专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种深盲孔均匀性刻蚀方法-CN202310813740.6有效
  • 雷程;梁庭;冀鹏飞;熊继军;王宇峰;郝亚峰 - 中北大学
  • 2023-07-05 - 2023-09-15 - B81C1/00
  • 本发明涉及半导体芯片制造技术领域,具体是一种深盲孔均匀性刻蚀方法。包括:S1对测试硅片进行盲孔刻蚀,计算刻蚀速率;S2使用S1中的刻蚀速率对硅片分阶段进行盲孔刻蚀;S3在每个刻蚀阶段结束后分区域进行深度测量,S4在第二个刻蚀阶段结束后,分区域进行深度测量,若某一区域深度达到目标深度时,使用刻蚀遮挡物将该区域盲孔遮挡;若某一区域深度未达到目标深度时,进入步骤S5;S5调节刻蚀参数,继续对未达到目标深度的区域进行盲孔刻蚀;S6重复步骤S4‑S5,当硅片上所有区域的盲孔深度都达到目标深度后,停止刻蚀。本发明能够有效控制深盲孔刻蚀的刻蚀深度,提高刻蚀均匀性,并且能够监测刻蚀工艺。
  • 一种深盲孔均匀刻蚀方法
  • [发明专利]自适应光纤曝光系统及光纤-平面芯片纵向异构集成方法-CN202310458670.7有效
  • 雷程;梁庭;熊继军;郝亚峰;李志强 - 中北大学
  • 2023-04-26 - 2023-07-21 - G03F7/20
  • 本发明提供了一种自适应光纤曝光系统及光纤‑平面芯片纵向异构集成方法,属于半导体器件制备的技术领域,该系统包括光源、三维微动平台、旋转式光纤夹具、光纤适配器和载物台;三维微动平台包括Y轴移动平台、X轴移动平台和旋转平台。本发明在解决了光纤与平面芯片高精度(微米级)耦合的同时,开发了自适应光纤光刻工艺及热调控过盈配合侧面键合工艺,显著提高了光纤与芯片的刚性耦合强度,规避了常用有机胶固定连接结构所带来的温度限制、化学和蠕变稳定性以及刚性匹配等问题。该方法对于光纤端面无要求,平面、凸面、斜面均可实现需求图形的定量刻蚀以实现光纤与平面芯片异构集成。
  • 自适应光纤曝光系统平面芯片纵向集成方法
  • [实用新型]一种矿山地区治理喷洒装置-CN202221771344.9有效
  • 丁茂;丁文强;刘文化;郝亚峰;崔东;王治国;樊大威;肖杰;付志峰 - 北京美亚园林绿化有限责任公司
  • 2022-07-11 - 2023-01-20 - A01B77/00
  • 本实用新型涉及矿山治理技术领域,具体公开了一种矿山地区治理喷洒装置,包括移动组件和喷洒组件;移动组件包括移动车架,喷洒组件包括安装在移动车架上的存储箱和高度调节架,高度调节架上设有升降台,升降台外侧连接有喷洒支架,喷洒支架上设有若干间隔布置的喷头,存储箱通过喷洒管路与各个喷头连接,喷洒管路上设有控制喷洒压力的控制泵总成。本实用新型提供的喷洒治理装置通过牵引载具牵引至相应的治理位置,存储箱内存储喷洒液体通过控制泵总成将液体喷出喷头实现高效喷洒,该方案减轻了工作人员的负担,提高了对矿山的喷洒效率,能够用较少的水流对矿山上较大的范围进行喷洒,从而节约水资源。
  • 一种矿山地区治理喷洒装置
  • [实用新型]一种可用于边坡的种植容器-CN202221770612.5有效
  • 丁茂;丁文强;刘文化;郝亚峰;崔东;王治国;樊大威;肖杰;付志峰 - 北京美亚园林绿化有限责任公司
  • 2022-07-11 - 2023-01-03 - A01G9/02
  • 本实用新型涉及植物种植容器技术领域,具体涉及一种可用于边坡的种植容器。本实用新型包括边框和多个正六边形槽体形成的网状结构,该正六边形槽体的其中一组对边垂直所述边框的长度方向,边框还设置有固定部和定位部,在边框外周布置有多个排水孔。每个正六边形槽体中的未垂直于边框的长度方向的四个侧边底部均设置有流通槽。还包括插设在种植本体上的种植筒,该种植筒为中空柱形。针对现在人工在边坡上播撒种子,种子易滑落至坡底造成种植未达预期效果的情况,本实用新型提供一种可用于边坡的种植容器,以减少种植后绿化不均匀的现象,提高植物对边坡的固定效果,同时加强容器内积水的疏通效果。
  • 一种用于种植容器

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