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[发明专利]批次型衬底处理装置-CN202310195693.3在审
发明人：赵政熙;金苍乭 -专利权人：株式会社尤金科技
申请日： 2023-03-03 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种通过多个电极产生等离子体以对衬底执行处理工艺的批次型衬底处理装置。批次型衬底处理装置包括反应管、多个电极及电极保护部。所述多个电极包括：第一电力供应电极与第二电力供应电极，彼此间隔开；以及第一接地电极及第二接地电极，在第一电力供应电极与第二电力供应电极之间被设置成分别与第一电力供应电极及第二电力供应电极对应。电极保护部包括：多个第一电极保护管，分别具有其中插置有第一电力供应电极及第二电力供应电极的内空间；多个第二电极保护管，分别具有其中插置有第一接地电极及第二接地电极的内空间；以及多个桥接部，被配置成分别将彼此面对的第一电极保护管的上部端部与第二电极保护管的上部端部连接到彼此。
批次衬底处理装置

[发明专利]批次型衬底处理装置-CN202310086403.1在审
发明人：姜盛晧;金苍乭;金濬;柳锡范;郑春植 -专利权人：株式会社尤金科技
申请日： 2023-02-09 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：提供一种通过多个电极产生等离子体以对衬底执行处理工艺的批次型衬底处理装置。批次型衬底处理装置包括反应管、设置成彼此间隔开的多个电极及配置成保护多个电极的电极保护部。多个电极包括彼此间隔开的第一及第二电力供应电极及设置在第一及第二电力供应电极之间的接地电极。电极保护部包括分别设置在第一及第二电力供应电极中的多个第一电极保护管、设置在接地电极中的第二电极保护管以及配置成将多个第一电极保护管中的每一者连接到第二电极保护管的多个连接管以使多个第一电极保护管中的每一者与第二电极保护管彼此连通。
批次衬底处理装置

[发明专利]衬底处理系统-CN201910260988.8有效
发明人：姜盛晧;金苍乭;崔圭镐 -专利权人：株式会社尤金科技
申请日： 2019-04-02 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本公开提供一种衬底处理系统，包含：第一处理管道和第二处理管道，在第一轴的方向上彼此间隔开以提供彼此独立的处理空间；衬底舟，所述衬底舟上多重地堆叠多个衬底，且所述衬底舟提供到第一处理管道和第二处理管道的处理空间中的每一个；以及第一舟升降单元和第二舟升降单元，分别提供到第一处理管道和第二处理管道以提升衬底舟，其中第一舟升降单元和第二舟升降单元中的每一个包含安置在第一处理管道与第二处理管道之间的空间中的升降轴构件。本公开的衬底处理系统能够在减小其占地面积的同时通过包含多个处理管道来增加衬底处理量。
衬底处理系统

[发明专利]衬底处理设备和衬底处理方法-CN201910226229.X有效
发明人：姜盛晧;金苍乭;韩星珉;金锡允;崔圣厦 -专利权人：株式会社尤金科技
申请日： 2019-03-25 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开涉及一种衬底处理设备和衬底处理方法，且更确切地说涉及一种配置成在衬底上沉积均一薄膜的衬底处理设备和衬底处理方法。根据示范性实施例的衬底处理设备包含：反应管，具有形成于其中的内部空间；衬底舟，配置成装载多个载台中的多个衬底，且定位于内部空间中以分隔成在其中分别处理多个衬底的多个处理空间；工艺气体供应部件，配置成将工艺气体供应到多个处理空间；以及稀释气体供应部件，配置成供应用于稀释多个处理空间内的工艺气体的稀释气体。本公开可提供一种可使得分别沉积于衬底舟上所装载的多个衬底上的薄膜的厚度均一的衬底处理设备和衬底处理方法。
衬底处理设备方法

[发明专利]用于处理衬底的系统-CN202111394603.0在审
发明人： 金苍乭;南成珉 -专利权人：株式会社尤金科技
申请日： 2021-11-23 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种用于处理衬底的系统。用于处理衬底的系统包含：处理管，配置成提供用于衬底的处理空间；以及排气模块，连接到处理管的排气口以将处理空间内的处理残留物排放到外部。排气模块包含：排气管，连接到排气口；密封壳体，配置成容纳排气管的至少一部分；以及局部排气部件，设置于密封壳体中以对所述密封壳体的内部进行排气。
用于处理衬底系统

