“陈培良”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果92个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]一种可以提高光伏玻璃透光率的刻蚀添加剂及刻蚀方法-CN202310914793.7在审
发明人：牛志敏;叶云飞;章圆圆;陈培良 -专利权人：常州时创能源股份有限公司
申请日： 2023-07-25 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明公开一种可以提高光伏玻璃透光率的刻蚀添加剂及刻蚀方法，刻蚀添加剂包括如下质量分数的组分：无机盐3.0～5.0%、有机溶剂1.0～2.0%、加速剂0.1～0.5%以及余量水；加速剂用于缩减光伏玻璃刻蚀时间，且加速剂可电离出氢氧根离子。刻蚀方法包括：S1、配制光伏玻璃刻蚀用碱液；S2、将刻蚀添加剂与碱液混合，得到玻璃刻蚀液；S3、将光伏玻璃置于玻璃刻蚀液中刻蚀，然后清洗光伏玻璃表面，完成刻蚀。本发明的方法能够在光伏玻璃上刻蚀出片状的微结构，这些片状的微结构紧密相连形成大面积的网状结构；这样的网状结构能够表现出一定的绒面效果且具有合适的折射率，从而有效降低了玻璃的反射率，提高了透射光，能使得光伏玻璃的平均透光率能增加5%左右。
一种可以提高玻璃透光率刻蚀添加剂方法

[发明专利]一种用于硅片臭氧清洗的添加剂及其应用-CN202310774009.7在审
发明人：徐海舰;龚晨宇;章圆圆;陈培良 -专利权人：常州时创能源股份有限公司
申请日： 2023-06-28 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： C11D1/72 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于硅片臭氧清洗的添加剂及其应用，该添加剂包括复配的软水剂盐、助氧化剂、低泡表面活性剂。通过采用本发明的添加剂，提高了臭氧清洗的效果，扩大了硅片臭氧清洗的适用范围，达到增强臭氧清洗效果，进而降低硅片外观不良率、提高电池效率的目的。
一种用于硅片臭氧清洗添加剂及其应用

[发明专利]一种动力电池包的外制热和制冷装置-CN202310777671.8在审
发明人： 陈培良 -专利权人： 陈培良
申请日： 2023-06-28 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： H01M10/613 文献下载
摘要：本发明提供一种动力电池包的外制热和制冷装置，包括，顶部能够打开和封闭的带有容纳腔室的外壳体和设置于外壳体内部位于动力电池下方的制冷制热一体式控温装置；通过制冷制热一体式控温装置对动力电池在不同的温度环境下进行自动的温度调控，制冷制热一体式控温装置所采用的制冷为通过轴流风机外引空气制冷和/或采用空调压缩机制冷，制冷过程中产生的换热气体通过轴流风机外排，制热为气体内循环，加热方式为通过轴流风机吹电热丝对气体加热。
一种动力电池制热制冷装置

[发明专利]一种光伏玻璃刻蚀用添加剂及其应用-CN202310231176.7在审
发明人：牛志敏;于胤;章圆圆;陈培良 -专利权人：常州时创能源股份有限公司
申请日： 2023-01-17 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本发明提供了一种光伏玻璃刻蚀用添加剂及其应用，属于光伏技术领域；本发明提供的光伏玻璃刻蚀用添加剂能够采用简单且低成本的化学腐蚀的方法在玻璃板上制备出类金字塔结构，进而在光伏玻璃表面形成绒面，降低光伏玻璃的反射率、增加光的透射、提升光伏组件的功率；所述光伏玻璃刻蚀用添加剂原料简单易得，制备方法简单，能够有效降低绒面光伏玻璃的制备成本，具有很高的应用价值。
一种玻璃刻蚀添加剂及其应用

[发明专利]一种硅片背抛光用添加剂及其应用-CN202211017572.1有效
发明人：许秀典;马洁;章圆圆;陈培良 -专利权人：常州时创能源股份有限公司
申请日： 2022-08-23 - 公布日： 2023-06-02 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅片背抛光用添加剂，其各组分的质量百分含量为：保护成分0.01～0.05%，加速成分1%～3%，选择性腐蚀剂0.1%～0.5%，余量为水。在单晶硅片背抛光的抛光液中添加本发明的添加剂，能使硅片背面的金字塔绒面变为塔基状，且能使塔基的边线和顶面变的粗糙，增加塔基的比表面积和粗糙度，这样更利于背面浆料与背抛绒面结构形成紧密接触，可提高丝网印刷过程中浆料对硅片的附着力，使浆料与硅片接触良好，从而降低背面光生载流子的复合，提升少子寿命，同时提升钝化效果，进而减少外观不良，效率也可提高，并满足TOPCon电池对背面抛光的需求。
一种硅片抛光添加剂及其应用

