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[发明专利]一种PEALED镀膜系统-CN202310680894.2在审
发明人：田玉峰;魏澜;赵茂生 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2023-06-09 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C23C16/50 文献下载
摘要：本发明提供了一种PEALED镀膜系统，涉及镀膜设备技术领域，包括进气组件，包括：工艺腔组件、升降组件以及过滤组件；其中，所述工艺腔组件包括等离子发生组件以及与所述等离子发生组件相连接的反应腔组件，所述反应腔组件包括至少一个反应腔体，所述反应腔体通过传输通道连通至所述等离子腔；所述进气组件适于将反应气体分别导入所述等离子腔体以及所述反应腔体内；所述过滤组件连接所述反应腔体，且配置为能将反应腔体内的气体抽离并在所述过滤组件内过滤。通过本发明方案，可以提高镀膜系统的镀膜效率以及使整个结构更加紧凑。
一种 pealed 镀膜系统

[发明专利]一种连续式ALD镀膜设备的物料移动结构-CN202210298279.0有效
发明人：田玉峰;赵茂生 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-03-25 - 公布日： 2023-09-08 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供了一种连续式ALD镀膜设备的物料移动结构，涉及原子层沉积技术领域。其中，这种物料移动结构包含箱体组件和驱动组件。箱体组件包括依次连接的加热腔体、连接腔体和冷却腔体。驱动组件包括两个驱动构件。两个驱动构件分别配置于加热腔体和冷却腔体。配置于加热腔体的驱动构件被构造为：能够沿着预定轨迹来回移动，以将加热腔室外的工件移动至加热腔室内，以及用以将加热腔室内的工件移动至镀膜腔室内。配置于冷却腔体的驱动构件被构造为：能够沿着预定轨迹来回移动，以将镀膜腔室内的工件移动至冷却腔室内，以及用以将冷却腔室内的工件移动到冷却腔室外；所述箱体组件还包括配置于所述连接腔体的第一检修门。简化镀膜腔体的结构便于清洗。
一种连续 ald 镀膜设备物料移动结构

[实用新型]一种线圈内置的等离子体发生装置-CN202320254366.6有效
发明人：明自强;赵茂生;王韫宇;田玉峰 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2023-02-20 - 公布日： 2023-09-05 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种线圈内置的等离子体发生装置，涉及等离子体发生装置技术领域，包括反应室、线圈以及用以与所述线圈连接的电源，其中，所述线圈置于所述反应室内，其外周套置有陶瓷保护罩，所述反应室的侧壁沿长度方向阵列设置有多个进气口，各所述进气口均与气体分流器连通，并通过所述气体分流器调节进气比例；所述线圈环绕所述进气口布设，以使源气体均匀分布在线圈周围；所述电源位于所述反应室外侧，通过导线与所述线圈连接；所述反应室在所述进气口相对侧设有匀流板，所述匀流板上均匀设置有多个出口。从而解决现有等离子体发生装置无法调节源气体分布，导致等离子体分布不均，影响后续加工效果的问题。
一种线圈内置等离子体发生装置

[实用新型]一种可多级调节源气体的等离子体发生装置-CN202320254489.X有效
发明人：明自强;赵茂生;王韫宇 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2023-02-20 - 公布日： 2023-09-01 - 主分类号： H05H1/24 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种可多级调节源气体的等离子体发生装置，涉及等离子体发生装置技术领域，包括反应室、线圈以及与线圈相电连接的电源，其中，线圈置于反应室内，反应室的侧壁上设有第一级进气组和第二级进气组，第一级进气组包括设于线圈外周的一号进气口和二号进气口，第二级进气组包括设于线圈内周的三号进气口、四号进气口和五号进气口，第一级进气组与第一级气体分流器连接，第二级进气组与第二级气体分流器连接，且第二级气体分流器的进气端与第一级气体分流器的其中一个出气口连通，通过调节第一级气体分流器和第二级气体分流器以使线圈周侧的源气体流速均匀，从而解决现有技术中源气体流速不均，且容易从出口喷出的问题。
一种多级调节气体等离子体发生装置

[发明专利]原子层沉积设备和原子层沉积设备的定温定量输气装置-CN202211038702.X在审
发明人： 赵茂生;雷志佳 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-08-29 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供了原子层沉积设备和原子层沉积设备的定温定量输气装置，涉及原子层沉积技术领域。定温定量输气装置包含第一输气组件、至少一个第二输气组件、第一控温组件、第二控温组件。包括用以连通反应腔的出气管。第二输气组件包括定量腔室、第一进气管、用以连通定量腔室和出气管的第一阀门，以及用以连通第一进气管和定量腔室的第二阀门。第一进气管用以连通源瓶。第一控温组件构造为能够套置于源瓶，用以控制源瓶的温度。第二控温组件，其构造为配置于所述出气管和所述第二输气组件，用以控制所述出气管和所述第二输气组件内的反应源的温度。定温定量输气装置能够定量定温的向反应腔中输送反应气体，提高了原子层沉积的质量。
原子沉积设备定温定量装置