[发明专利]分批型衬底处理设备-CN202111241951.4在审
发明人：赵政熙;金苍乭 -专利权人：株式会社尤金科技
申请日： 2021-10-25 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种将在排放空间中分解的处理气体供应到处理空间中的分批型衬底处理设备，所述排放空间不同于处理空间。分批型衬底处理设备包含：反应管，配置成提供处理空间；等离子体形成部件，具有排放空间，所述排放空间通过分隔壁与处理空间区分开，且通过沿反应管的纵向方向延伸的多个电极在排放空间中产生等离子体。多个电极包含彼此间隔开的多个电源电极及设置于多个电源电极之间的多个接地电极。
分批衬底处理设备

[发明专利]用于处理衬底的装置-CN201810423887.3有效
发明人：姜盛晧;金苍乭;李相敦 -专利权人：株式会社尤金科技
申请日： 2018-05-04 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开涉及一种用于处理衬底的装置，且更具体来说涉及一种能够允许衬底处理气体在衬底上顺畅地流动的用于处理衬底的装置。根据示例性实施例的用于处理衬底的装置可通过设置在内部反应管的一侧上的气体供应单元及设置在内部反应管的面对气体供应单元的另一侧上以一直延伸到内部反应管的容置空间中基座的容置区外部的排放管道来形成层流，且控制被供应到衬底上的衬底处理气体的流动。
用于处理衬底装置

[发明专利]批量型等离子体衬底处理设备-CN201810811958.7有效
发明人：赵政熙;李弘源;姜盛晧;金苍乭;崔圭镐 -专利权人：株式会社尤金科技
申请日： 2018-07-23 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种根据示范性实施例的批量型等离子衬底处理设备，包含：第一管件，配置成提供在其中处理多个衬底的处理空间；衬底支撑部件，配置成在处理空间中的第一方向上负载多个衬底；多个气体供应部件，设置有用于供应处理衬底的过程所需的处理气体的供应端口；排气部件，配置成与第一管件连通且将处理空间内部的处理残余物排出到外部；以及等离子体反应部件，设置于第一管件外部，且配置成利用等离子体来分解由气体供应部件供应的处理气体并将分解的处理气体提供到处理空间。
批量等离子体衬底处理设备

[发明专利]批次型等离子体衬底处理装置-CN201811062609.6有效
发明人：姜盛晧;赵政熙;崔圭镐;李弘源;金苍乭 -专利权人：株式会社尤金科技
申请日： 2018-09-12 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种将在单独的空间中分解的工艺气体供应到处理空间中的批次型衬底处理装置。所述衬底处理装置包括：管材；衬底支撑部件；气体供应管道；排气部件；以及等离子体反应部件，其中所述等离子体反应部件可包括多个电源供应电极部件及接地电极部件。
批次等离子体衬底处理装置

[发明专利]衬底处理装置及使用所述衬底处理装置的衬底处理方法-CN201610916058.X有效
发明人：玄俊镇;诸成泰;宋炳奎;金龙基;金劲勋;金苍乭;申良湜;金哉佑 -专利权人：株式会社EUGENE科技
申请日： 2016-10-20 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底处理装置及使用所述衬底处理装置的衬底处理方法，且更具体而言，涉及一种能够改善参与衬底处理工艺的工艺气体的流量的衬底处理装置及使用衬底处理装置的方法。根据示例性实施例的衬底处理装置包括：预腔室，衬底被载送至预腔室中；工艺腔室，与预腔室连通且在工艺腔室中执行衬底处理工艺；衬底舟，包括多个分隔板以分隔装载空间，并进行升降，衬底被装载至装载空间中；气体供应单元，用以经由设置于工艺腔室中的多个喷射喷嘴将工艺气体供应至衬底；排放单元，用以经由界定于工艺腔室中的多个抽吸孔来排放气体；以及交换引导构件，设置于预腔室中并用以将被载送至预腔室中的衬底放置于经多个分隔板分隔的装载空间中。
衬底处理装置预腔室衬底衬底处理工艺腔室装载空间工艺气体分隔板分隔气体供应单元排放单元排放气体喷射喷嘴引导构件抽吸孔界定连通升降装载并用交换