[发明专利]一种形貌更优的单晶硅片制绒添加剂及单晶硅片制绒方法-CN202211577568.0在审
发明人：丁俊勇;张丽娟;周树伟;徐溪;陈培良 -专利权人：常州时创能源股份有限公司
申请日： 2022-12-05 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： C30B33/10 文献下载
摘要：本发明提供了一种形貌更优的单晶硅片制绒添加剂及单晶硅片制绒方法，其特征在于，包括所述的单晶硅片制绒添加剂成分作用及含量如下：成核剂0.001~0.1wt%、主分散剂0.01~1wt%、辅助分散剂0.01~2wt%、脱泡剂5~50wt%、余量为去离子水；在单晶硅片制绒时添加本发明的添加剂能够在保证无醇、环保、快速制绒的前提下，深究金字塔的形貌特征，率先提出更优形貌的要求与方向，同时获得该类形貌；形貌包括：金字塔尺寸可调，大小相近且均匀，更大的高宽比，更大的比表面积。
一种形貌单晶硅片制绒添加剂方法

[发明专利]一种采用方形监测盘的水下土工膜监测方法-CN201810631719.3有效
发明人：陈丕华;张联洲;陈培良;徐运海;樊冰;田野;武佳枚;王松岳;从容 -专利权人：山东省水利科学研究院
申请日： 2018-06-19 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： G01D21/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种采用方形监测盘的水下土工膜监测方法，包括步骤一：在库盆或渠底水域内设置至少三行监测节点的监测节点阵列，位于首行或位于未行内部的中段监测节点采用方形监测盘，各个所述方形监测盘中包括设有的应力应变传感器，各个行内的监测节点之间连接有绳索，步骤二：各个行中的监测节点的应力应变监测装置均通过本行的控制总线与堤岸上设置的控制箱电连接；步骤三：各个信号上传至云端服务器，直至中心服务器将最先发出信号或信号峰值大的监测节点的位置坐标初步确定为土工膜形变或破损位置的坐标。本发明针对监测节点在阵列中的具体位置，采用模块化设计，满足信号采集功能的同时，降低成本，有利于具体实施和推广。
一种采用方形监测水下土工方法

[实用新型]一种内墙涂刷装置-CN202222990428.8有效
发明人：佀化鹏;陈培良;曹丽霞 -专利权人：广西国大建设工程有限公司
申请日： 2022-11-10 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： E04F21/08 文献下载
摘要：本实用新型属于涂料涂刷装置技术领域，具体涉及一种内墙涂刷装置，包括：背负式涂料桶、搅拌机构、供料泵、手持杆和涂刷件，所述背负式涂料桶顶部设有注料口；所述搅拌机构设置在所述背负式涂料桶上用于对背负式涂料桶内的物料进行搅拌；所述供料泵固定在所述背负式涂料桶内；所述手持杆为中空结构，底端通过连接软管连接所述供料泵；所述涂刷件设置在所述手持杆的顶端且可与其发生相对转动。本实用新型的内墙涂刷装置将涂料桶和手持杆分离，可以减轻手持杆的重量，便于使用者操控手持杆以便进行内墙涂刷；另外，对涂刷件的结构进行优化，可以对涂刷件的状态进行调整，拓宽了涂刷装置的适用范围。
一种内墙涂刷装置

[发明专利]一种太阳能电池的背抛绒面结构-CN202211012637.3在审
发明人：许秀典;马洁;章圆圆;陈培良 -专利权人：常州时创能源股份有限公司
申请日： 2022-08-23 - 公布日： 2022-11-11 - 主分类号： H01L31/0236 文献下载
摘要：本发明公开了一种太阳能电池的背抛绒面结构，包括由硅片背面金字塔状绒面结构经背抛后所形成的塔基状绒面结构；所述塔基的边线为粗糙边线，塔基的顶面具有粗糙结构。相比于常规背抛绒面结构的规整塔基边线和平整塔基顶面，本发明粗糙塔基边线、粗糙塔基顶面增大了塔基的比表面积和粗糙度，这样更利于背面浆料与背抛绒面结构形成紧密接触，可提高丝网印刷过程中浆料对硅片的附着力，使浆料与硅片接触良好，从而降低背面光生载流子的复合，提升少子寿命，同时提升钝化效果，进而减少外观不良，效率也可提高，并满足TOPCon电池对背面抛光的需求。
一种太阳能电池背抛绒面结构

[发明专利]一种硅片清洗用添加剂、清洗液及硅片制绒后清洗方法-CN202210513137.1在审
发明人：徐海舰;杨勇;章圆圆;陈培良 -专利权人：常州时创能源股份有限公司
申请日： 2022-05-12 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： C11D1/12 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于硅片制绒后清洗用添加剂、清洗液以及硅片制绒后清洗方法。其中硅片清洗用添加剂中各组分的质量百分含量为：3%‑5%的软水剂、3%‑6%的氧化剂、0.01%‑0.05%的低泡耐碱渗透剂、1%‑3%的缓冲剂，余量为水；其中，所述氧化剂选自于由次氯酸钠、亚氯酸钠、高氯酸钠以及过硼酸钠所组成的群组，所述低泡耐碱渗透剂为磺酸盐类表面活性剂。通过在清洗液中添加本发明的添加剂，实际生产中，能够大幅度降低了成本，并清洁更彻底，能够提高单晶电池效率0.01%‑0.05%。在降低生产成本的同时，也降低了污水处理的成本，避免了对自然水体、土壤的污染。
一种硅片清洗添加剂制绒后方法