[实用新型]一种等离子体增强原子层沉积成膜装置-CN202320254507.4有效
发明人：明自强;赵茂生;王韫宇;田玉峰 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2023-02-20 - 公布日： 2023-06-13 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种等离子体增强原子层沉积成膜装置，涉及等离子体发生装置技术领域，包括真空腔室、反应腔室以及工艺腔室，工艺腔室置于真空腔室内；反应腔室内置有线圈，该反应腔室的侧壁上设有多个进气口，且各进气口通过气体分流器控制进气比例；反应腔室相对所述侧壁的另一端为敞口，该敞口置于真空腔室内，并与工艺腔室连通；工艺腔室设有与反应腔室连接的进气端以及与真空泵连通的排气端，以使反应腔室内的等离子体源流向工艺腔室；工艺腔室内置有支架，所述支架上设有若干个用以放置待加工基片的放置层，各放置层的布设方向与等离子体源的流动方向平行，以确保各层基片与等离子体源均匀接触，从而提高各基片间的均一性以及工艺稳定性。
一种等离子体增强原子沉积装置

[发明专利]一种用于批次式成膜的原子层沉积装置-CN202310135684.5在审
发明人：明自强;赵茂生;王韫宇;田玉峰 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2023-02-20 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于批次式成膜的原子层沉积装置，涉及等离子体发生装置技术领域，包括真空腔室、反应腔室以及工艺腔室，工艺腔室置于真空腔室内；反应腔室内置有线圈，该反应腔室的侧壁上设有多个进气口，且各进气口通过气体分流器控制进气比例；反应腔室相对所述侧壁的另一端为敞口，该敞口置于真空腔室内，并与工艺腔室连通；工艺腔室设有与反应腔室连接的进气端以及与真空泵连通的排气端，以使反应腔室内的等离子体源流向工艺腔室；工艺腔室内置有支架，所述支架上设有若干个用以放置待加工基片的放置层，各放置层的布设方向与等离子体源的流动方向平行，以确保各层基片与等离子体源均匀接触，从而提高各基片间的均一性以及工艺稳定性。
一种用于批次式成膜原子沉积装置

[发明专利]一种含有添加剂的水松纸-CN201811164030.0有效
发明人： 赵茂生;徐祥祥;朱清 -专利权人：南京万新薄膜制品有限公司
申请日： 2018-10-04 - 公布日： 2023-04-25 - 主分类号： D21H17/68 文献下载
摘要：本发明提供的一种含有添加剂的水松纸，包括原纸层以及设于原纸层外表面的涂布层；所述原纸层至少包括：松木、桉木、竹子、甲基三甲氧基硅烷、二氧化硅、硅藻土、白土、沸石粉、硅酸钙、麦饭石、膨润土、薄荷、艾叶、海藻胶、琼脂。本发明还提供了上述含有添加剂的水松纸用涂料的制备方法。该水松纸主要采用天然材料制得，阻燃性好，形态好，不会润湿掉纸，加入桉木、竹子、薄荷、艾叶等不仅具有抗菌作用，而且可改善口气，同时涂覆环保涂料，涂料采用壳聚糖包覆颜料，一方面保持了颜料的颜色，另一方面减少了颜料直接和人体接触，对人体无伤害。
一种含有添加剂水松

[实用新型]一种原子层沉积设备和原子层沉积设备的隔热门装置-CN202222279828.8有效
发明人： 赵茂生;雷志佳 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-08-29 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种原子层沉积设备和原子层沉积设备的隔热门装置，涉及原子层沉积技术领域。其中，这种隔热门装置，其包含连接杆、密封板和隔热板。连接杆构造为能够以可滑动方式配置于原子层沉积设备的主体。密封板或隔热板配置于连接杆。密封板构造为能够密封原子层沉积设备的反应腔。隔热板配置于密封板，且隔热板和密封板之间设置有能够供气体流过的第一间隙。通过多层门结构，并在层与层之间设置供气体流过的间隙，从而有效的避免反应腔的热量传递到门表面，避免了用户在镀膜过程中接触门表面被烫伤的情况。
一种原子沉积设备隔热装置

[发明专利]一种桌面级原子层沉积设备-CN202211038673.7在审
发明人： 赵茂生;雷志佳 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-08-29 - 公布日： 2023-02-03 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供了一种桌面级原子层沉积设备，涉及原子层沉积技术领域。这种桌面级原子层沉积设备，其包含壳体、反应组件、输气组件、气路控温组件和前驱体控温组件。设置有安装腔的壳体。配置于安装腔反应组件。其设置有反应腔。配置于反应组件腔体控温组件。设置有用以连通反应腔的出气口、用以连通清洗气体的第二进气口和用以连通反应源的第一进气口的输气组件。配置于输气组件气路控温组件。能够配置于反应源的前驱体控温组件。输气组件和反应组件平齐设置，且配置于靠近安装腔的上壁的位置。第一进气口的轴线垂直设置，且配置于靠近安装腔的侧壁的位置，用以连通位于靠近安装腔的侧壁处的反应源。充分利用了安装腔的空间，大大缩减了整体的体积。
一种桌面原子沉积设备

