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专利名称

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申请人
公布日期

农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]批次型衬底处理设备-CN202010355257.4有效
发明人：赵政熙 -专利权人： 株式会社尤金科技
申请日： 2020-04-29 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种批次型衬底处理设备。批次型衬底处理设备包含：筒，配置成提供处理空间；隔离壁，配置成提供其中产生等离子的放电空间；气体供应管，配置成将工艺气体供应到放电空间；以及多个电极，配置成在放电空间中产生等离子。多个电极中的至少一个安置于隔离壁外部，且多个电极中的至少一个安置于隔离壁内部。
批次衬底处理设备

[发明专利]批次型衬底处理装置-CN202310195693.3在审
发明人：赵政熙;金苍乭 -专利权人： 株式会社尤金科技
申请日： 2023-03-03 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种通过多个电极产生等离子体以对衬底执行处理工艺的批次型衬底处理装置。批次型衬底处理装置包括反应管、多个电极及电极保护部。所述多个电极包括：第一电力供应电极与第二电力供应电极，彼此间隔开；以及第一接地电极及第二接地电极，在第一电力供应电极与第二电力供应电极之间被设置成分别与第一电力供应电极及第二电力供应电极对应。电极保护部包括：多个第一电极保护管，分别具有其中插置有第一电力供应电极及第二电力供应电极的内空间；多个第二电极保护管，分别具有其中插置有第一接地电极及第二接地电极的内空间；以及多个桥接部，被配置成分别将彼此面对的第一电极保护管的上部端部与第二电极保护管的上部端部连接到彼此。
批次衬底处理装置

[发明专利]批次型衬底处理装置-CN202310086403.1在审
发明人：姜盛晧;金苍乭;金濬;柳锡范;郑春植 -专利权人： 株式会社尤金科技
申请日： 2023-02-09 - 公布日： 2023-08-11 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：提供一种通过多个电极产生等离子体以对衬底执行处理工艺的批次型衬底处理装置。批次型衬底处理装置包括反应管、设置成彼此间隔开的多个电极及配置成保护多个电极的电极保护部。多个电极包括彼此间隔开的第一及第二电力供应电极及设置在第一及第二电力供应电极之间的接地电极。电极保护部包括分别设置在第一及第二电力供应电极中的多个第一电极保护管、设置在接地电极中的第二电极保护管以及配置成将多个第一电极保护管中的每一者连接到第二电极保护管的多个连接管以使多个第一电极保护管中的每一者与第二电极保护管彼此连通。
批次衬底处理装置

[发明专利]批次型衬底处理设备-CN202010357457.3有效
发明人：赵政熙 -专利权人： 株式会社尤金科技
申请日： 2020-04-29 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种批次型衬底处理设备。所述批次型衬底处理设备包括：筒，被配置成提供处理空间；分隔壁，被配置成提供在其中产生等离子体的放电空间；气体供应管，被配置成向所述放电空间供应工艺气体；以及多个电极，设置在所述筒外，以在所述放电空间中产生所述等离子体。所述筒具有从所述筒的最外圆周表面向内凹陷的多个凹槽，且所述多个电极分别容置在所述多个凹槽中。
批次衬底处理设备

[发明专利]衬底处理系统-CN201910260988.8有效
发明人：姜盛晧;金苍乭;崔圭镐 -专利权人： 株式会社尤金科技
申请日： 2019-04-02 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本公开提供一种衬底处理系统，包含：第一处理管道和第二处理管道，在第一轴的方向上彼此间隔开以提供彼此独立的处理空间；衬底舟，所述衬底舟上多重地堆叠多个衬底，且所述衬底舟提供到第一处理管道和第二处理管道的处理空间中的每一个；以及第一舟升降单元和第二舟升降单元，分别提供到第一处理管道和第二处理管道以提升衬底舟，其中第一舟升降单元和第二舟升降单元中的每一个包含安置在第一处理管道与第二处理管道之间的空间中的升降轴构件。本公开的衬底处理系统能够在减小其占地面积的同时通过包含多个处理管道来增加衬底处理量。
衬底处理系统

[发明专利]衬底处理设备和衬底处理方法-CN201910226229.X有效
发明人：姜盛晧;金苍乭;韩星珉;金锡允;崔圣厦 -专利权人： 株式会社尤金科技
申请日： 2019-03-25 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开涉及一种衬底处理设备和衬底处理方法，且更确切地说涉及一种配置成在衬底上沉积均一薄膜的衬底处理设备和衬底处理方法。根据示范性实施例的衬底处理设备包含：反应管，具有形成于其中的内部空间；衬底舟，配置成装载多个载台中的多个衬底，且定位于内部空间中以分隔成在其中分别处理多个衬底的多个处理空间；工艺气体供应部件，配置成将工艺气体供应到多个处理空间；以及稀释气体供应部件，配置成供应用于稀释多个处理空间内的工艺气体的稀释气体。本公开可提供一种可使得分别沉积于衬底舟上所装载的多个衬底上的薄膜的厚度均一的衬底处理设备和衬底处理方法。
衬底处理设备方法

