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- [发明专利]一种蚀刻液组合物及其应用-CN202310329923.0在审
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梅园;鄢艳华
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深圳新宙邦科技股份有限公司
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2023-03-30
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2023-08-04
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C23F1/10
- 为克服现有蚀刻液对于不同金属以及金属氧化物的适配性差以及对铟氧化物存在蚀刻锥角形态失控的问题，本发明提供了一种蚀刻液组合物，其特征在于，包括以下组分：氧化剂、氟离子源、金属螯合剂、蚀刻调节剂、pH调节剂和水；所述蚀刻调节剂包括碳杂环化合物及其盐和无机酸及其盐；所述蚀刻液组合物满足以下条件：当0.01％≤mA+mB≤0.5％时，0.33≤mB/mA≤3；关系式(1)当0.5％＜mA+mB≤1.5％时，2≤mB/mA≤4；关系式(2)。同时，本发明还公开了上述蚀刻液组合物的应用。本发明提供的蚀刻液组合物适用于不同金属以及金属氧化物的蚀刻，能够稳定控制金属氧化物的蚀刻结构，蚀刻形成的底部锥角结构完整。
- 一种蚀刻组合及其应用
- [发明专利]一种蚀刻液组合物及其制备方法-CN202011017325.2有效
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包成;鄢艳华;赵大成
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深圳新宙邦科技股份有限公司
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2020-09-24
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2023-04-18
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C23F1/18
- 本发明涉及蚀刻技术领域，提供一种蚀刻液组合物，按其总重量计包含具有以下配比的组分：10‑20％的双氧水、0.5‑4％的无机酸、1‑4％的同时具有胺基和醇基的化合物、1‑5％的pH调节剂、1‑5％的有机酸或者氨基酸、1‑5％的金属离子螯合剂、0.1‑2％的双氧水稳定剂，余量为水；且具有第一酸度和第二酸度。本发明的蚀刻液组合物保质期可达一个月，无蚀刻残留，不易产生蚀刻断线，能够有效蚀刻高世代面板的铜及铜合金薄膜，可用于面板显示器件中的透明导电薄膜的蚀刻。本发明的蚀刻液组合物可通过两种不同的配制方案进行配制，得到的蚀刻液组合物的保质期都可达一个月，但第一配制方案制得的蚀刻液组合物的线宽损失差明显优于第二配制方案制得的蚀刻液组合物。
- 一种蚀刻组合及其制备方法
- [发明专利]一种树脂除水方法及除水装置-CN202211594964.4在审
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程挥戈;鄢艳华;苏双峰;姜希松
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深圳新宙邦科技股份有限公司
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2022-12-13
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2023-03-14
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F26B11/14
- 本发明提供了一种树脂除水方法及装置。所述除水方法包括：(1)对有机溶剂原料罐中的有机溶剂原料加热，形成有机溶剂热蒸汽；(2)所述有机溶剂热蒸汽上升至装有树脂的树脂存储腔室，部分有机溶剂热蒸汽接触树脂后冷凝与树脂进行润洗交换，其他有机溶剂热蒸汽继续上升至冷凝单元形成冷凝液；(3)所述冷凝液部分回流至所述树脂存储腔室内，与树脂接触后流入所述有机溶剂原料罐中；同时部分冷凝液流出所述冷凝单元，被收集到密闭的容器中。本发明提供的树脂除水方法可以在使用少量有机溶剂的情况下有效去除树脂中的水分、降低有机溶剂对树脂的消耗，并且可避免树脂除水过程脱离液体浸润导致开裂及结构破坏的现象出现。
- 一种树脂方法装置
- [发明专利]一种光刻胶清洗剂及应用-CN202110924528.8在审
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苏双峰;周达文;鄢艳华;郭启祯
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深圳新宙邦科技股份有限公司
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2021-08-12
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2023-02-17
