收集排除采用化学品；进液装置，所述进液装置与所述第一喷嘴、第二喷嘴相连，用于向所述第一喷嘴、第二喷嘴提供清洗液体；以及排液装置，所述排液装置与所述杯状集液与排液区相连，用于排除残余的化学品。
喷嘴旋转基座化学品排液区杯状集液晶圆进液装置排液装置清洗腔室支撑座清洗同心圆本实用新型对称分布湿法工艺边缘处残余的侧壁夹持溅出承载

[实用新型]冲洗臂结构及使用该冲洗臂结构的晶片清洗系统-CN201921136650.3有效
发明人：颜超仁;陈章晏;云巴图 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-07-19 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种冲洗臂结构及使用该冲洗臂结构的晶片清洗系统。该系统包括：旋转底座；一个或多个扫描喷嘴，所述扫描喷嘴设置在旋转底座上方；冲洗臂，所述冲洗臂设置在扫描喷嘴上方，包括呈八字形分布两个中空柱体，所述中空柱体的一侧开有多个出水孔，所述中空柱体的另一侧具有入水口，所述中空柱体固定在支架上，所述中空柱体设置在旋转底座上方，且能够旋转，以便调整喷水的角度，并且通过设置入水的流量使冲洗臂的喷射范围保持在旋转底座的正上方。
中空柱体冲洗臂旋转底座扫描喷嘴晶片清洗系统八字形分布本实用新型出水孔入水口入水支架喷射

[实用新型]晶圆清洗装置-CN201920901746.8有效
发明人：卢思源;陈章晏;云巴图;颜超仁 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-06-14 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种晶圆清洗装置。所述晶圆清洗装置包括：支撑台，用于承载晶圆；屏蔽板，与所述支撑台同轴设置，且位于所述支撑台上方；第一喷孔，位于所述屏蔽板的中心，用于向所述晶圆喷射清洗液；多个第二喷孔，位于所述屏蔽板上，用于向所述晶圆喷射干燥气体。本实用新型提供的晶圆清洗装置，通过在所述屏蔽板的中心设置用于喷射清洗液的第一喷孔，从而使得在使用干燥气体干燥晶圆的过程中，即使所述屏蔽板旋转，也不会使得清洗液在离心力的作用下被甩出，避免了对晶圆造成二次污染，提高了晶圆清洗装置的清洗效果。
屏蔽板晶圆晶圆清洗装置清洗液喷孔本实用新型支撑台喷射半导体制造技术喷射干燥气体二次污染干燥气体清洗效果清洗装置同轴设置中心设置甩出种晶承载支撑

[实用新型]晶圆湿法清洗装置-CN201920902888.6有效
发明人：云巴图;陈章晏;丁洋;颜超仁 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-06-14 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种晶圆湿法清洗装置。所述晶圆湿法清洗装置包括：清洗槽，用于容纳待清洗的晶圆；第一喷嘴，用于向所述晶圆表面喷射第一清洗液；第二喷嘴，与所述第一喷嘴连接，用于向所述晶圆表面喷射第二清洗液；在沿所述第一喷嘴的喷射方向上，所述第一喷嘴贯穿所述第二喷嘴。本实用新型减少了晶圆清洗过程各种喷嘴往复运动的时间，提高了晶圆的清洗效率。
喷嘴晶圆湿法清洗装置本实用新型晶圆表面清洗液喷射半导体制造技术晶圆清洗喷射方向清洗效率清洗槽种晶清洗容纳贯穿

[实用新型]IO盒拆卸检修辅助装置-CN201920956897.3有效
发明人：颜超仁;陈章晏;丁洋 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-06-24 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：该实用新型涉及一种IO盒拆卸检修辅助装置，包括：安装台，用于安装待拆卸的IO盒；支撑架，连接至所述安装台，用于支撑安装至所述安装台的所述IO盒，使所述IO盒的空间位置固定。以上IO盒拆卸检修辅助装置具有支撑架，能够将所述安装台上安装的待拆卸的IO盒顶起，使所述IO盒的空间位置固定，便于用户对所述IO盒内的部件进行维护、检修，十分方便。并且，在使用所述IO盒拆卸检修辅助装置时，无需将所述IO盒内的电缆、线缆等完全拆卸下来，只需拆卸部分必须要拆卸的电缆、线缆，因此大大缩短了对IO盒内的部件进行检修、维护时所需的时间。
拆卸检修辅助装置安装台空间位置支撑架线缆电缆检修盒顶维护支撑

[实用新型]机械手臂及晶圆清洗装置-CN201920961459.6有效
发明人：丁洋;陈章晏;颜超仁 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-06-24 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种机械手臂及晶圆清洗装置。所述机械手臂包括：第一手臂，具有用于承载一晶圆的第一承载部，且所述第一承载部中具有一镂空部；第二手臂，具有用于承载所述晶圆的第二承载部；驱动结构，连接所述第二手臂，用于驱动所述第二承载部进行水平翻转运动；所述驱动结构还用于驱动所述第二承载部沿竖直方向进行升降运动，以穿过所述镂空部。本实用新型无需设置额外的翻转单元，节省了机台空间，进而减小了机台的占地面积；同时，也降低了晶圆损伤的风险。
承载晶圆手臂本实用新型机械手臂驱动结构镂空部半导体制造技术机台晶圆清洗装置驱动翻转单元机台空间升降运动水平翻转减小竖直损伤穿过