[实用新型]一种用于包覆粉体物料的样品桶-CN202222225974.2有效
发明人：赖海斌;赵茂生 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-08-24 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： B65D25/02 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种用于包覆粉体物料的样品桶，包括进气端盖、桶体、出气端盖，其中所述出气端盖和进气端盖安装在所述桶体的两端，还包括：搅拌桨；所述进气端盖适于通过球头柱塞连接至旋转轴，其位于桶体的一侧上设置有凸起的安装体，且所述安装体的侧边还设置有凸起的圆柱体；所述搅拌桨包括安装部和与所述安装部垂直的搅拌体，所述安装部套接在所述安装体的安装槽上；所述搅拌桨配置为能在所述进气端盖旋转时被所述圆柱体带动旋转至最高点位置。通过本方案，使得拆卸更加方便，且可以提高粉体包覆的均匀性。
一种用于包覆粉体物料样品

[实用新型]极片架样品桶、极片放置架与极片架样品桶组合-CN202222249348.7有效
发明人：赖海斌;赵茂生 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-08-25 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： B25H3/00 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种极片架样品桶，包括进气端盖、桶体，所述进气端盖设置在所述桶体的一端，进气端盖上设置有适于连接旋转轴的安装槽，所述安装槽与所述桶体连通，所述桶体内适于放置极片架；还包括：分流块，所述分流块设置在所述进气端盖与所述桶体之间，所述分流块设置有多个通孔，以能够将经过的前驱体气体打散。本实用新型还提供了一种极片放置架与极片架样品桶组合，通过本实用新型方案，使得极片在包覆时更加均匀。
极片架样品放置组合

[实用新型]一种原子层沉积设备和原子层沉积设备的源瓶加热装置-CN202222279843.2有效
发明人： 赵茂生;雷志佳 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-08-29 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种原子层沉积设备和原子层沉积设备的源瓶加热装置，涉及原子层沉积技术领域。其中，这种源瓶加热装置包含接头加热组件和瓶身加热组件。接头加热组件包括第一包裹件和嵌至于第一包裹件的第一加热件。第一包裹件设置有包裹通孔和第一取放开口。第一取放开口设置于第一包裹件的侧面，且沿着第一包裹件的轴线方向延伸，以使第一包裹件的截面形成C形结构。瓶身加热组件包括第二包裹件和嵌至于第二包裹件的第二加热件。第二包裹件设置有用以容纳源瓶的包裹腔和连通于包裹腔第一连接孔。第一连接孔设置于第二包裹腔的一端，用以供源瓶穿过。第一包裹件朝向第二包裹件的一端和/或第二包裹件朝向第一包裹件的一端设置有第一避让槽。
一种原子沉积设备加热装置

[实用新型]一种原子层沉积设备和原子层沉积设备的定量输气装置-CN202222279873.3有效
发明人： 赵茂生;雷志佳 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-08-29 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种原子层沉积设备和原子层沉积设备的定量输气装置，涉及原子层沉积技术领域。其中，这种定量输气装置，包含用以连通原子层沉积设备的工艺腔室的出气管、分别出气管的至少两个定量进气组件，以及接合于出气管的不定量进气组件。定量进气组件包括定量腔室、用以连通源瓶的第一进气管、用以连通定量腔室和第一出气管的第一阀门，以及用以连通出气管和第一进气管的第二阀门。不定量进气组件包括用以连接气源的第二进气管，以及用以连通出气管和第二进气管的第三阀门。通过定量输气装置，能够有效的控制每次向反应腔室输送的气体的体积，提升工艺的稳定性和沉积层的一致性，减少对阀门反映速度、稳定性的依赖，大大优化了工艺。
一种原子沉积设备定量装置

[实用新型]一种原子层沉积设备和原子层沉积设备的管路均热装置-CN202222279888.X有效
发明人： 赵茂生;雷志佳 -专利权人：厦门韫茂科技有限公司
申请日： 2022-08-29 - 公布日： 2023-01-17 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种原子层沉积设备和原子层沉积设备的管路均热装置，涉及原子层沉积技术领域。其中，这种管路均热装置包含管路组件、第一加热组件和第二加热组件。管路组件，包括用以连通反应腔室的出气管和用以连通气源的至少两根进气管。至少两根进气管分别连通于出气管。第一加热组件，包括第一加热座和嵌至于第一加热座的第一加热件。第二加热组件，配置于第一加热座，用以将出气管和进气管固定于第一加热座。第一加热座和/或第二加热组件设置有包裹槽。包裹槽用以包裹至少部分出气管和至少部分进气管。通过将所有的出气管和进气管都固定到第一加热座上采用一体式加热，保证了同一个管路的上下游，以及不同管路之间的温度相同且稳定。
一种原子沉积设备管路均热装置

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