[发明专利]硅片清洗用添加剂及其应用-CN202210513139.0在审
发明人：徐海舰;杨勇;章圆圆;陈培良 -专利权人：常州时创能源股份有限公司
申请日： 2022-05-12 - 公布日： 2022-08-05 - 主分类号： C11D1/14 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅片清洗用添加剂，其各组分的质量百分含量为：3%～5%的二氯异氰尿酸钠、3%～5%的次氯酸钠、1%～2%的乙酸钠、2%～3%的硬脂酸钠、0.05%～0.1%的低泡耐碱渗透剂，余量为水。采用本发明的添加剂，可以在硅片清洗工序中完全摒弃双氧水的使用，在保证电池片效率和良率不降低的同时，极大降低生产成本，以及后续的废水处理成本。
硅片清洗添加剂及其应用

[发明专利]一种单晶硅片背抛光用添加剂及其应用-CN202210238348.9在审
发明人：马洁;许秀典;章圆圆;陈培良 -专利权人：常州时创能源股份有限公司
申请日： 2022-03-10 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： C09G1/04 文献下载
摘要：本发明公开了一种单晶硅片背抛光用添加剂，其各组分的质量百分含量为：聚丙烯酰胺0.1%～0.5%，聚乙二醇0.05%～0.1%，聚乙烯亚胺0.1%～0.5%，羟乙基淀粉0.1%～0.5%，苯甲酸钠0.1%～0.3%，余量为去离子水。在单晶硅片背抛光的碱抛光液中添加本发明的添加剂，可在抛光过程中保护硅片正面PN结不被破坏，还能控制抛光后硅片背面的平整度和反射率。本发明抛光得到具有相对粗糙的小尺寸绒面的背面，利于背面浆料接触，避免或大大减少印刷时出现断栅的现象，提高电池转换效率。
一种单晶硅抛光添加剂及其应用

[发明专利]硅片碱抛光用添加剂及其应用-CN202111279549.5有效
发明人：裴银强;章圆圆;陈培良 -专利权人：常州时创能源股份有限公司
申请日： 2021-10-28 - 公布日： 2022-06-07 - 主分类号： C30B33/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种硅片碱抛光用添加剂，其各组分的含量为：0.5～2质量份明胶、1～2质量份丙烯酰胺、0.5～2质量份季铵盐、1～3质量份对氨基水杨酸钠、4～5质量份硫氰酸铵、3～4质量份烷基糖苷、0.1～0.3质量份苯甲酸钠、81.7～89.9质量份水。在硅片碱抛光的抛光液中添加本发明的添加剂，能改变[111]/[100]面的反应速率，抑制[100]面的反应速度，能改变硅片背面平整度，能使碱抛光后硅片背面形成相对粗糙的小尺寸塔基状结构，小幅度降低硅片背面反射率，这有利于背面浆料接触，提升浆料拉力，还能使FF得以提升，提高电池片电性能。
硅片抛光添加剂及其应用

[发明专利]一种清洗绕镀多晶硅的碱腐蚀辅助剂及其应用-CN202110679098.8有效
发明人：邓雨微;裴银强;陈培良 -专利权人：常州时创能源股份有限公司
申请日： 2021-06-18 - 公布日： 2022-05-31 - 主分类号： C09K13/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种清洗绕镀多晶硅的碱腐蚀辅助剂及其应用，碱腐蚀辅助剂中各组分的质量百分含量为：2%～5%的聚醚，1%～2.5%的阴离子表面活性剂，1%～2.5%分散剂，余量为去离子水。本发明采用配入了碱腐蚀辅助剂的碱腐蚀液去除绕镀多晶硅，代替酸腐蚀或TMAH，提高了产品良率降低了化学成本，且不存在氮排等环保问题，对人体无伤害；碱腐蚀辅助剂具有选择性吸附与缓蚀作用，可在保护金字塔结构不被破坏的情况下腐蚀去除边缘绕镀多晶硅；本发明工艺窗口宽、效率稳定，可适用于多种设备，槽式机、链式机均可使用，便于产线使用现有机台实现量产。
一种清洗多晶腐蚀辅助剂及其应用

[发明专利]单晶硅片碱抛光用添加剂及其应用-CN202110953886.1有效
发明人：杨勇;章圆圆;陈培良 -专利权人：常州时创能源股份有限公司
申请日： 2021-08-19 - 公布日： 2022-05-17 - 主分类号： C30B33/10 文献下载
摘要：本发明公开了一种单晶硅片碱抛光用添加剂，其各组分的质量百分含量为：抛光成分0.01%～1%，分散剂1%～3%，防沉剂1%～5%，保护剂0.05%～0.1%，余量为去离子水。在单晶硅片碱抛光的抛光液中添加本发明的添加剂，可使硅片的背抛面具有高平整度、低比表面积，无线痕，外观呈镜面效果，反射率高，最终电池效率提升0.03%～0.05%，满足PERC电池对抛光的需求。
单晶硅抛光添加剂及其应用

1
2
3
4
5
6
7
下一页»
尾页
共 92 条