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[发明专利]一种对线宽量测机进行校准的方法-CN201810435468.1在审
发明人： 邹雨佑 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2018-05-09 - 公布日： 2018-12-18 - 主分类号： G01B15/00 文献下载
摘要：本发明实施例公开了一种对线宽量测机进行校准的方法，包括如下步骤：步骤S10，提供一测量样本，在测量样本上设置一用于指示出测量区域的指示标志；步骤S11，采用线宽量测机对测量样本的测量区域的图案中的关键尺寸进行测量，获得第一量测数据；步骤S12，将测量样本制作成扫描电子显微镜切片，其至少包括所述测量区域；步骤S13，采用扫描电子显微镜对扫描电子显微镜切片中的测量区域的图案中相应的关键尺寸进行测量，获得第二量测数据；步骤S14，以第二量测数据为基础，将第一量测数据与第二量测数据进行比较；步骤S15，根据比较结果，确定是否需要对线宽量测机进行校正，在确定需要对线宽量测机进行校正时，对线宽量测机进行校正。实施本发明实施例，可以提高对线宽量测机进行校准的准确性。
对线宽量量测数据测量测量样本扫描电子显微镜校准校正切片图案指示标志量测机线宽制作

[发明专利]一种检测氧化铟锡薄膜关键尺寸的装置-CN201810074337.5在审
发明人： 邹雨佑 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2018-01-25 - 公布日： 2018-07-27 - 主分类号： G01B11/00 文献下载
摘要：本发明提供一种检测氧化铟锡薄膜关键尺寸的装置，包括白光光源、中部棱镜、物镜和成像模块，还包括位于白光光源与中部棱镜之间并固定于所述白光光源上的滤波片，该滤波片用以将白光光源所发白光转变成预定颜色光后经中部棱镜及物镜照射在待测ITO薄膜上，使得待测ITO薄膜边界的灰阶度增强。实施本发明，能够在量测过程中改变白光照射来增强装置获取ITO薄膜边界的灰阶度，从而提高ITO薄膜抓边几率。
白光光源棱镜氧化铟锡薄膜灰阶度滤波片种检测物镜照射预定颜色光成像模块增强装置发白光白光量测

[发明专利]测量套刻精度的方法及装置、光刻方法-CN201410648626.3有效
发明人：徐利辉;朱本均;邹雨佑;李朝阳 -专利权人：四川飞阳科技有限公司
申请日： 2014-11-14 - 公布日： 2015-01-28 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：本发明公开了一种测量套刻精度的方法及装置、光刻方法，首先采集硅片的第一套刻测量区域的第一图像，第一套刻测量区域包括第n标记和第n+1标记，n为大于0的整数；而后显示所述第一图像，并将第一图像放大至预设倍数；最后根据第n标记与第n+1标记之间的预设关系，测量放大后的第一图像中第n标记与第n+1标记之间的第一偏移量和第一偏转角度。由上述内容可知，本发明提供的方案相较于现有的采用专门测量overlay的套刻测量仪来说，本发明提供的方案不仅极大的降低了成本，节省了套刻测量仪的占用空间资源，而且实现测量的过程简单，易于控制。
测量精度方法装置光刻