[发明专利]衬底转移装置以及具有衬底转移装置的衬底处理设备-CN202210371652.0在审
发明人：宋炳奎;高炯植;裵亨焕;玄俊鎭 -专利权人： 株式会社尤金科技
申请日： 2022-04-11 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本公开涉及一种用于对末端执行器的偏转进行感测的衬底转移装置以及具有衬底转移装置的衬底处理设备。所述衬底转移装置包括：末端执行器，在第一方向上延伸且对衬底进行支撑；末端执行器握手，与末端执行器的在第一方向上的一个侧连接；水平移动单元，与末端执行器握手连接且使末端执行器在第一方向上移动；以及偏转感测单元，包括光发射部件及光接收部件且对末端执行器的偏转进行感测，所述光发射部件及所述光接收部件分别设置在末端执行器的移动路径的两侧处。
衬底转移装置以及具有处理设备

[发明专利]移除薄膜中的杂质的方法以及衬底处理设备-CN202210058729.9在审
发明人：崔圭鎭;崔圭镐;黄相赫 -专利权人： 株式会社尤金科技
申请日： 2022-01-17 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及一种移除薄膜中的杂质的方法以及一种衬底处理设备。移除薄膜中的杂质的方法包括以下步骤：在工艺腔室中提供上面形成有薄膜的衬底；将与薄膜中所包含的杂质发生反应以及结合的第一气体供应到工艺腔室中；在停止第一气体的供应之后，通过对工艺腔室的内部进行减压来排出杂质与第一气体的结合产物；通过将不同于第一气体的第二气体供应到工艺腔室中来将薄膜固化；以及停止第二气体的供应且将剩余的第二气体从工艺腔室的内部排出。本发明有效地移除薄膜中所包含的杂质。
薄膜中的杂质方法以及衬底处理设备

[发明专利]用于处理衬底的系统-CN202111394603.0在审
发明人：金苍乭;南成珉 -专利权人： 株式会社尤金科技
申请日： 2021-11-23 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明提供一种用于处理衬底的系统。用于处理衬底的系统包含：处理管，配置成提供用于衬底的处理空间；以及排气模块，连接到处理管的排气口以将处理空间内的处理残留物排放到外部。排气模块包含：排气管，连接到排气口；密封壳体，配置成容纳排气管的至少一部分；以及局部排气部件，设置于密封壳体中以对所述密封壳体的内部进行排气。
用于处理衬底系统

[发明专利]分批型衬底处理设备-CN202111241951.4在审
发明人：赵政熙;金苍乭 -专利权人： 株式会社尤金科技
申请日： 2021-10-25 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种将在排放空间中分解的处理气体供应到处理空间中的分批型衬底处理设备，所述排放空间不同于处理空间。分批型衬底处理设备包含：反应管，配置成提供处理空间；等离子体形成部件，具有排放空间，所述排放空间通过分隔壁与处理空间区分开，且通过沿反应管的纵向方向延伸的多个电极在排放空间中产生等离子体。多个电极包含彼此间隔开的多个电源电极及设置于多个电源电极之间的多个接地电极。
分批衬底处理设备

[发明专利]用于处理衬底的装置-CN201810423887.3有效
发明人：姜盛晧;金苍乭;李相敦 -专利权人： 株式会社尤金科技
申请日： 2018-05-04 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本公开涉及一种用于处理衬底的装置，且更具体来说涉及一种能够允许衬底处理气体在衬底上顺畅地流动的用于处理衬底的装置。根据示例性实施例的用于处理衬底的装置可通过设置在内部反应管的一侧上的气体供应单元及设置在内部反应管的面对气体供应单元的另一侧上以一直延伸到内部反应管的容置空间中基座的容置区外部的排放管道来形成层流，且控制被供应到衬底上的衬底处理气体的流动。
用于处理衬底装置

[发明专利]批量型等离子体衬底处理设备-CN201810811958.7有效
发明人：赵政熙;李弘源;姜盛晧;金苍乭;崔圭镐 -专利权人： 株式会社尤金科技
申请日： 2018-07-23 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种根据示范性实施例的批量型等离子衬底处理设备，包含：第一管件，配置成提供在其中处理多个衬底的处理空间；衬底支撑部件，配置成在处理空间中的第一方向上负载多个衬底；多个气体供应部件，设置有用于供应处理衬底的过程所需的处理气体的供应端口；排气部件，配置成与第一管件连通且将处理空间内部的处理残余物排出到外部；以及等离子体反应部件，设置于第一管件外部，且配置成利用等离子体来分解由气体供应部件供应的处理气体并将分解的处理气体提供到处理空间。
批量等离子体衬底处理设备

[发明专利]批次型等离子体衬底处理装置-CN201811062609.6有效
发明人：姜盛晧;赵政熙;崔圭镐;李弘源;金苍乭 -专利权人： 株式会社尤金科技
申请日： 2018-09-12 - 公布日： 2021-03-16 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种将在单独的空间中分解的工艺气体供应到处理空间中的批次型衬底处理装置。所述衬底处理装置包括：管材；衬底支撑部件；气体供应管道；排气部件；以及等离子体反应部件，其中所述等离子体反应部件可包括多个电源供应电极部件及接地电极部件。
批次等离子体衬底处理装置

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