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[实用新型]一种掩膜版晾干装置-CN202320037538.4有效
发明人： 鄢红军 -专利权人：深圳清溢光电股份有限公司
申请日： 2023-01-07 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： G03F1/82 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜版晾干装置，包括晾版架、PVC背板、PVC底板和层流罩，PVC背板、PVC底板和层流罩分别固定设置在晾版架上，PVC背板竖直布置，PVC底板水平布置，所述的PVC背板上等间距开设有若干排小孔，两排小孔间设置有PVC三角条；所述的PVC底板上等间距开设有若干排小孔，两排小孔间设置有PVC三角条；所述的层流罩位于PVC底板的正上方。本实用新型所提出的一种掩膜版晾干装置，有效解决了掩膜版晾干过程中白点，水印的问题，同时结构简单，成本低，易于实现，利于推广使用。
一种掩膜版晾干装置

[发明专利]一种大尺寸掩膜版清洗静电改善方法-CN202211694291.X在审
发明人： 鄢红军 -专利权人：深圳清溢光电股份有限公司
申请日： 2022-12-28 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明涉及掩膜版制造技术领域，尤其是一种大尺寸掩膜版清洗静电改善方法，包括制作清洗装置、一次清洗和二次清洗步骤，改变了现有的大尺寸掩膜版清洗静电的方法，对比现有单点喷射降低了喷射压力，缓解去离子水与掩膜版因剧烈摩擦而产生静电，同时加上距离变短，后续在去离子水内加入CO2降低去离子水电导率成为可能，这样根本性的改善热水对掩摸版产生的静电问题。
一种尺寸掩膜版清洗静电改善方法

[实用新型]一种光掩膜清洗装置-CN201821758937.5有效
发明人：熊启龙;鄢红军 -专利权人：深圳清溢光电股份有限公司
申请日： 2018-10-29 - 公布日： 2019-11-05 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光掩膜清洗装置，包括进液管，所述进液管为两个，在两个进液管的末端具有一段混合管，每一个所述进液管上安装气阀，所述混合管内部具有螺旋导流片，所述混合管末端安装液帘喷头。本实用新型是一种清洗光掩膜上有机污染物的改进装置，可以在更近的距离内完成工作，使清洗更加精确与彻底，并且不会产生液体飞溅的问题。
进液管光掩膜混合管本实用新型清洗装置清洗螺旋导流片有机污染物改进装置液帘喷头液体飞溅气阀

[发明专利]干法蚀刻制备6代LTPS用PSM-CN201811143659.7在审
发明人：熊启龙;戴海哲;谭超华;鄢红军 -专利权人：深圳清溢光电股份有限公司
申请日： 2018-09-29 - 公布日： 2018-12-21 - 主分类号： G03F1/80 文献下载
摘要：本发明公开了干法蚀刻制备6代LTPS用PSM，其制作方式包括CR系材料制作PSM和MOSI材料制作PSM；CR系材料制作PSM的制作方法包括以下步骤：①、光刻胶整形，使光刻胶截面角度变大；②、干法蚀刻正常区域Cr；③、蚀刻PS区域光刻胶；④、蚀刻掉适当地Glass厚度；⑤、干法蚀刻PS区域Cr；MOSI材料制作PSM的制作方法包括以下步骤：①、光刻胶整形，使光刻胶截面角度变大。本发明使用下置型方法，只需要对正常CR系材料分两个cell曝光即能制作出PSM，下置型方法不需要进行二次镀膜和涂胶，缩短了制作PSM的周期，使用MOSI材料也能实现制作出PSM，从而增加了PSM制作材料的广泛性，进一步降低了PSM的生产成本，提高了其市场竞争力，符合企业自身的利益。
干法蚀刻光刻胶蚀刻光刻胶截面制作整形下置制备市场竞争力二次镀膜正常区域制作材料涂胶生产成本曝光

[实用新型]一种旋覆与狭缝液帘配合的显影设备-CN201621043632.7有效
发明人：熊启龙;鄢红军 -专利权人：深圳清溢光电股份有限公司
申请日： 2016-09-07 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种旋覆与狭缝液帘配合的显影设备，包括可以装载掩膜版并且能够进行自身旋转的旋转载盘和两根具有朝自身长度方向延伸的狭缝出液臂，所述狭缝出液臂能够移动至所述旋转载盘的上方任意位置；所述狭缝出液臂朝向旋转载盘的一侧安装狭缝列阵，所述狭缝列阵由若干个狭缝组成。本装置应用于掩膜版制造中的显影工艺，可以保证显影液的出液压力、出液面积以及出液角度的一致性，在极短的时间内在大尺寸掩膜版上完全覆盖足够厚的显影液层，阻止显影液收缩，满足图形精度和精度均匀性的要求。
一种狭缝配合显影设备