[发明专利]衬底处理设备-CN201610600648.1有效
发明人：玄俊镇;诸成泰;宋炳奎;金龙基;金劲勋;金苍乭;申良湜;金哉佑 -专利权人：株式会社EUGENE科技
申请日： 2016-07-27 - 公布日： 2019-06-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理设备，包含：管，其提供内部空间，在所述内部空间中处理衬底；衬底支撑部分，其在管的内部空间中以多层堆叠多个衬底；气体供应部分，其将处理气体供应到多个衬底；排气部分，其安置成面向气体供应部分以吸收处理气体；以及流动调节部分，其具有沿着在气体供应部分与排气部分之间的管的圆周形成的喷洒开口以喷洒调节气体，并且能够通过调节处理气体的流动控制供应到衬底的上表面的处理气体的量，可以改进衬底处理过程的效率。
衬底处理设备

[发明专利]衬底处理设备-CN201610600078.6有效
发明人：玄俊镇;诸成泰;宋炳奎;金龙基;金劲勋;金苍乭;申良湜;金哉佑 -专利权人：株式会社EUGENE科技
申请日： 2016-07-27 - 公布日： 2019-02-15 - 主分类号： C30B25/14 文献下载
摘要：本发明提供一种衬底处理设备，衬底处理设备包含：管子，其中具有内部空间；衬底支撑单元，其包括多个隔板，多个隔板经配置以将多个衬底垂直堆栈于其上并且将其中处理多个衬底的处理空间在管子中分成多个处理空间；气体供应单元，其经配置以将处理气体供应到多个衬底；以及排气单元，其经安置以面对着气体供应单元来排出管子内部的气体。多个通孔界定于隔板中的每一个中。本发明提供的衬底处理设备能够在衬底上均匀地形成薄膜。
衬底处理设备

[发明专利]用于处理衬底的设备-CN201510037225.9有效
发明人：玄俊镇;宋炳奎;金劲勳;金龙基;申良湜;金苍乭 -专利权人：株式会社EUGENE科技
申请日： 2015-01-26 - 公布日： 2019-01-11 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种用于处理衬底的设备。在其中对衬底执行工艺的用于处理衬底的所述设备包含：下部腔室，所述下部腔室在其一侧中具有开放的上部及通道，可通过所述通道接近衬底；外部反应管，其经设置以关闭下部腔室的开放的上部，进而提供在其中执行所述工艺的工艺空间；衬底固持器，至少衬底垂直地堆叠在其中，所述衬底固持器在堆叠位置与工艺位置之间切换，在所述堆叠位置中，衬底堆叠在衬底固持器中，在所述工艺位置中，对衬底执行所述工艺；以及气体供应单元，其安置在外部反应管中以将反应气体供应到反应区中，进而产生在垂直方向上具有彼此不同的相位差的反应气体气流。该设备根据高度在不同温度下加热工艺空间，能够提高衬底处理生产量。
用于处理衬底设备

[发明专利]衬底输送机器人和使用该衬底输送机器人的衬底处理设备-CN201510076200.X有效
发明人：玄俊镇;宋炳奎;金劲勋;金龙基;申良湜;金苍乭 -专利权人：株式会社EUGENE科技
申请日： 2015-02-12 - 公布日： 2017-11-14 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明涉及一种衬底输送机器人和用该衬底输送机器人的衬底处理设备，该衬底处理设备可包括真空锁腔室，从外部输送的衬底布置在真空锁腔室中，并且真空锁腔室的内部状态变为真空状态和大气压力状态；衬底处理模块，在衬底处理模块中对衬底执行处理；输送室，衬底在该输送室中被输送，输送室布置在真空锁腔室和衬底处理模块之间；和衬底输送机器人，该衬底输送机器人安装在输送室内并输送衬底。
衬底输送机器人和使用机器人处理设备

[发明专利]基板处理装置-CN201410811437.3在审
发明人：宋炳奎;金劲勋;金龙基;申良湜;金苍乭;申昌勋;金恩德 -专利权人：株式会社EUGENE科技
申请日： 2014-12-19 - 公布日： 2015-06-24 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种基板处理装置，包括：腔室，该腔室提供内部空间，在该内部空间中，基板通过通道传递，并在基板上执行工艺，并且该腔室具有将气体供应至基板的供应口；以及基座，该基座安装在内部空间中，并且该基座包括对基板进行加热的加热区域和对从供应口供应的气体进行预加热的预加热区域。
处理装置

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