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G03F7/42
- 本发明涉及半导体制造中的清洗工艺领域，具体涉及一种光刻胶清洗剂及应用。本发明基于清洗剂的总重量，包括：碱0.01‑65％；共溶剂0.01‑30％；螯合剂0.01‑15％；增效剂，所述增效剂为同时含有‑OH以及‑CHO和/或C＝O官能团的化合物，所述增效剂的重量百分比为A，且满足5A≤10％；表面活性剂0.01‑5％以及使所述清洗剂总重量为100％的余量水。本发明所述的清洗剂，包含水、碱、共溶剂、螯合剂、增效剂、表面活性剂的组分,通过引入增效剂的方法，利用‑OH的保湿作用，可以抑制组分中水份的挥发，同时，利用‑CHO和/或C＝O的还原性，用以保护组分中的羟胺不被氧化，最终达到延长清洗剂使用寿命，或在维持原使用时间的基础上，提高使用温度，以达到更好清洗效果的目的，具有较好的市场前景。
- 一种光刻洗剂应用
- [发明专利]一种含铜金属膜用蚀刻液-CN202010896818.1有效
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鄢艳华;夏明鹏;赵大成
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深圳新宙邦科技股份有限公司
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2020-08-31
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2022-12-06
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C23F1/18
- 本发明属于蚀刻技术领域，特别是涉及一种含铜金属膜用蚀刻液。包括过氧化氢、有机酸、金属螯合剂、有机溶剂和水；所述有机溶剂为砜类和/或含羟基醚类。本发明实施例中以过氧化氢作为主要氧化剂，有机酸辅助所述过氧化氢，加速铜的溶解，添加所述金属螯合剂来抑制所述过氧化氢的分解，添加所述有机溶剂来抑制铜系络合物的析出，不仅可以保证在较低侧向蚀刻的情况无蚀刻残留，使得在温和的反应条件下对铜及合金膜高效且高精度地进行蚀刻，而且使用过程中无需引入其它添加剂作为补充液，且在较长的蚀刻时间(大于等于72hr)的情况下仍保证较长的蚀刻寿命，溶铜量大于等于9000ppm，无铜络合物析出。
- 一种金属膜蚀刻
- [实用新型]一种气体过滤装置-CN202220279345.5有效
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陈思宇;鄢艳华;赵大成;黄启悠
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深圳新宙邦科技股份有限公司
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2022-02-11
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2022-09-02
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B01D46/88
- 本实用新型属于气体过滤技术领域，具体为一种气体过滤装置，包括进气管、出气管、以及连接进气管和出气管的气路转换接头，其中：气路转换接头上可拆卸连接有过滤器，进气管、气路转换接头、过滤器和出气管依次连通设置；气路转换接头内设有第一隔板，过滤器内设有第二隔板，过滤器连接在气路转换接头上使第一隔板的上端面和第二隔板的下端面密封连接；过滤器内限定有过滤腔体，第二隔板将过滤腔体分隔为过滤腔和导流腔，过滤腔内设有气体滤芯；气体经进气管进入，流经过滤腔过滤后从导流腔进入出气管。本实用新型实现了过滤器的快速拆卸和滤芯的快速更换，节省了较多的人力、物力和时间。
- 一种气体过滤装置
- [发明专利]一种钼铝共用蚀刻液及蚀刻方法-CN201710913895.1有效
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鄢艳华;康威
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深圳新宙邦科技股份有限公司
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2017-09-30
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2021-02-12
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C23F1/20
- 为克服现有LTPS技术中对M3层和LS层蚀刻效率低、成本高的问题，本发明提供了一种钼铝共用蚀刻液，包括磷酸、硝酸、醋酸、添加剂和水；以所述蚀刻液的总重量为基准，所述磷酸的含量为55‑65wt％、硝酸的含量为3‑5wt％、醋酸的含量为12‑18wt％、添加剂的含量为2.5‑4.0wt％，余量为水；所述添加剂包括金属盐、无机铵盐和助剂；所述蚀刻液中，无机铵盐的含量为0.1‑0.3wt％；所述助剂选自4‑羟基苯磺酸、二乙基三胺五乙酸、植酸中的一种或多种。同时，本发明还提供了采用该蚀刻液进行蚀刻的方法。本发明提供的钼铝共用蚀刻液可同时用于对M3层和LS层进行蚀刻，简化了工艺，提高了效率，降低了成本。
- 一种共用蚀刻方法
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