[发明专利]一种铬蚀刻液及其制备方法-CN201610806796.9在审
发明人： 鄢红军;熊启龙 -专利权人：深圳清溢光电股份有限公司
申请日： 2016-09-07 - 公布日： 2017-02-22 - 主分类号： C23F1/26 文献下载
摘要：本发明公开了一种铬蚀刻液及其制备方法，所述铬蚀刻液包括：30～60份硝酸铈铵，200～300份高氯酸和4500～6000份去离子水；该铬蚀刻液的制备方法为：将30～60份硝酸铈铵，200～300份高氯酸和4500～6000份去离子水倒入搅拌釜内，调节不同的搅拌速度进行搅拌混合，待混合均匀后抽真空，静置一段时间后进行过滤。本发明的铬蚀刻液能够应用于同时进行垂直和侧向蚀刻的双向蚀刻工艺中，对蚀刻过程进行精细控制，提高铬膜图形精度及精度均匀性。
一种蚀刻及其制备方法

[发明专利]一种旋覆与狭缝液帘配合的显影方法-CN201610810265.7在审
发明人：熊启龙;鄢红军 -专利权人：深圳清溢光电股份有限公司
申请日： 2016-09-07 - 公布日： 2016-12-07 - 主分类号： G03F7/30 文献下载
摘要：本发明公开了一种旋覆与狭缝液帘配合的显影方法，是通过以下的步骤实现的：(1)将掩膜版装载至旋转载盘上，并将狭缝出液臂移动至所述掩膜版上方指定位置；(2)控制所述狭缝出液臂开始出显影液，即刻形成均匀的显影液帘并在足够短的时间内完全覆盖所述掩膜版以达到在掩膜版上覆盖足够厚的显影液层。本发明的显影方法采用独特配备的装置结构，可以保证出液压力、出液面积以及出液角度的一致性，在极短的时间内在大尺寸掩膜版上完全覆盖足够厚的显影液层，阻止显影液收缩，满足图形精度和精度均匀性的要求。
一种狭缝配合显影方法

[实用新型]一种掩膜版清洗夹具-CN200820212047.4有效
发明人： 鄢红军 -专利权人：清溢精密光电(深圳)有限公司
申请日： 2008-09-22 - 公布日： 2009-07-15 - 主分类号： B08B13/00 文献下载
摘要：本实用新型适用于清洗夹具技术领域，提供了一种掩膜版清洗夹具，包括一底板和一对或两对呈对角设置的夹块，所述底板的对角处分别对应设有可与所述夹块装配的凸块，所述夹块中间开设有一倾斜的导流槽，所述导流槽两侧各设有一上圆弧端和一下圆弧端，所述下圆弧端突出于上圆弧端之外形成一用于放置掩膜版的台阶。与现有技术中的掩膜版清洗夹具相比，本实用新型由于设置有倾斜的导流槽，且以夹块上、下圆弧端作为掩膜版之支承，可以使掩膜版与夹具之间的接触面非常小，有利于夹具四个角处的水顺利地甩出，不会残留而形成水渍。
一种掩膜版清洗夹具

[发明专利]一种刷子清洗方法及其清洗装置-CN200810216667.X有效
发明人： 鄢红军 -专利权人：清溢精密光电（深圳）有限公司
申请日： 2008-10-09 - 公布日： 2009-03-18 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本发明适用于清洗方法领域，提供了一种刷子清洗方法，该方法包括以下步骤：①向清洗槽中倒入50～100％的异丙醇清洗液，然后将刷子的刷毛完全浸没于异丙醇清洗液中，由电机带动刷子旋转，使用40KHZ的超声波清洗15～30分钟后将异丙醇清洗液放出；②再向清洗槽内倒入去离子水，使刷子的刷毛完全浸没于去离子水中，然后由电机带动刷子旋转，再使用40KHZ的超声波清洗10～20分钟。本发明还提供了该清洗方法所使用的清洗装置，其包括一支架、一清洗槽，所述清洗槽中还悬挂有一可充分舒展开所述刷子的刷毛的横杆。本发明所采用的刷子清洗方法可以彻底去除刷子上的杂物，且刷子使用周期可以达到2～3个月。
一种刷子清洗方法及其装置

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