[实用新型]化学品过滤器清洗装置-CN201920414313.X有效
发明人：朱小凡;陈章晏;张文福;刘家桦;叶日铨 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-03-28 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： B01D29/66 文献下载
摘要：本实用新型提供一种化学品过滤器清洗装置，包括：过滤器；清洗装置进液管路；与过滤器连通的过滤器进液管路及过滤器出液管路；与过滤器进液管路连通的第一排液管路；与过滤器出液管路连通第二排液管路；第一三通阀、第二三通阀及第三三通阀。本装置实现了在不需要拆卸过滤器的情况下对过滤器的自动清洗；另外，可以通过调节第一三通阀、第二三通阀及第三三通阀的通断实现对过滤器冲洗方向的任意选择，从而达到良好的冲洗效果；通过设置水阻计及压力计，可使系统自动化控制清洗装置进液管路的供液，同时通过水阻计及压力计的数字化监控方式，提高对过滤器清洗精度的控制。
过滤器三通阀进液管路连通出液管路排液管路清洗装置压力计水阻冲洗过滤器清洗装置本实用新型过滤器清洗数字化监控系统自动化装置实现自动清洗化学品拆卸供液通断

[实用新型]一种排气管路及制程设备-CN201920204577.2有效
发明人：朱小凡;陈章晏;张文福;刘家桦;叶日铨 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-02-15 - 公布日： 2020-01-14 - 主分类号： B08B9/032 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种排气管路及制程设备，该排气管路包括排气管和清洗组件；所述排气管的进气口用于与制程单元的出气口相连通；所述清洗组件设置于所述排气管内，并位于所述排气管靠近所述制程单元的一端；所述清洗组件用于对所述排气管的内壁进行清洗。本实用新型能够有效消除排气管内部的结晶状况，保证排气管内不会有化学品残留，有效延长了排气管的使用寿命，减少了排气管的维护时间，进而可以有效降低生产成本。该制程设备包括上述的排气管路，由于排气管内部不易堵塞，由此可以大大改善制程设备的内部环境。
排气管排气管路清洗组件制程设备本实用新型制程进气口结晶状况内部环境使用寿命出气口化学品内壁清洗残留堵塞保证维护

[实用新型]一种用于湿法工艺的内部循环装置-CN201920673734.4有效
发明人：丁洋;陈章晏;郑涛;颜超仁 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-05-10 - 公布日： 2019-11-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种用于湿法工艺的内部循环装置，包括：输入管道，其一端被配置为能够与物料输出管道连接，另一端通过三通管接头与回流管道和输出管道连接；回流管道，其一端通过三通管接头与输入管道连接，另一端被配置为能够与物料罐连接，其中在回流管道中布置有止回阀以用于防止物料在从物料罐到三通管接头的方向上流动；以及输出管道，其一端通过三通管接头与输入管道连接，另一端被配置为能够与湿法工艺设备连接。通过该装置，可以在出现气泡或其它异常情况时将物料回流到物料罐中，从而防止气泡对湿法工艺产生影响。
三通管接头回流管道湿法工艺输入管道内部循环装置输出管道物料罐配置湿法工艺设备物料输出管道本实用新型物料回流止回阀流动

[实用新型]化学品槽和晶圆处理设备-CN201920385647.9有效
发明人：丁洋;崔亚东;王永昌;陈章晏;颜超仁 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-03-25 - 公布日： 2019-10-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：该实用新型涉及一种化学品槽和晶圆处理设备，其中化学品槽包括：槽体，用于盛放化学品；补水管路，连通至槽体，用于向槽体内通入水；排酸管路，连通至槽体，用于排出槽体内的化学品；第一磁性堵头，设置到补水管路的入口，用于在磁力的作用下堵住补水管路的入口，防止水经由补水管路进入槽体；第二磁性堵头，设置到排酸管路的出口，用于在磁力的作用下堵住排酸管路的出口，防止化学品经由排酸管路从槽体内排出；电磁装置，设置于两磁性堵头之间，用于在通电时给两磁性堵头提供磁力。上述化学品槽和晶圆处理设备在电磁装置掉电时即刻向槽体内通入水以及将槽体内的化学品排出，防止槽体内的化学品滞留。
化学品体内补水管路磁性堵头化学品槽排酸晶圆处理设备磁力槽体电磁装置排出入水连通堵住防止槽进入槽排出槽从槽掉电盛放出口通电滞留

[实用新型]晶圆清洗装置-CN201920402742.5有效
发明人：崔亚东;陈章晏;颜超仁;卢思源;王永昌 -专利权人：德淮半导体有限公司
申请日： 2019-03-27 - 公布日： 2019-10-15 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种晶圆清洗装置。所述晶圆清洗装置包括：清洗槽；支撑台，位于所述清洗槽内，具有用于承载晶圆的承载面；至少一喷嘴，在沿垂直于所述承载面的方向上，所述喷嘴设置于所述支撑台上方，用于向所述清洗槽内喷射吹扫气体；至少一第一排气口，设置于所述清洗槽的内侧壁，用于排出所述清洗槽内的废气。本实用新型避免了酸碱性废气在晶圆上方的滞留，防止了晶圆被二次污染，改善了晶圆的清洗效果。
清洗槽晶圆晶圆清洗装置本实用新型喷嘴废气半导体制造技术承载第一排气口吹扫气体二次污染清洗效果清洗装置承载面内侧壁酸碱性支撑台排出种晶喷射垂直滞留支撑

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